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朱清锋

作品数:4 被引量:11H指数:2
供职机构:广东工业大学材料与能源学院更多>>
发文基金:国家教育部博士点基金国家自然科学基金广东省自然科学基金更多>>
相关领域:一般工业技术理学电子电信更多>>

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇一般工业技术
  • 1篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 2篇等离子体
  • 2篇旋涂
  • 2篇旋涂法
  • 2篇气相
  • 2篇气相沉积
  • 2篇气相沉积法
  • 2篇化学气相
  • 2篇化学气相沉积
  • 2篇化学气相沉积...
  • 1篇电性能
  • 1篇电性能研究
  • 1篇多孔
  • 1篇多孔氧化铝
  • 1篇多孔氧化铝模...
  • 1篇氧化铝模板
  • 1篇射频等离子体
  • 1篇热丝
  • 1篇光学
  • 1篇薄膜光学
  • 1篇CVD法

机构

  • 4篇广东工业大学

作者

  • 4篇朱清锋
  • 3篇陈易明
  • 3篇张海燕
  • 2篇陈列春
  • 2篇杨大勇
  • 2篇陈雨婷
  • 1篇李明华
  • 1篇魏爱香
  • 1篇王力

传媒

  • 1篇光学学报
  • 1篇红外与毫米波...
  • 1篇人工晶体学报

年份

  • 3篇2008
  • 1篇2006
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
用热CVD法制备片状碳纳米材料的研究被引量:1
2006年
采用阳极氧化法在草酸溶液中制备了孔径约为100nm的多孔氧化铝(AAO)模板。利用此模板在不负载任何催化剂的条件下,利用热CVD装置制备出片状碳纳米薄膜,并对此片状薄膜做了SEM,TEM显微观察和EDS能谱分析,对其形成条件和生长机理等方面做了探讨分析,为在氧化铝模板上生长包括管状、片状、棒状等形状的碳纳米材料提供了一定的借鉴意义。
李明华张海燕魏爱香陈易明王力朱清锋
关键词:多孔氧化铝模板
定向碳纳米管阵列膜的制备及其电性能研究
本文采用热丝和射频等离子体复合化学气相沉积(HF-RF-PECVD)技术,以CH4为反应气体,在不同的催化剂衬底上生长定向碳纳米管阵列膜,对定向碳纳米管的生长参数如催化剂种类、衬底温度、气体流量比和气压、沉积时间和射频功...
朱清锋
关键词:等离子体催化剂电性能
文献传递
热丝和射频等离子体化学气相沉积法制备定向碳纳米管薄膜被引量:6
2008年
采用热丝和射频等离子体复合化学气相沉积设备(PKHF-CVD),以CH4、H2和N2为反应气体,在较低衬底温度下(500℃),用简单的催化剂制备方法——旋涂法在硅片上涂覆Ni(NO3)2溶液,经热处理及H2还原后的Ni颗粒为催化剂,在硅衬底上制备出了垂直于硅片且定向生长的碳纳米管薄膜。扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM)结果显示,1mol/l的硝酸镍溶液旋涂硅片所得催化剂制得的碳纳米管管径为30-50nm,长度超过4μm,定向性好,并用拉曼光谱(Raman)对不同摩尔浓度Ni(NO3)2溶液条件下制备的碳纳米管薄膜样品进行了表征。
朱清锋张海燕陈易明陈雨婷陈列春杨大勇
关键词:薄膜光学旋涂法
取向碳纳米管阵列的等离子体复合化学气相沉积法制备被引量:4
2008年
采用热丝和射频等离子体复合化学气相沉积技术,用旋涂法制备负载催化剂的硅片衬底,以CH4为碳源制备出取向碳纳米管阵列薄膜.利用扫描电子显微镜对不同还原时间和不同N i(NO3)2浓度下制备的催化剂基片和取向碳纳米管阵列薄膜进行形貌分析,用透射电子显微镜和拉曼光谱对碳纳米管进行表征.结果表明,在H2-N2气氛中热还原后硅片上的催化剂粒径均匀,排列致密,利用该法制备的碳纳米管为竹节型多壁碳纳米管,管径分布均匀,管长约5μm.碳纳米管阵列薄膜垂直于硅片衬底生长,生长排列均匀致密,具有良好的取向性.
陈易明张海燕朱清锋陈雨婷陈列春杨大勇
关键词:旋涂法
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