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李本德

作品数:2 被引量:0H指数:0
供职机构:天津大学更多>>
相关领域:电气工程电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇中文科技成果

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇电气工程

主题

  • 2篇电阻
  • 2篇电阻器
  • 2篇溅射
  • 2篇固定电阻器
  • 2篇高稳定
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 1篇金属膜电阻器
  • 1篇靶材
  • 1篇膜电阻器

机构

  • 2篇天津大学

作者

  • 2篇张之圣
  • 2篇刘志刚
  • 2篇李海燕
  • 2篇王家生
  • 2篇李晓云
  • 2篇胡明
  • 2篇祖光裕
  • 2篇李本德

年份

  • 1篇2009
  • 1篇2004
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
高稳定薄膜固定电阻器磁控溅射中高阻靶材
张之圣祖光裕李本德胡明王家生刘志刚李晓云李海燕
靶材光滑平整无缺陷,尺寸382×128×14mm3;薄膜电阻器的阻值范围100Ω-30KΩ(未刻槽);TCR<28ppm/℃;高温储存实验,155℃,1000h,△R≤0.4203%R;寿命试验△R≤0.1706%R;耐...
关键词:
关键词:固定电阻器磁控溅射
高稳定的薄膜固定电阻器磁控溅射中高阻靶材
张之圣祖光裕李本德胡明王家生刘志刚李晓云李海燕
靶材光滑平整无缺陷,尺寸382×128×14mm^3;金属膜电阻器的阻值范围100Ω-30kΩ,TCR小于28ppm/℃,高温储存实验,155℃,1000h,ΔR≤0.4203%R,寿命试验ΔR≤0.1706%R,耐湿实...
关键词:
关键词:金属膜电阻器磁控溅射靶材
共1页<1>
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