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许立军

作品数:4 被引量:9H指数:2
供职机构:西安电子科技大学微电子学院宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室更多>>
发文基金:中央高校基本科研业务费专项资金陕西省自然科学基金国家部委资助项目更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 4篇中文期刊文章

领域

  • 4篇电子电信

主题

  • 3篇势垒
  • 2篇氧化物半导体
  • 2篇肖特基
  • 2篇肖特基势垒
  • 2篇金属氧化物半...
  • 2篇半导体
  • 2篇SOI
  • 2篇MOSFET
  • 2篇场效应
  • 1篇电流模型
  • 1篇应变硅
  • 1篇栅介质
  • 1篇阈值电压
  • 1篇阈值电压模型
  • 1篇金属氧化物半...
  • 1篇金属氧化物半...
  • 1篇晶体管
  • 1篇基源
  • 1篇集电结
  • 1篇集电区

机构

  • 4篇西安电子科技...
  • 2篇北京精密机电...

作者

  • 4篇张鹤鸣
  • 4篇许立军
  • 2篇杨晋勇
  • 1篇马建立
  • 1篇胡辉勇
  • 1篇徐小波

传媒

  • 2篇物理学报
  • 2篇四川大学学报...

年份

  • 2篇2017
  • 1篇2013
  • 1篇2011
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
SOI部分耗尽SiGeHBT集电结空间电荷区模型被引量:3
2011年
SOI上的薄膜异质SiGe晶体管通过采用'折叠'集电极,已成功实现SOI上CMOS与HBT的兼容.本文结合SOI薄膜上的纵向SiGeHBT结构模型,提出了包含纵向、横向欧姆电阻和耗尽电容的'部分耗尽(partially depleted)晶体管'集电区简化电路模型.基于器件物理及实际考虑,系统建立了外延集电层电场、电势、耗尽宽度模型,并根据该模型对不同器件结构参数进行分析.结果表明,空间电荷区表现为本征集电结耗尽与MOS电容耗尽,空间电荷区宽度随集电结掺杂浓度减小而增大,随集电结反偏电压提高而增大,随衬底电压减小而增大,直到集电区纵向全部耗尽,然后开始横向扩展.该模型为新一代基于SOI的SiGe毫米波BiCMOS电路设计和仿真提供了重要参考.
徐小波张鹤鸣胡辉勇许立军马建立
关键词:SOISIGEHBT集电区
高k栅介质SOI应变硅肖特基源漏MOSFET漏致势垒降低效应研究被引量:2
2017年
高k栅介质SOI应变硅肖特基源漏MOSFET结合了应变硅工程、高k栅介质、SOI结构和肖特基源漏四者的优点,是一种实现小尺寸MOSFET的潜力器件.通过求解二维泊松方程建立了该结构的阈值电压模型,模型中考虑了镜像力势垒和小尺寸量子化效应对源漏极的电子本征肖特基势垒高度的影响,在阈值电压模型基础上获得了漏致势垒降低模型.从文献中提取漏致势垒降低的实验数据与模型进行对比,验证了其正确性,随后在此基础上讨论分析了漏致势垒降低和各项参数的变化关系.结果表明,漏致势垒降低随应变硅层厚度的变厚、沟道掺杂浓度的提高和锗组分的增大而增大,随沟道长度的变长、栅介质介电常数的增大、电子本征肖特基势垒高度的提高和漏源电压的增大而减小.适当调节模型参数,该结构可很好的抑制漏致势垒降低效应,对高k栅介质SOI应变硅肖特基源漏MOSFET器件以及电路设计具有一定的参考价值.
许立军张鹤鸣杨晋勇
关键词:MOSFET应变硅高K栅介质SOI
环栅肖特基势垒MOSFET解析电流模型被引量:1
2017年
肖特基势垒金属氧化物半导体场效应晶体管(Metal-Oxide-Semiconductor FieldEffect Transistor,MOSFET)的电流一般需要通过载流子的费米狄拉克分布对能量积分来计算或自洽迭代数值计算,为降低其复杂性,本文采用若干拟合参数,考虑镜像力势垒降低效应、偶极子势垒降低效应和小尺寸下量子化效应对肖特基势垒高度的影响,给出了环栅肖特基势垒MOSFET一种新的解析电流模型。所提出的电流模型与文献报道实验数据符合较好,验证了模型的正确性,对环栅肖特基势垒MOSFET器件以及电路设计提供了一定的参考价值.
许立军张鹤鸣杨晋勇
关键词:金属氧化物半导体场效应晶体管肖特基势垒
环栅肖特基势垒金属氧化物半导体场效应管漏致势垒降低效应研究被引量:4
2013年
结合环栅肖特基势垒金属氧化物半导体场效应管(MOSFET)结构,通过求解圆柱坐标系下的二维泊松方程得到了表面势分布,并据此建立了适用于低漏电压下的环栅肖特基势垒NMOSFET阈值电压模型.根据计算结果,分析了漏电压、沟道半径和沟道长度对阈值电压和漏致势垒降低的影响,对环栅肖特基势垒MOSFET器件以及电路设计具有一定的参考价值.
许立军张鹤鸣
关键词:阈值电压模型
共1页<1>
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