您的位置: 专家智库 > >

陆大成

作品数:77 被引量:127H指数:6
供职机构:中国科学院半导体研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家高技术研究发展计划国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域:电子电信理学电气工程建筑科学更多>>

文献类型

  • 47篇期刊文章
  • 16篇专利
  • 13篇会议论文
  • 1篇科技成果

领域

  • 43篇电子电信
  • 14篇理学
  • 5篇电气工程
  • 1篇化学工程
  • 1篇建筑科学

主题

  • 18篇氮化镓
  • 18篇MOVPE
  • 14篇GAN
  • 13篇发光
  • 13篇衬底
  • 10篇半导体
  • 10篇MOVPE生...
  • 9篇氮化
  • 9篇MOCVD
  • 8篇外延层
  • 8篇化物
  • 7篇氮化物
  • 7篇二极管
  • 6篇英文
  • 6篇发光二极管
  • 6篇GAINP
  • 6篇MOCVD生...
  • 5篇缓冲层
  • 5篇光致
  • 5篇光致发光

机构

  • 76篇中国科学院
  • 3篇云南师范大学
  • 1篇清华大学

作者

  • 77篇陆大成
  • 54篇刘祥林
  • 49篇王晓晖
  • 34篇汪度
  • 27篇王占国
  • 25篇袁海荣
  • 24篇韩培德
  • 19篇陈振
  • 12篇董建荣
  • 8篇陆沅
  • 8篇段树坤
  • 7篇李昱峰
  • 7篇汪连山
  • 5篇林兰英
  • 5篇黎大兵
  • 5篇朱勤生
  • 3篇姚文卿
  • 3篇向贤碧
  • 3篇孙殿照
  • 2篇陈庭金

传媒

  • 18篇Journa...
  • 10篇发光学报
  • 6篇高技术通讯
  • 3篇光子学报
  • 2篇太阳能学报
  • 2篇低温与特气
  • 2篇2000年中...
  • 2篇第四届全国固...
  • 1篇物理学报
  • 1篇稀有金属
  • 1篇中国科学(E...
  • 1篇光散射学报
  • 1篇液晶与显示
  • 1篇功能材料与器...
  • 1篇第七届全国固...
  • 1篇第十一届全国...
  • 1篇中国有色金属...

年份

  • 1篇2010
  • 1篇2007
  • 2篇2006
  • 2篇2005
  • 4篇2004
  • 8篇2003
  • 6篇2002
  • 13篇2001
  • 11篇2000
  • 4篇1999
  • 2篇1998
  • 2篇1997
  • 11篇1996
  • 1篇1995
  • 3篇1994
  • 1篇1993
  • 2篇1992
  • 1篇1990
  • 1篇1989
  • 1篇1985
77 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
P型GaN和AlGaN外延材料的制备被引量:1
2000年
研究了MOVPE方法外延P型GaN和Al0 13Ga0 87N的生长工艺 ,包括掺杂剂量和热退火条件 ,对材料电学性质的影响。得到了性能优良的P型材料 ,并研制了InGaN/AlGaN双异质结蓝光发光二极管。
刘祥林王成新韩培德陆大成王晓晖汪度王良臣
关键词:P型GANALGAN双异质结蓝光发光二极管
铟镓氮薄膜的光电特性被引量:5
2002年
用金属有机物气相外延设备 ,在氮化镓 /蓝宝石复合衬底上快速外延生长铟镓氮薄膜 ,并对其进行了 X射线三晶衍射、光致发光、反射光谱及霍尔测量等实验测试 .确定该薄膜为单晶 ,其中 In组分可以从 0增加到 0 .2 6 ;在光致激发下发光光谱为单峰 ,且峰值波长在 36 0~ 5 5 5 nm范围内可调 ;其发光机理被证实为膜内载流子经带隙跃迁而直接复合 ;并具有很高的电子浓度 .但 In Ga N薄膜的结晶质量却随着
韩培德刘祥林王晓晖袁海荣陈振李昱峰陆沅汪度陆大成王占国
关键词:MOVPE光电特性
高纯氮化镓外延材料的制备被引量:1
1998年
用MOVPE方法在蓝宝石衬底上生长了高纯氮化镓(GaN)外延材料。未掺杂GaN显n型,室温下(300K)背景电子浓度为1.6×1017cm-3,电子迁移率为360cm2/V.s。在195K附近电子迁移率达到峰值,为490cm2/V.s。发现了该材料中存在深施主能级,其离化能约为38meV。
刘祥林王晓晖汪度汪连山王成新韩培德陆大成林兰英
关键词:高纯MOVPE氮化镓
MOVPE生长GaN的准热大学模型及其相图被引量:4
1997年
本文基于准热力学平衡模型对以TMGa和NH3为源的MOVPE生长GaN的过程进行了分析,并在此基础上计算了MOVPE生长GaN的相图.GaN的MOVPE相图由GaN(s)单凝聚相区、GaN(s)+Ga(1)双凝聚相区、表面会形成Ga滴和不会形成Ga滴的两个腐蚀区构成.本文着重讨论了生长温度、反应室压力、载气组分、NH3分解率和V/Ⅲ比对GaN单凝聚相区边界的影响.
段树坤陆大成
关键词:MOVPE生长氮化镓相图
MOCVD和GSMBE生长Ga_(0.5)In_(0.5)P外延层中有序结构的研究被引量:2
1996年
用MOCVD在(100)、GSMBE在(100)和(111)BGaAs上生长了GaInP外延层.PL测试表明,(100)衬底上GaInPPL峰的能量比计算的带隙分别小43(GSMBE生长)和104meV(MOCVD生长).用Kurtz等人的模型对MOCVD和GSMBE生长的GaInP中有序度的不同进行了解释.并讨论了衬底晶向对GaInP中有序程度的影响.
董建荣李晓兵孙殿照陆大成李建平孔梅影王占国
关键词:MOCVDGSMBE
自钝化非平面结三族氮化物半导体器件及其制造方法
一种自钝化非平面结三族氮化物半导体器件,包括蓝宝石衬底并外延生长有三族氮化物缓冲层和n型三族氮化物负电极接触底层并淀积有电介质层;在淀积的电介质层上开有器件发光区窗口;在窗口区上再次外延生长有负电极接触顶层、防裂层、n型...
陆大成王晓晖姚文卿刘祥林
文献传递
利用掺In改善初期生长GaN的形貌及光学性质
为了研究掺In对初期生长GaN的影响,我们采用3min短时间生长掺In及不掺In样品对照。生长在低压金属有机物气相外延系统中进行。原子力显微镜观察揭示掺In改变了晶核的形貌,原子力显微镜及光透射实验表明掺In促进了缓冲层...
袁海荣陆大成刘祥林陈振王晓晖韩培德汪度
关键词:GAN形貌光学性质
文献传递
氮化镓激光器的关键技术研究
刘祥林谢子燕陆大成王晓辉黎大兵焦春美魏鸿源丛光伟董向芸蒋全李书田
全世界每年需要生长GaN的MOCVD设备约100台。我国大陆每年进口5台,用于GaN蓝绿光发光二极管的生产和研究。如果每台按700万计算,全世界生长GaN的MOCVD设备每年的销售额达到至少7亿元人民币。随着“国家半导体...
关键词:
关键词:MOCVD
GI型特气净化剂研制
1989年
为了对特种气体进行净化,我们于1984年开展了GI型净化剂的研制。经过几年的努力,已研制成一种能用于永久性气体和特种气体的以镓为主要原料的净化剂,其脱氧深度对于8ppm的氢气可脱到0.03ppm,其脱水可由375ppm(露点-30℃)脱到0.54ppm(露点-80℃)。一、仪器与实验装置采用SIGMA型气相色谱仪、玻璃露点仪与二次仪表(数字式毫伏计)、ZAV-2型黄磷发光微氧仪。实验流程如图1所示。
尹恩华陆大成彭永清
关键词:气体特种气体净化剂
GaN的MOVPE生长和m-i-n型蓝光LED的试制被引量:3
1996年
利用自行研制的常压MOVPE设备和全部国产MO源,采用低温生长缓冲层技术,在蓝宝石(α-Al2O3)衬底上获得了高质量的GaN外延层。未掺杂的GaN外延层的室温电子迁移率已达114cm2/V.s,载流于浓度为2×1018。77K光致发光谱近带边发射峰波长为365nm,其线宽为4DmeV。X射线双晶衍射回摆曲线的线宽为360arcsec。用Zn掺杂生长了绝缘的i-GaN层。在此基础上研制了m-i-n型GaN的LED,并在室温正向偏压下发出波长为455nm的蓝光。
陆大成刘祥林汪度王晓晖林兰英
关键词:蓝色发光二极管二极管
共8页<12345678>
聚类工具0