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文献类型

  • 5篇期刊文章
  • 1篇专利

领域

  • 4篇电子电信
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 3篇半导体
  • 2篇硅外延
  • 2篇大流量
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  • 1篇信息化发展
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  • 1篇军工
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  • 1篇孔板
  • 1篇集成电路
  • 1篇废气
  • 1篇废气处理

机构

  • 6篇中国电子科技...

作者

  • 6篇陈洪波
  • 3篇熊化兵
  • 2篇李文
  • 1篇蒋和全
  • 1篇谈长平
  • 1篇刘嵘侃
  • 1篇冯建
  • 1篇李智囊

传媒

  • 5篇微电子学

年份

  • 1篇2013
  • 1篇2008
  • 1篇2005
  • 1篇2004
  • 2篇2002
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
硅外延用大流量超纯氢气纯化系统的设计技术
2002年
在半导体集成电路制造工艺中 ,超纯氢气是必不可少的重要工艺气体。特别是在硅外延工艺中 ,氢气对工艺质量起着决定性作用。因此 ,对氢气的指标要求比较苛刻 ,其纯度应大于99.9999% ,而且必须是大流量连续供应。文章主要从流体学和传热学两方面 ,系统地介绍了利用超低温吸附方法提纯大流量超纯氢气设备的关键设计技术。
陈洪波冯建熊化兵李文李智囊
关键词:硅外延纯化系统
军工行业信息化发展模式探讨被引量:1
2013年
军工行业信息化具有区别于其他行业的八个特点,经过多年的自主发展,很多问题愈发凸显,特别是发展思路和模式,值得重新探讨。针对这些问题,从实践出发,通过深入分析,提出以集团为主体,分两个层次的发展思路,采取平台化和技术与管理分离的两种信息化建设模式,侧重应用质量、投资效率、协同效果的信息化考核模式,以及适应多区域、多领域、不平衡现状下的"云计算服务"与"俱乐部制"的柔性化集团信息化发展模式。探讨了当前的其他热点问题,对军工行业信息化的发展具有多方位的参考意义。
陈洪波
关键词:军工行业信息化
大流量超纯氢气纯化设备制造技术被引量:2
2002年
超纯氢气 (大于 6N)是半导体硅外延等工艺必备的工艺气体。文章介绍了利用超低温吸附的方法提纯大流量超纯氢气的工作原理 ,设备制造中的关键技术问题及难点 。
熊化兵李文陈洪波谈长平
关键词:硅外延半导体工艺
水吸收型废气处理装置
本实用新型涉及一种水吸收型废气处理装置,包括有一级吸收处理室和与一级吸收处理室顶端呈可分离装联的二级吸收处理室,一级吸收处理室内腔中部的喷淋柱上从上到下装设有半圆锥弧形襟板,使该内腔形成气体上升的盘旋通道,襟板下端与一级...
陈洪波
文献传递
PLM在模拟集成电路研制管理中的应用
2008年
模拟集成电路的研制过程通常是以项目为主线的多点和多系统串行或并行流程,运用产品生命周期管理(PLM)系统,可以对整个研制信息链进行集成管理。国内PLM系统的应用研究起步较晚,在集成电路制造行业,特别是模拟集成电路研制领域的应用,亟待开发和探讨。文章从技术和管理方面对模拟IC研制过程中PLM的应用进行了分析和研究。
陈洪波蒋和全刘嵘侃
关键词:产品生命周期管理模拟集成电路半导体制造
VG202MKII精密硅片减薄机调试技术被引量:2
2004年
 VG202MKII全自动精密硅片减薄机是SOI工艺的主要设备之一。由于其具有高精度、全程控等特点,设备构造较复杂,调试难度较大。文章由原理到实际、由流程到技巧,比较系统地阐述了该设备的关键调试技术。
陈洪波熊化兵
关键词:半导体设备SOI工艺
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