佟莉娜
- 作品数：14 被引量：22H指数：2
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- 复合离子镀AlTiN薄膜的表面形貌
- 2012年
- 本工作将阴极真空电弧沉积法和磁控溅射离子镀法结合形成复合镀膜工艺,即用电弧蒸发Ti靶的同时,用磁控溅射Al靶,并通入反应气体N2,以在高速钢基底上镀制AlTiN薄膜,考察了复合镀膜方法获得的AlTiN薄膜的表面形貌,并将其与单一法镀膜的表面形貌进行了对比分析。电弧离子镀制备的AlTiN薄膜表面颗粒很多,而且尺寸大,表面很粗糙,磁控溅射制备的AlTiN薄膜表面光滑平整,复合镀得到的AlTiN薄膜表面粗糙度介于二者之间,但从形貌上看,复合镀的薄膜呈现出典型的层状生长特征,在SEM下可清晰地看到表面的层状生长在部分区域不完全。测试发现,复合镀薄膜形貌并不是电弧镀和溅射镀薄膜形貌的简单混合,而是具有自身独特的特征,这可能是由于电弧弧光等离子体与溅射的辉光等离子体相互作用的结果。
- 佟莉娜黄美东孟凡宇刘野张学谦王丽格杜珊
- 关键词：表面形貌
- 负偏压对多弧离子镀TiN薄膜结构和沉积速率的影响
- 采用多弧离子镀设备在抛光后的高速钢表面沉积TiN薄膜，在其他参数不变的情况下，着重考察偏压对薄膜的沉积速率的影响。实验结果表明，随着负偏压的增加，沉积速率不断增加，但在一定的负偏压达到最大值后，沉积速率又随偏压增大而减小...
- 佟莉娜黄美东李鹏张琳琳王丽格
- 关键词：多弧离子镀TIN薄膜沉积速率
- 磁控溅射与电弧离子镀制备TiN薄膜的比较被引量：14
- 2011年
- 分别采用磁控溅射和电弧离子镀在抛光后的W18Cr4V高速钢基体表面沉积TiN膜层,利用纳米力学系统、扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射仪(XRD)对薄膜进行测试,比较了两种方法所制备的薄膜的异同.结果表明:磁控溅射所制备的薄膜表面平整,但沉积速率和硬度均低于电弧离子镀制备的薄膜.
- 李鹏黄美东佟莉娜张琳琳王丽格李晓娜
- 关键词：TIN磁控溅射电弧离子镀
- 负偏压对反应磁控溅射AlN薄膜的影响被引量：1
- 2011年
- 利用反应磁控溅射制备AlN薄膜,研究了基底负偏压对薄膜结构及其性能的影响.XRD和SEM结果表明:用此方法获得的AlN薄膜呈晶态,负偏压对AlN择优取向产生一定的影响,随着偏压的增大,薄膜表面晶粒尺寸有长大趋势.根据透射谱测试和包络线计算结果可知,薄膜在可见光和红外区域透射率高,随着偏压的增大,薄膜的折射率也随之增大.
- 张琳琳黄美东李鹏王丽格佟莉娜
- 关键词：ALN薄膜
- 复合离子镀AlTiN薄膜的表面形貌的研究
- AlTiN作为一种新型涂层材料,具有硬度高、氧化温度高、红硬性好、附着力强、摩擦系数小、导热率低等优良特性,广泛用于汽车、模具行业等。常见的AlTiN薄膜制备方法主要阴极真空电弧沉积法和磁控溅射离子镀法两种。由于这两种方...
- 佟莉娜黄美东刘野张学谦王丽格杜珊
- 文献传递
- 基底温度对反应磁控溅射氮化铝薄膜的影响
- 采用反应磁控溅射法在光学玻璃基底上制备AlN薄膜，研究了温度对薄膜结构、硬度及光学性能的影响。结果表明，用此方法获得的AlN薄膜是晶态的，温度对AlN的择优取向有一定影响。随沉积温度升高，薄膜硬度及弹性模量增大。在可见光...
- 张琳琳黄美东李鹏王丽格佟莉娜
- 关键词：氮化铝薄膜基底温度
- 磁控溅射TiN的色泽研究
- 用反应直流溅射方法，在抛光后的W18Cr4V高速钢基体的表面上制备TiN膜层。利用SEM对薄膜表面形貌进行了观测，通过色度计研究了氮气流量、偏压对TiN薄膜色泽的影响。结果表明，偏压和氮气流量对TiN色泽都有影响，而后者...
- 李鹏黄美东佟莉娜张琳琳王丽格
- 关键词：TIN薄膜磁控溅射色泽
- 文献传递
- 采用不同功率溅射制备氧化钛薄膜的研究
- 2012年
- 常温下,利用射频(RF)反应磁控溅射方法在K9双面抛光玻璃基底上沉积氧化钛薄膜.采用光栅光谱仪对薄膜样品的透射谱进行测试,通过椭圆偏振光谱仪测试并拟合得到薄膜的厚度、折射率和消光系数等光学参数,借助掠入射角X-射线衍射对薄膜的结晶状态进行了测试.实验结果表明:不同溅射功率下沉积的样品呈非晶态,在40～100W范围内,溅射功率越大,薄膜的沉积速率越大,但溅射功率对折射率和消光系数影响不大.
- 王丽格黄美东李洪玉张琳琳佟莉娜杜姗
- 关键词：溅射功率磁控溅射氧化钛薄膜光学性能
- 退火处理对TiO2薄膜结构和透射性能的影响
- 二氧化钛薄膜具有优良的介电、压电、气敏和光催化性能,在微电子、光学、传感器和光催化方面有着重要的应用。二氧化钛还具有坚硬、抗化学腐蚀,在整个可见和近红外光谱区都透明,透射率高、折射率大、化学稳定性高等优异性能,所以研究二...
- 王丽格黄美东杜珊佟莉娜刘野
- 文献传递
- 偏压对电弧镀TiN薄膜结构和机械性能的影响被引量：3
- 2012年
- 采用SA-6T电弧离子镀设备在抛光后的W18Cr4V高速钢表面沉积TiN薄膜,在其他参数不变的情况下,考察偏压对薄膜结构和机械性能的影响.通过扫描电镜观察了TiN薄膜的表面形貌,采用X射线衍射仪对结构进行物相分析,利用XP-2台阶仪测试了薄膜的厚度,并用纳米压痕仪和多功能表面测试仪分别对薄膜的硬度和膜基结合力进行测量.结果表明:随着负偏压的增加,具有面心立方结构的TiN薄膜沿(111)密排面的择优生长明显加强;薄膜厚度(沉积速率)呈现先增大后减小的趋势,在负偏压为100V时达到最大;薄膜综合力学性能在负偏压为200V时达到最佳.
- 佟莉娜黄美东孟凡宇刘野许世鹏薛利
- 关键词：电弧离子镀TIN薄膜偏压机械性能
