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傅兴海

作品数:3 被引量:7H指数:2
供职机构:浙江大学更多>>
发文基金:浙江省自然科学基金国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 3篇理学

主题

  • 2篇溅射
  • 2篇溅射制备
  • 1篇性能表征
  • 1篇直流
  • 1篇射频磁控
  • 1篇射频磁控溅射
  • 1篇射频磁控溅射...
  • 1篇铁电
  • 1篇铁电薄膜
  • 1篇硅基
  • 1篇SI衬底
  • 1篇SR
  • 1篇TIO
  • 1篇MGO
  • 1篇衬底
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射
  • 1篇磁控溅射制备
  • 1篇BA
  • 1篇SOL-GE...

机构

  • 3篇浙江大学

作者

  • 3篇叶辉
  • 3篇傅兴海
  • 2篇尹伊
  • 1篇李跃甫
  • 1篇张磊
  • 1篇张磊

传媒

  • 3篇物理学报

年份

  • 2篇2009
  • 1篇2008
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
高择优取向铌酸锶钡薄膜的射频磁控溅射制备被引量:3
2008年
采用溶胶-凝胶法在(100)Si单晶上预先制备出掺钾(K)的铌酸锶钡(SBN)缓冲层,利用射频磁控溅射法在缓冲层KSBN上沉积出高择优取向的铌酸锶钡薄膜,获得了磁控溅射法制备择优取向铌酸锶钡薄膜的相关工艺参数,研究发现,KSBN缓冲层能够很有效地克服衬底与SBN薄膜之间较大的晶格失配,在氧气氩气的比例为1∶2,工作气压为1·0Pa,溅射功率300W,衬底温度300℃,退火温度为800℃的工艺条件下,能够获得c轴高度择优取向的铌酸锶钡铁电薄膜.利用X射线衍射仪,原子力显微镜等仪器分析了薄膜的微结构.通过研究SBN薄膜的电流-电压特性(I-V曲线),发现了类似于半导体p-n结的特性,且结效应的强弱与结晶性能的好坏和是否有缓冲层KSBN相关.
李跃甫叶辉傅兴海
关键词:磁控溅射
择优取向MgO在Si衬底上的直流溅射制备及其性能表征被引量:3
2009年
采用直流磁控溅射并通过优化工艺参数,在(100)Si衬底上成功制备了高度(100)择优的MgO薄膜和MgO/TiN双层膜结构.对(100)MgO择优取向温度影响机理做了详细讨论,并利用XRD,AFM,FESEM等手段研究了在(100)Si和(100)TiN/Si两种衬底上,不同工艺条件下MgO薄膜的表面和断面微观结构,表征了MgO薄膜的柱状生长结构和与TiN薄膜的良好外延关系.在对薄膜光学特性的研究中,利用Sellmeier模型获得了Si上MgO薄膜在可见光波段的折射率参数(550 nm处折射率为1.692),利用非均匀模型获得了TiN/Si衬底上的MgO薄膜在可见光波段的折射率参数(靠近空气层的薄膜在550nm处折射率为1.716).
傅兴海尹伊张磊叶辉
择优取向MgO缓冲层上制备的硅基Ba_(0.7)Sr_(0.3)TiO_3薄膜的结构和性能研究被引量:1
2009年
分别采用sol-gel法和磁控溅射法在Si(001)单晶衬底上制备出(111)和(001)取向的MgO缓冲层薄膜,随后在其上生长Ba0.7Sr0.3TiO3(BST30)铁电薄膜.通过X射线衍射,扫描电子显微镜,原子力显微镜等方法研究了薄膜的微结构.实验结果发现,在较厚的MgO(001)缓冲层上可长出(101)取向的BST30薄膜,而在较薄的MgO(111)缓冲层上则表现出(101)和(111)取向相互竞争的现象,随着MgO(111)缓冲层厚度的增加,BST30薄膜的(101)取向被抑制,而(001)取向逐渐增强.利用反射率测定仪、阻抗分析仪研究了BST30薄膜的光学和电学性能.通过改进的单纯形法拟合反射率曲线,得到了BST30及其MgO缓冲层薄膜的光学常数,由BST30薄膜的电压-电流特性(I-V曲线),发现MgO缓冲层对BST30薄膜的漏电流有明显的阻隔作用,可以有效消除BST30膜层的p-n结效应.
尹伊傅兴海张磊叶辉
关键词:铁电薄膜SOL-GEL
共1页<1>
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