您的位置： 专家智库 > >

史义才

作品数：4 被引量：7H指数：1
供职机构：中国科学院等离子体物理研究所更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：理学化学工程核科学技术金属学及工艺更多>>

合作作者

文献类型

  • 4篇中文期刊文章

领域

  • 2篇理学
  • 1篇化学工程
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇核科学技术

主题

  • 2篇等离子体
  • 2篇磁镜
  • 1篇氮化
  • 1篇氮化硅
  • 1篇钝化
  • 1篇钝化膜
  • 1篇哨声
  • 1篇哨声波
  • 1篇基频
  • 1篇光学
  • 1篇光学特性
  • 1篇PECVD
  • 1篇SI
  • 1篇ECR
  • 1篇ECR-PE...

机构

  • 3篇中国科学院等...
  • 1篇国防科学技术...
  • 1篇苏州大学
  • 1篇国防科技大学

作者

  • 4篇任兆杏
  • 4篇史义才
  • 3篇宁兆元
  • 2篇邱励俭
  • 2篇张建德
  • 2篇方瑜德
  • 1篇丁振峰
  • 1篇陈俊芳
  • 1篇郭射宇

传媒

  • 1篇物理学报
  • 1篇电子学报
  • 1篇国防科技大学...
  • 1篇真空科学与技...

年份

  • 1篇1996
  • 1篇1995
  • 1篇1994
  • 1篇1993
共 4 条 记 录，以下是 1-4
全选 清除 导出
排序方式：
磁镜中哨声波加热等离子体研究
1993年
本文研究了在产生晃荡电子的特定磁镜磁场位形中。使用哨声波加热等离子体的机制,并对等离子体的参数和等离子体共振区结构进行了测量研究,研究结果表明:(1) 在磁镜基频共振层附近存在等离子体密度峰和电子温度峰;(2) 该峰随着磁镜中心磁场的变化与基频共振层一起移动;(3) 等离子体加热的物理机制为:大量的电子在基频共振层吸收微波,并在此处反弹。
张建德方瑜德史义才宁兆元任兆杏邱励俭
关键词：磁镜等离子体哨声波
全文增补中
微波电子回旋共振等离子体金属内壁镀膜装置及其实验研究
1995年
史义才郭射宇任兆杏宁兆元
关键词：等离子体ECRPECVD
磁镜中晃荡电子形成熟垒的实验研究
1994年
本文在实验上研究了ＦＣＲＨ产生晃荡电子形成串级磁镜热垒的可行性，并对等离子体电位进行了测量，研究结果表明，ＥＣＲＨ产生晃荡电子形成热垒是成功的。
张建德方瑜德史义才宁兆元任兆杏邱励俭
关键词：磁镜
ECR－PECVD制备Si_3N_4薄膜的特性及其应用的研究被引量：7
1996年
本文利用ＥＣＲ－ＰＥＣＶＤ技术在不同沉积温度下制备了Ｓｉ３Ｎ４薄膜，利用Ｓｉ３Ｎ４薄膜的透射光强度曲线计算了Ｓｉ３Ｎ４薄膜的折射率和膜厚，计算结果与实测值符合较好。结果表明，随着沉积温度的提高，Ｓｉ３Ｎ４薄膜的折射率增大，致密性提高，Ｓｉ３Ｎ４薄膜厚度在６０ｍｍ直径范围内不均匀度小于５％。测定了Ｓｉ３Ｎ４薄膜的显微硬度。利用荧光分光光度计测定了Ｓｉ３Ｎ４薄膜的光致发光效应。初步进行了Ｓｉ３Ｎ４薄膜的超高频大功率晶体管器件中作为钝化膜的应用研究。
任兆杏陈俊芳丁振峰史义才宋银根王道修
关键词：ECR-PECVD钝化膜光学特性氮化硅
全选 清除 导出
共1页<1>
聚类工具0