张铮
- 作品数：2 被引量：9H指数：2
- 供职机构：华中科技大学光学与电子信息学院更多>>
- 发文基金：国家重大科学仪器设备开发专项国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：电子电信更多>>
- 纳米压印多孔硅模板的研究被引量：4
- 2014年
- 纳米压印模板通常采用极紫外光刻、聚焦离子束光刻和电子束光刻等传统光刻技术制备,成本较高.寻找一种简单、低成本的纳米压印模板制备方法以提升纳米压印光刻技术的应用成为研究的重点与难点.本文以多孔氧化铝为母模板,采用纳米压印光刻技术对纳米多孔硅模板的制备进行了研究.在硅基表面成功制备出纳米多孔阵列结构,孔间距为350—560 nm,孔径在170—480 nm,孔深为200 nm.在激发波长为514 nm时,拉曼光谱的测试结果表明,相对于单面抛光的硅片,纳米多孔结构的硅模板拉曼光强有了约12倍左右的提升,对提升硅基光电器件的应用具有重要的意义.最后,利用多孔硅模板作为纳米压印母模板,通过热压印技术,成功制备出了聚合物纳米柱软模板.
- 张铮徐智谋孙堂友徐海峰陈存华彭静
- 关键词：纳米压印阳极氧化铝多孔硅拉曼光谱
- 硅表面抗反射纳米周期阵列结构的纳米压印制备与性能研究被引量：5
- 2013年
- 硅表面固有的菲涅耳反射,使得硅基半导体光电器件(如太阳能电池、红外探测器)表面有30%以上的入射光因反射而损失掉,严重影响着器件的光电转换效率.寻找一种方法降低硅基表面的反射率,进而提高器件的效率成为近年来研究的重点.本文基于纳米压印光刻技术,在2英寸单晶硅表面制备出周期530nm,高240nm的二维六角截顶抛面纳米柱阵列结构.反射率的测试表明,当入射光角度为8°时,有纳米结构的硅片相对于无纳米结构的硅片来讲,在400到2500nm波长范围内的反射率有很明显的降低,其中,800到2000nm波段的反射率都小于10%,在波长1360nm附近的反射率由31%降低为零.结合等效介质理论和严格耦合波理论对结果进行了分析和验证.
- 张铮徐智谋孙堂友何健徐海峰张学明刘世元
- 关键词：纳米压印抗反射
