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曹健林

作品数:49 被引量:187H指数:8
供职机构:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室更多>>
发文基金:国家自然科学基金中国科学院知识创新工程应用光学国家重点实验室开放基金更多>>
相关领域:理学机械工程电子电信一般工业技术更多>>

文献类型

  • 44篇期刊文章
  • 5篇会议论文

领域

  • 28篇理学
  • 22篇机械工程
  • 20篇电子电信
  • 4篇一般工业技术
  • 3篇自动化与计算...
  • 2篇金属学及工艺
  • 1篇文化科学

主题

  • 13篇多层膜
  • 12篇软X射线
  • 10篇光刻
  • 8篇投影光刻
  • 8篇极紫外
  • 6篇激光
  • 6篇极紫外投影光...
  • 6篇光学
  • 4篇等离子体
  • 4篇电路
  • 4篇均匀性
  • 4篇激光等离子体
  • 4篇集成电路
  • 4篇溅射
  • 4篇光谱
  • 4篇磁控
  • 4篇磁控溅射
  • 3篇图像
  • 3篇超光滑
  • 3篇超光滑表面

机构

  • 49篇中国科学院长...
  • 4篇中国科学院研...
  • 1篇北京大学
  • 1篇吉林大学
  • 1篇中国科学院大...

作者

  • 49篇曹健林
  • 16篇金春水
  • 11篇马月英
  • 10篇陈波
  • 8篇杨怀江
  • 8篇隋永新
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  • 2篇林炳

传媒

  • 10篇光学精密工程
  • 5篇光谱学与光谱...
  • 4篇强激光与粒子...
  • 3篇光电工程
  • 3篇光学仪器
  • 2篇物理实验
  • 2篇科技导报
  • 2篇光学技术
  • 2篇光学学报
  • 2篇发光学报
  • 2篇微细加工技术
  • 2篇第十一届全国...
  • 1篇仪器仪表学报
  • 1篇中国激光
  • 1篇科技开发动态
  • 1篇计算机工程与...
  • 1篇中国基础科学
  • 1篇光学机械
  • 1篇长春理工大学...
  • 1篇第十一届全国...

年份

  • 1篇2020
  • 1篇2014
  • 1篇2011
  • 1篇2009
  • 3篇2008
  • 2篇2007
  • 4篇2005
  • 4篇2004
  • 8篇2003
  • 9篇2002
  • 5篇2001
  • 3篇2000
  • 1篇1998
  • 2篇1997
  • 1篇1996
  • 1篇1995
  • 1篇1994
  • 1篇1992
49 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
Ge薄膜性能及其在光子计数成像探测器中的应用被引量:4
2014年
为改善光子计数成像探测器电荷感应层的性能,提高光子计数成像系统的成像质量,分别用直流磁控溅射法(DC)与射频磁控溅射法(RF)制备了不同厚度的Ge薄膜。利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、表面轮廓仪、四探针表面电阻测试仪对两种方法所制备的薄膜进行了结构特征与电学性能的表征。结果表明:两种方法所制备的薄膜均为非晶态结构,DC制备的Ge薄膜比RF制备的Ge薄膜稀疏,其不同膜厚下的电阻率均大于RF所制备的薄膜。实验显示,薄膜越厚其电学性能受氧化影响越小,电学性能越稳定。实验对比了不同方阻下Ge薄膜应用于探测器的成像性能,结果表明:方阻在百兆级范围内时成像效果较好,且方阻变化时成像效果变化不大,但方阻大到2GΩ/□时会导致系统分辨率下降。
李云鹏郑鑫张宏吉王孝东陈波曹健林
关键词:磁控溅射
掠出射X射线荧光光谱仪研制被引量:2
2002年
掠出射X射线荧光分析技术是分析薄膜特性和介质表面的一种重要工具。文中简述了利用掠出射X射线荧光技术分析薄膜厚度的原理和方法,介绍了一种在实验室里由激发光源、样品承载系统、色散系统、探测系统和数据收集及处理系统构成的掠出射X射线荧光光谱仪系统,并给出了利用55Fe放射性同位素标定该光谱仪系统的试验结果。
巩岩尼启良陈波曹健林
关键词:光谱仪光谱分析
极紫外投影光刻原理装置的集成
本文论述了光刻技术发展的历程、趋势和极紫外投影光刻技术的特性,并介绍了极紫外投影光刻原理装置的研制工作.该装置由激光等离子体光源、掠入射椭球聚光镜、透射掩模、Schwarzschild微缩投影物镜及相应的真空系统组成.其...
金春水马月英裴舒王诚曹健林
关键词:极紫外投影光刻
文献传递
紫外ICCD的线性测量被引量:2
2008年
以辐射度学为理论基础,研究了紫外ICCD(UV-ICCD)的线性测量技术,提出了比较测量方法。参考探测器的光纤端面和UV-ICCD的光敏面置于同一截面内,首先使用线性参考探测器测量辐照度的衰减变化,然后将被测UV-ICCD置于辐照度场中心,记录不同辐照度下UV-ICCD的输出。最后,直线拟合给出UV-ICCD的灰度输出与输入辐照度关系曲线。参考探测器线性度的好坏直接决定线性测量的精度。为此,采用了非线性度不高于0.2%的科研级光谱仪。测量装置主要由标准氘灯、光学衰减器、积分球、参考探测器、电移台和计算机等组成,测量过程由计算机配套专用软件进行自动控制。实验结果表明,所测UV-ICCD的非线性度不高于3%,比较法测量的不确定度小于5%。
赵玉环闫丰娄洪伟隋永新杨怀江曹健林
关键词:不确定度
X射线波段多层膜光学元件及其应用
1992年
用于 X 射线、特别是软 X 射线其波长范围约为(1~30)nm 波段的多层膜光学元件近十年来引起了人们的广泛重视,取得了许多重要进展。本文对这种多层膜光学元件的特点、制备和检测方法、应用领域、以及国内有关工作的近况做简要介绍。
曹健林缪同群马月英朱秀芳陈星旦
关键词:X射线多层膜光学元件
硬X射线梯度渐变多层膜设计
2004年
讨论了硬X射线梯度渐变多层膜的膜对材料的选择 ,介绍了分析方法、数值解析方法和分堆栈法三种用于膜系理论设计的方法 ,并且就这三种方法的优缺点进行了比较和分析。
姚志华金春水曹健林
关键词:分析方法
浮法抛光超光滑表面加工技术被引量:32
1995年
浮法抛光技术首先出现于日本,是加工超光滑表面的先进技术之一。本文详细介绍用浮法抛光加工超光滑表面的机械结构和加工过程,与传统的沥青抛光方法进行了比较,并分析了材料去除机理。最后简单介绍我国研究浮法抛光技术的进展。
高宏刚曹健林陈斌
关键词:抛光技术光学零件
激光等离子体软X射线光源的一种诊断方法被引量:4
2002年
激光等离子体软X射线光源是脉冲式光源 ,对这类光源的光谱诊断有几种方法。文章介绍了一种新的、实用的测量激光等离子体软X射线光源光谱的方法。此方法以低噪声的通道电子倍增器探测来自光源的ns量级的脉冲光信号 ,并由低噪声、响应快的电荷灵敏前置放大器进一步将其放大 ,前放的输出电荷与输入的脉冲信号的峰值成正比。使用这种方法测量了铜靶激光等离子体光源和氧、氪气体靶激光等离子体软X射线源在 8~
尼启良陈波巩岩曹健林
基于噪声抽取的信息隐藏方法研究被引量:1
2002年
信息隐藏技术是在只具平凡意义的载体中隐藏需要进行保密通信的敏感信息 ,只要人类感觉系统无法察觉由此所引起的载体变化 ,则此通信中对外表现的只是载体的属性 ,除了通信双方之外的任何第三方并不知道在此平凡载体通信过程中存在着隐蔽信道 ,由此以减少敏感信息在信道传输过程中受到攻击的可能性 ,因此本文认为若将信息隐藏与加密技术结合使用则可以较为完善地解决高强度的保密通信问题。文中利用所提出的基于噪声抽取信息隐藏方法实现了上述方案 ,算法设计过程中主要考虑了图像质量、全比特恢复能力、保密性、反检测能力等方面的因素 。
隋永新杨英慧杨怀江曹健林
关键词:信息隐藏保密通信
软X射线投影光刻技术及其发展被引量:1
2002年
软X射线投影光刻的研究近年来取得了突破性进展 ,所采用的新型光学系统由无污染激光等离子光源及高分辨率大视场投影光刻系统组成。该技术多采用无应力光学装调工艺、深亚纳米级的镜面加工和多层膜制备技术及低缺陷反射式掩模技术。该技术还采用表面成像光刻胶技术并涉及到精密扫描机构等技术。本文介绍了这一技术的发展历史。
金春水曹健林
关键词:软X射线投影光刻光学系统集成电路
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