姜承慧
- 作品数：48 被引量：54H指数：4
- 供职机构：天津津航技术物理研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金天津市自然科学基金中国博士后科学基金更多>>
- 相关领域：理学电子电信机械工程文化科学更多>>
- 一种滤除二氧化碳辐射波长的中波红外透射光学元件及其制备方法
- 本发明公开了一种滤除二氧化碳辐射波长的中波红外透射光学元件及其制备方法，属于光学薄膜技术领域，在3μm‑5μm波段中去除二氧化碳辐射波长，该制备方法，使用棱镜转向和反射滤光的方法，通过设计固定棱镜45度的反射滤光薄膜，通...
- 刘华松杨霄李士达孙鹏姜承慧季一勤
- 文献传递
- 一种短波红外窄带滤光片及其制备方法
- 本发明公开了一种短波红外窄带滤光片，其特征在于，包括：基板和形成在基板两侧表面上的正面膜系和反面膜系，正面膜系为：A/(HL)<Sup>4</Sup>L(HL)<Sup>8</Sup>L(HL)<Sup>8</Sup>L...
- 宗杰沈玉秀姜承慧
- 不同沉积方式SiO_2薄膜的自然时效特性（英文）被引量：2
- 2019年
- SiO_2薄膜是光学薄膜领域内常用的重要低折射率材料之一。文中采用不同沉积技术在Si基底上制备了SiO_2薄膜,并研究了它们光学特性的自然时效特性。采用不同贮存时间的椭偏光谱表征SiO_2薄膜的光学特性,随着时间的增加,EB-SiO_2薄膜和IAD-SiO_2薄膜的物理厚度和光学厚度随着增加,但IBS-SiO_2薄膜随着减小,变化率分别为1.0%,2.3%和-0.2%。当贮存时间达到120天时,IBS-SiO_2薄膜、EB-SiO_2薄膜和IAD-SiO_2薄膜的物理厚度和光学厚度趋于稳定。实验结果表明,IBSSiO_2薄膜的光学特性稳定性最好,在最外层保护薄膜选择中,应尽可能选择离子束溅射技术沉积SiO_2薄膜。
- 姜玉刚刘小利刘华松刘华松李士达陈丹刘丹丹陈丹季一勤
- 关键词：光学常数
- 一种大口径均匀性滤光片及其制备方法
- 本发明公开了一种大口径均匀性滤光片的制备方法，属于光学薄膜技术领域，解决由于大口径窄带滤光片对中心波长的敏感程度较高，中心波长微小的漂移均可能会导致滤光片透过率的下降的问题。该制备方法在基底上镀制总膜系的一半，将镀制的二...
- 陈丹刘华松姜于刚王利栓刘丹丹姜承慧季一勤
- 一种宽带激光薄膜反射镜
- 本发明属于光学薄膜技术领域，具体涉及一种宽带激光薄膜反射镜，以及使用该反射镜的固体染料可调谐激光器。本发明采用双面薄膜的方法，反射镜带宽大于300nm，通过合理选择高、低折射率薄膜的光学厚度系数和基本组合的重复次数，有助...
- 刘华松王利栓姜玉刚季一勤姜承慧
- 文献传递
- 一种宽带截止超窄带滤光片
- 本发明属于光学薄膜领域，具体涉及一种宽带截止超窄带滤光片。本发明通过在基底一面上设计由多层反射膜的膜系构成的宽带截止滤光薄膜，在基底另一面设计由多层反射膜的膜系构成的全介质二腔超窄带滤光薄膜，最终可以实现带宽为1nm的宽...
- 姜玉刚刘华松陈丹王利栓刘丹丹姜承慧季一勤
- 文献传递
- 一种窄带滤光片光谱的调控方法
- 本发明涉及一种窄带滤光片光谱的调控方法，属于光学薄膜技术领域。本发明设计的一种窄带滤光片光谱的调控方法，它通过采用高温热处理的方法，并调整热处理工艺参数，能有效的改变窄带滤光片光谱的波长位置和波形。实施过程中，它通过在K...
- 姜玉刚陈丹刘华松姜承慧刘丹丹
- 文献传递
- 一种低水吸收氧化钇薄膜的制备方法
- 本申请提供一种低水吸收氧化钇薄膜的制备方法，包括以下步骤：蘸取抛光液对基片进行抛光，抛光后蘸取无水乙醇和乙醚混合液将基片表面擦拭干净；将擦拭干净后的基片放入镀膜装置的镀膜腔室内，设置基片温度为200℃‑400℃，并将镀膜...
- 孙鹏刘华松何家欢刘丹丹姜承慧孙磊顿世杰
- 真空热处理对硫化锌薄膜光学与微结构特性的影响被引量：9
- 2017年
- 针对电子束蒸发离子辅助沉积的硫化锌薄膜,研究了550℃以下真空热处理对其光学与微结构特性的影响。薄膜光学和微结构特性的测试分析表明:制备后薄膜为类立方结构的ZnS,在337.5nm波长处出现临界特性转折点,随着热处理温度的增加,转折波长两侧的消光系数变化规律相反,折射率和物理厚度呈现下降趋势,薄膜的禁带宽度逐渐增加;在红外波段的薄膜折射率与热处理温度的变化并不显著,在350℃下热处理时消光系数出现转折,主要是由晶粒变小的趋势所致;通过晶相分析,硫化锌薄膜经历了类立方结构到六方结构的转换,与禁带宽度的变化趋势基本一致。分析结果表明,光学特性变化的根本原因是薄膜的微结构特性变化。
- 刘华松姜承慧李士达杨霄季一勤张锋陈德应
- 关键词：ZNS薄膜消光系数真空热处理晶相结构
- 离子束溅射氧化钽薄膜光学特性的热处理效应被引量：4
- 2018年
- 主要研究了离子束溅射制备的氧化钽薄膜在大气氛围下热处理对其光学特性的影响规律。实验中热处理温度范围的选择为150~550℃,间隔为200℃。研究中分别采用介电常数的CodyLorentz色散模型和振子模型对氧化钽薄膜的能带特性(1~4 eV)和红外波段(400~4 000 cm^(-1))的微结构振动特性进行了表征。研究结果表明,在150℃和350℃之间出现热处理温度转折点,即热处理温度高于此值时消光系数增加。Urbach能量的变化与消光系数趋势相同,而禁带宽度的变化与消光系数恰好相反。通过红外微结构振动特性分析,薄膜中仍存在亚氧化物的化学计量缺陷。
- 王利栓杨霄刘丹丹姜承慧刘华松季一勤张锋樊荣伟陈德应
- 关键词：光学常数禁带宽度
