夏保红
- 作品数：7 被引量：6H指数：2
- 供职机构：南京航空航天大学机电学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金江苏省自然科学基金中国博士后科学基金更多>>
- 相关领域：一般工业技术金属学及工艺电子电信更多>>
- 亚微米SiC在水相介质中的分散性能
- 2016年
- 针对亚微米SiC粉体在水相介质中分散难的问题,首先采用单因素实验研究了球磨时间和超声时间对亚微米SiC在水相介质中分散性能的影响。在此基础上采用正交实验研究了分散剂种类、分散剂质量分数和pH值对亚微米SiC在水相介质中分散性能的影响,并用悬浮液吸光度来评价亚微米SiC分散性能。结果表明:分散剂种类对亚微米SiC分散性能影响最大,其次是pH值,分散剂浓度影响最小;亚微米SiC在水相介质中的最佳分散工艺参数为:球磨60min,超声30min,分散剂聚乙烯亚胺(PEI)浓度3.0%,pH=11。
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- 关键词：分散性能吸光度
- 高分散超细氧化铝抛光液的制备方法
- 一种高分散超细氧化铝抛光液的制备方法，其特征是它包括计算并称量出所需的微米或亚微米氧化铝粉体放入到球磨罐中；向盛有氧化铝粉体的球磨罐中加入所需量的去离子水，搅拌至均匀，氧化铝粉体占抛光液重量的1%～10%；按一定的球料比...
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- 文献传递
- 微米α-氧化铝粉体在水相介质中的分散性研究被引量：4
- 2015年
- 针对微米α-氧化铝粉体在水相介质中分散不好的问题,采用单因素法实验研究球磨时间、超声时间对微米α-氧化铝粉体在水相介质中分散性的影响,在此基础上采用正交实验研究分散剂种类、分散剂浓度、悬浮液p H对微米α-氧化铝粉体在水相介质中分散性的影响,用悬浮液的吸光度评价微米α-氧化铝粉体的分散性。结果表明,微米α-氧化铝粉体在水相介质中的最佳分散工艺参数是球磨时间为40 min,超声时间为20 min,分散剂三聚磷酸钠的质量分数为0.5%,悬浮液p H为10。
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- 关键词：分散性能吸光度
- 冰粒型固结磨料抛光垫及其研抛性能基础研究
- 近年来，随着生产和科技的发展，硬脆晶体特别是半导体材料，在电子、光学、仪器仪表等诸多领域应用越来越广。目前，应用于硬脆晶体的超精密加工方法主要是化学机械抛光。传统的游离磨料 CMP存在一定的不足，如抛光中存在的工件变形大...
- 夏保红
- 关键词：去除率表面粗糙度
- 文献传递
- 超薄单晶锗片的加工方法
- 一种超薄单晶锗片的加工方法，其特征是它包括以下步骤：首先，利用线切割设备从单晶锗棒上切割得到厚度不超过0.5毫米的单晶锗片；其次，将单晶锗片装夹到低温抛光机上；第三，先采用粒度为10～28μm的金刚石、刚玉、碳化硅、碳化...
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- 文献传递
- 固结磨料精磨手机面板玻璃的实验研究
- 2015年
- 固结磨料精磨工艺具有加工效率高和清洁方便等突出优点。采用正交实验法,研究了精磨压力、时间、转速和抛光液浓度等参数对固结磨料精磨手机面板玻璃的材料去除率MRR和表面粗糙度Sa的影响,并综合优化获得高材料去除率和优表面品质的工艺参数。结果表明精磨的最佳工艺参数组合为:精磨压力为0.1 MPa,转速为160 r/min,精磨时间5 min,抛光液浓度10%。
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- 关键词：材料去除率表面粗糙度
- 超薄单晶锗片的加工方法
- 一种超薄单晶锗片的加工方法，其特征是它包括以下步骤：首先，利用线切割设备从单晶锗棒上切割得到厚度不超过0.5毫米的单晶锗片；其次，将单晶锗片装夹到低温抛光机上；第三，先采用粒度为10～28μm的金刚石、刚玉、碳化硅、碳化...
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- 文献传递
