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程嘉

作品数：14 被引量：0H指数：0
供职机构：中国地质大学（北京）更多>>
相关领域：医药卫生金属学及工艺更多>>

合作作者

文献类型

  • 14篇中文专利

领域

  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇医药卫生

主题

  • 5篇刻蚀
  • 4篇电极
  • 4篇调整装置
  • 4篇真空
  • 3篇晶片
  • 2篇导套
  • 2篇导柱
  • 2篇等离子体
  • 2篇等离子体刻蚀
  • 2篇电路
  • 2篇电路制造
  • 2篇调节装置
  • 2篇多晶
  • 2篇多晶硅
  • 2篇真空泵
  • 2篇射频
  • 2篇石英
  • 2篇水平度
  • 2篇体壁
  • 2篇配气

机构

  • 14篇中国地质大学...

作者

  • 14篇杨义勇
  • 14篇季林红
  • 14篇程嘉
  • 10篇刘伟峰
  • 10篇赵康宁
  • 6篇肖志杰
  • 2篇王佳

年份

  • 2篇2017
  • 4篇2016
  • 3篇2015
  • 2篇2014
  • 3篇2013
共 14 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
一种多功能等离子体腔室处理系统
本发明涉及一种多功能等离子体腔室处理系统，其特征在于，包括CCP设备、ICP设备和配气系统，所述配气系统与所述CCP设备和ICP设备连接，用于将所述CCP设备及ICP设备内抽成真空，同时还用于向所述CCP设备及ICP设备...
杨义勇刘伟峰赵康宁季林红程嘉
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一种供气均匀的等离子体刻蚀装置
一种供气均匀的等离子体刻蚀装置，包括反应腔室，其中相对且间隔地设置接地电极和射频电极，还设有气体供应装置，所述气体供应装置包括至少一根匀气管路，该匀气管路一端为进气口，另一端封闭，在该匀气管路的侧壁上设置多个出气孔；所述...
杨义勇肖志杰刘伟峰程嘉季林红韩传锟赵康宁
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一种供气均匀的等离子体刻蚀装置及其中的气体供应装置
一种供气均匀的等离子体刻蚀装置，包括反应腔室，其中相对且间隔地设置接地电极和射频电极，还设有气体供应装置，所述气体供应装置包括至少一根匀气管路，该匀气管路一端为进气口，另一端封闭，在该匀气管路的侧壁上设置多个出气孔；所述...
杨义勇肖志杰刘伟峰程嘉季林红韩传锟赵康宁
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一种电极间距可调的离子反应腔室及电极间距调整装置
本发明涉及一种电极间距可调的等离子体反应腔室，包括腔室衬套、上盖和位于由所述腔室衬套、上盖构成的空腔内的电极，所述电极包括上电极和下电极，其特征在于，还包括电极间距调整机构，所述上电极包括气体分配部件、调整极板、和多晶硅...
杨义勇王佳赵康宁程嘉季林红
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一种可快速更换匀气方式的真空腔室
一种可快速更换匀气方式的真空腔室，是一包括腔筒、上盖（20）和下盖的腔体，在上盖（20）上设进气喷嘴（10），进气喷嘴连通一其下方的第一腔体构成第一布气室（160），第一布气室外壁与真空腔体内壁间构成第二布气室（170）...
杨义勇刘伟峰程嘉季林红肖志杰
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等离子体反应腔室电极间隙调整装置及等离子体反应腔室
本发明涉及一种电极间隙调整装置，所述电极位于等离子体反应腔室内，所述电极包括上电极和下电极，其特征在于，包括上电极升降装置，所述上电极升降装置包括上固定板、升降板、下固定板、导向支撑杆、螺杆和滑动杆，所述上固定板和下固定...
杨义勇赵康宁程嘉季林红
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一种电极间距可调的等离子体反应腔室及电极间距调整装置
本发明涉及一种电极间距可调的等离子体反应腔室，包括腔室衬套、上盖和位于由所述腔室衬套、上盖构成的空腔内的电极，所述电极包括上电极和下电极，其特征在于，还包括电极间距调整机构，所述上电极包括气体分配部件、调整极板、和多晶硅...
杨义勇王佳赵康宁程嘉季林红
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一种真空腔室静电卡盘调节装置
本发明涉及一种真空腔室静电卡盘调节装置，包括静电卡盘支撑结构、底座和高度调节结构，所述静电卡盘支撑结构设置在所述静电卡盘的下侧，用于支撑所述静电卡盘，所述底座固定在所述真空腔室的下盖上，所述高度调节结构与所述底座和静电卡...
杨义勇刘伟峰季林红程嘉
一种配置取放装置和调节工件的位置的半导体刻蚀装置
一种配置有工件取放装置的半导体刻蚀装置，包括腔室主体，还包括取放工件装置，所述的取放工件装置包括射频电极升降机构和取片视窗出口，射频电极升降机构包括螺旋传力机构和导向机构，螺旋传力机构中的螺母和螺杆与导向机构中的导柱和导...
杨义勇肖志杰刘伟峰程嘉季林红韩传锟赵康宁
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一种可快速更换匀气方式的真空腔室
一种可快速更换匀气方式的真空腔室，是一包括腔筒、上盖（20）和下盖的腔体，在上盖（20）上设进气喷嘴（10），进气喷嘴连通一其下方的第一腔体构成第一布气室（160），第一布气室外壁与真空腔体内壁间构成第二布气室（170）...
杨义勇刘伟峰程嘉季林红肖志杰
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