郑玉刚
- 作品数：46 被引量：49H指数：5
- 供职机构：兰州空间技术物理研究所更多>>
- 发文基金：中国人民解放军总装备部预研基金国防科技重点实验室基金国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：金属学及工艺机械工程理学一般工业技术更多>>
- 一种空间用小型对接锁紧装置
- 本发明的空间用小型对接锁紧装置，其包括：安装在空间站上主动机构和安装在空间试验载荷上的壳体；主动机构包括：框体、定位销安装板A、粗定位销A、精定位销A、面检测开关A、加热装置、电机、温度传感器、减速机、定位销安装板B、减...
- 冯军周晖周颖赵振昊郑玉刚康永高波谭立张腾飞王保成
- 文献传递
- 温度对类富勒烯碳氮薄膜微观结构与摩擦学性能的影响被引量：1
- 2017年
- 采用直流反应磁控溅射分别在200、250、300和350℃条件下沉积类富勒烯碳氮薄膜,利用X射线光电子能谱(XPS)和扫描电子显微镜(SEM)表征薄膜的微观结构形貌,采用薄膜综合性能测试仪以及通过大气球盘摩擦试验研究薄膜的力学性能及摩擦学性能。结果显示:制备的类富勒烯CN_x薄膜中存在sp^2C-C、sp^2N-C和sp^3C-N化学键;随着沉积温度的升高,薄膜的结构变得更加致密,硬度、弹性模量以及弹性恢复系数逐渐增大,摩擦因数和磨损率降低;沉积温度为350℃制备的薄膜摩擦因数和磨损率最低,表现出优异的耐磨损性能。
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- 关键词：磁控溅射摩擦学性能
- 激光引弧磁过滤真空阴极电弧制备ta-C薄膜的结构与性能被引量：2
- 2020年
- 采用自主研制的激光引弧磁过滤真空阴极电弧沉积设备在不同工件台转速下制备了四面体非晶碳膜,通过改变工件台转速调节沉积速率,探讨了沉积速率对四面体非晶碳膜结构与性能的影响。结果表明,随着沉积速率的增加,四面体非晶碳膜硬度及弹性模量随sp3键含量变化先增加后减小,最大值分别为48 GPa和300 GPa。薄膜的摩擦因数受沉积速率影响不大,均在0.14左右。薄膜的磨损率随着沉积速率的增加逐渐降低,最小为6×10-16 m3(/N·m)。研究发现在一定范围内调节沉积速率可以有效地提高四面体非晶碳膜的力学性能及耐磨性能。
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- 关键词：沉积速率
- 钛合金MAO前处理对粘接PTFE膜的摩擦学性能提升
- 本文设计出了一种MAO/粘接PTFE复合涂层,即先采用微弧氧化技术在钛合金零件表面制备出一层10～15um、Hv1000的黑色微弧氧化层,再在其表面喷涂8～15um的粘接PTFE涂层.采用真空球盘摩擦试验机在低载、中载和...
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- 关键词：微弧氧化
- 一种高硬耐磨损类富勒烯碳膜及其制备方法
- 本发明提供一种高硬耐磨损类富勒烯碳膜，从上至下依次为类富勒烯碳层、CrN/Cr软硬交替过渡层以及金属基体；其中，采用CrN/Cr软硬交替过渡层作为中间过渡层，可降低类富勒烯碳层薄膜与金属基体之间的应力，提高类富勒烯碳层薄...
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- 文献传递
- 一种用于不同尺寸合金阶梯孔均匀微弧氧化的装置
- 本发明公开了一种用于不同尺寸合金阶梯孔均匀微弧氧化的装置，包括带有阶梯孔的合金工件，阳极杆、阴极杆组件，所述阳极杆与正极电缆相连，并与合金工件连接，所述阴极杆组件包括接头杆、中间杆与端部杆，所述接头杆一端负极电缆相连，另...
- 胡汉军周晖张凯锋郑玉刚霍丽霞郝宏苟世宁王叙博
- 钛合金表面MAO/粘接PTFE涂层的真空摩擦学性能被引量：5
- 2017年
- 采用真空球盘摩擦试验机,分别在低载、中载和重载工况下测试了一种MAO/粘接PTFE复合涂层的摩擦学性能.结果表明:微弧氧化层提升了基底抵抗变形的能力,确保了摩擦过程中粘接PTFE涂层与基底结合状态的稳定,并且在原位生长过程中继承了金属表面原有的机械加工形貌,形成了特殊的"波峰"与"波谷"交替并存的"波状"多孔地形."波峰"与孔壁作为与摩擦对偶接触的硬质区域起承载和耐磨损作用,"波谷"和微孔作为与摩擦对偶接触的软质区域起贮存润滑剂与提供转移膜的作用.在两者的耐磨-减摩协同作用下,MAO/粘接PTFE复合涂层在不同接触应力条件下的摩擦学寿命较传统的喷砂/粘接PTFE的摩擦学寿命有了极大提升.
- 胡汉军周晖曹珍冯兴国张凯锋郑玉刚霍丽霞
- 关键词：微弧氧化
- 一种粘结固体润滑涂层空间低轨环境模拟加速试验方法
- 本发明提供一种粘结固体润滑涂层空间低轨环境模拟加速试验方法，涉及空间环境工程领域。该方法包括：采用真空球盘摩擦试验机对涂有粘结固体润滑涂层的圆盘进行摩擦学性能测试试验，预测粘结固体润滑涂层的真空耐磨寿命；模拟计算；对涂有...
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- Ti6Al4V合金表面离子注入N+C,Ti+N和Ti+C性能研究（英文）被引量：7
- 2019年
- 采用等离子体基离子注入的方法在Ti6Al4V合金表面分别注入N+C、Ti+N和Ti+C元素,注入剂量均为2×10^17ions/cm^2,N+C和Ti+N元素的注入负脉冲偏压为-50kV,Ti+C元素的注入电压分别为-20,-35和-50kV。通过X射线光电子能谱仪(XPS)和X射线衍射仪(XRD)对注入层进行了微观结构分析。结果表明:Ti+C注入层中存在TiC和Ti-O,Ti+N注入层中存在TiN和Ti-O键。采用纳米压痕仪和球盘磨损试验机对注入层的硬度和摩擦学性能进行了研究。结果表明:在相同注入电压下,Ti+C注入层的硬度最高,其次是Ti+N注入层,N+C注入层的硬度最低;Ti+C注入层的硬度随着注入电压的增大而增大,最大硬度为11.2 GPa。50kV注入层Ti+C具有最低的比磨损率,其值为6.7×10^-5 mm^3/N·m,比磨损率较未处理Ti6Al4V基体下降了1个数量级以上,表现出优异的耐磨损性能。
- 冯兴国张凯锋周晖郑玉刚万志华
- 关键词：离子注入XPS
- 一种用于不同尺寸合金阶梯孔均匀微弧氧化的装置
- 本发明公开了一种用于不同尺寸合金阶梯孔均匀微弧氧化的装置，包括带有阶梯孔的合金工件，阳极杆、阴极杆组件，所述阳极杆与正极电缆相连，并与合金工件连接，所述阴极杆组件包括接头杆、中间杆与端部杆，所述接头杆一端负极电缆相连，另...
- 周晖张凯锋胡汉军郑玉刚霍丽霞郝宏苟世宁王叙博
- 文献传递
