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邓坚
作品数:
23
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供职机构:
中国科学院微电子研究所
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合作作者
罗军
中国科学院微电子研究所
赵超
中国科学院微电子研究所
陈大鹏
中国科学院微电子研究所
李俊峰
中国科学院微电子研究所
钟汇才
中国科学院微电子研究所
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23篇
中文专利
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15篇
金属硅化物
15篇
硅化物
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化物
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半导体
11篇
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平坦化
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迁移率
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料层
机构
23篇
中国科学院微...
作者
23篇
赵超
23篇
罗军
23篇
邓坚
9篇
李俊峰
9篇
陈大鹏
7篇
钟汇才
4篇
李春龙
4篇
朱慧珑
4篇
包琦龙
年份
2篇
2019
1篇
2018
3篇
2017
5篇
2016
7篇
2014
5篇
2013
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平坦化处理方法
本申请公开了一种平坦化处理方法。一示例方法可以包括:对材料层进行第一溅射,在进行第一溅射时,以第一掩蔽层遮蔽材料层中溅射的负载条件相对较低的区域;去除第一掩蔽层;以及对材料层进行第二溅射,以使材料层平坦。
朱慧珑
罗军
李春龙
邓坚
赵超
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平坦化处理方法
本申请公开了一种平坦化处理方法。一示例方法可以包括:在材料层中对于溅射的负载条件较高的区域中形成沟槽;以及对材料层进行溅射,以使材料层平坦。
朱慧珑
罗军
李春龙
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半导体器件制造方法
本发明公开了一种半导体器件制造方法,包括步骤:在衬底上形成栅极堆叠结构;执行第一离子注入,在栅极堆叠结构两侧的衬底中注入第一掺杂离子;在衬底和栅极堆叠结构上淀积金属层;执行第一退火,金属层与衬底反应形成金属硅化物的源漏区...
罗军
邓坚
赵超
钟汇才
李俊峰
陈大鹏
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半导体器件制造方法
本发明公开了一种半导体器件制造方法,包括步骤:在衬底上形成栅极堆叠结构,在栅极堆叠结构两侧的衬底中形成源漏区;在栅极堆叠结构以及源漏区上形成栅极保护层;执行离子注入,在源漏区表面形成一层非晶硅区;在栅极堆叠结构以及非晶区...
罗军
邓坚
赵超
钟汇才
李俊峰
陈大鹏
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半导体器件制造方法
本发明公开了一种半导体器件制造方法,包括步骤:在衬底上形成栅极堆叠结构;在栅极堆叠结构两侧形成源漏区和栅极侧墙;在源漏区上淀积第一金属层;执行第一退火,使得第一金属层与源漏区反应,外延生长形成第一金属硅化物;在第一金属硅...
罗军
邓坚
赵超
李俊峰
陈大鹏
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金属硅化物制造方法
本发明公开了一种金属硅化物制造方法,包括步骤:在含硅衬底上形成特征线条;在含硅衬底和特征线条上形成镍基金属层,其中镍基金属层的厚度大于由源漏结深确定的形成镍基金属硅化物所需的最小厚度;执行第一退火,使得镍基金属层与含硅衬...
罗军
邓坚
赵超
钟汇才
李俊峰
陈大鹏
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半导体器件及其制造方法
本发明公开了一种半导体器件及其制造方法,包括:在包含硅元素的衬底上形成栅极堆叠结构;在衬底中形成金属硅化物,以用作源漏区;执行离子注入,向金属硅化物中注入掺杂离子;执行驱动退火,使得金属硅化物与衬底界面处形成介质层。依照...
邓坚
罗军
赵超
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高电子迁移率晶体管的制造方法
一种高电子迁移率晶体管的制造方法,包括:在衬底上形成第一半导体层;在第一半导体层上栅极位置处形成栅极介质层;在第一半导体层上栅极位置之外的区域形成第二半导体层,以在栅极位置处形成凹槽;在凹槽两侧的第二半导体层上形成源极和...
包琦龙
邓坚
罗军
赵超
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半导体器件及其制造方法
本发明公开了一种半导体器件的制造方法,包括:在包含硅元素的衬底上形成栅极堆叠结构;执行离子注入,向衬底中注入掺杂离子;在衬底中形成富镍相硅化物;执行驱动退火,使得富镍相硅化物转变为镍基金属硅化物以用作源漏区,并使得镍基金...
邓坚
罗军
赵超
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半导体器件及其制造方法
本发明公开了一种半导体器件的制造方法,包括:在包含硅元素的衬底上形成栅极堆叠结构;在衬底中形成富镍相硅化物;执行离子注入,向富镍相硅化物中注入掺杂离子;执行驱动退火,使得富镍相硅化物转变为镍基金属硅化物以用作源漏区,并使...
邓坚
罗军
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