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孙汝杰
孙汝杰
作品数:
10
被引量:2
H指数:1
供职机构:
浙江大学
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发文基金:
国家自然科学基金
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相关领域:
电子电信
一般工业技术
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合作作者
吕建国
浙江大学
江庆军
浙江大学
叶志镇
浙江大学
闫伟超
浙江大学
冯丽莎
浙江大学
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浙江大学
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孙汝杰
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材料科学与工...
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用作薄膜晶体管沟道层的非晶氧化物薄膜及其制备方法
本发明公开了用作薄膜晶体管沟道层的非晶氧化物薄膜及其制备方法,所述非晶氧化物薄膜化学式为Zn<Sub>4</Sub>Al<Sub>x</Sub>Sn<Sub>7</Sub>O<Sub>1.5x+18</Sub>(0≦x≦...
吕建国
江庆军
孙汝杰
闫伟超
杨振辉
叶志镇
文献传递
一种紫外探测器及其制备方法
本发明公开了一种紫外探测器及其制备方法,以及一种用作紫外探测器光激活层的非晶氧化物薄膜。该紫外探测器包含衬底、光激活层及一对电极,且光激活层为非晶氧化物薄膜,该非晶氧化物薄膜的化学式为Zn<Sub>4</Sub>Al<S...
吕建国
江庆军
孙汝杰
冯丽莎
朱恒伟
用作薄膜晶体管沟道层的非晶氧化物薄膜及其制备方法
本发明公开的用作薄膜晶体管沟道层的非晶氧化物薄膜,其化学式为Si<Sub>x</Sub>ZnSnO<Sub>2x+3</Sub>,0.06≦<I>x</I>≦0.14,表面粗糙度RMS小于2nm,载流子浓度10<Sup>...
吕建国
吴传佳
叶志镇
张杰
吴萍
陈凌翔
江庆军
孙汝杰
文献传递
一种非晶氧化物半导体薄膜及其制备方法和应用
本发明公开了一种透明非晶氧化物半导体薄膜及其制备方法以及作为沟道层在薄膜晶体管(TFT)中的应用。该氧化物的化学式为Ti<Sub>x</Sub>ZnSnO<Sub>2x+3</Sub>,其中0.02≤x≤0.06。室温条...
吕建国
孙汝杰
江庆军
闫伟超
冯丽莎
叶志镇
文献传递
TiZnSnO非晶氧化物半导体薄膜制备及应用研究
电子产品的迅速更新换代对平板显示提出了大尺寸、高分辨、可弯曲等技术发展要求,非晶氧化物薄膜晶体管(TFT)平板显示技术在这方面显示巨大的应用潜力。非晶InGaZnO(a-IGZO)作为一个经典体系被广泛研究并且已被用于产...
孙汝杰
关键词:
性能评价
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用作薄膜晶体管沟道层的非晶氧化物薄膜及其制备方法
本发明公开了用作薄膜晶体管沟道层的非晶氧化物薄膜及其制备方法,所述非晶氧化物薄膜化学式为Zn<Sub>4</Sub>Al<Sub>x</Sub>Sn<Sub>7</Sub>O<Sub>1.5x+18</Sub>(0≦x≦...
吕建国
江庆军
孙汝杰
闫伟超
杨振辉
叶志镇
文献传递
一种紫外探测器及其制备方法
本发明公开了一种紫外探测器及其制备方法,以及一种用作紫外探测器光激活层的非晶氧化物薄膜。该紫外探测器包含衬底、光激活层及一对电极,且光激活层为非晶氧化物薄膜,该非晶氧化物薄膜的化学式为Zn<Sub>4</Sub>Al<S...
吕建国
江庆军
孙汝杰
冯丽莎
朱恒伟
文献传递
一种非晶氧化物半导体薄膜及其制备方法和应用
本发明公开了一种透明非晶氧化物半导体薄膜及其制备方法以及作为沟道层在薄膜晶体管(TFT)中的应用。该氧化物的化学式为Ti<Sub>x</Sub>ZnSnO<Sub>2x+3</Sub>,其中0.02≤x≤0.06。室温条...
吕建国
孙汝杰
江庆军
闫伟超
冯丽莎
叶志镇
Nb-Zn-Sn-O非晶薄膜的生长与性能
被引量:2
2015年
采用射频磁控溅射技术,成功制备出能用作薄膜晶体管(TFT)沟道层的非晶态Nb-ZnSn-O(NZTO)薄膜。研究了溅射压强、退火处理对NZTO薄膜的材料结构、电学和光学性能的影响,并在溅射功率为120W、溅射压强为0.6Pa且在400℃温度下退火2h后,制备出了电子迁移率达5.5cm2v-1s-1、载流子浓度在1017以下且可见光透射率为80%以上的薄膜。
闫伟超
孙汝杰
陈凌翔
吕建国
叶志镇
关键词:
磁控溅射
非晶态
一种非晶氧化物薄膜晶体管沟道层及其制备方法
本发明公开了用作薄膜晶体管沟道层的非晶氧化物薄膜及其制备方法,所述非晶氧化物薄膜化学式为Zn<Sub>4</Sub>In<Sub>7-x</Sub>Sn<Sub>x</Sub>O<Sub>0.5x+14.5</Sub>(...
吕建国
江庆军
孙汝杰
冯丽莎
叶志镇
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