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薛峰

作品数：3 被引量：3H指数：1
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相关领域：金属学及工艺一般工业技术机械工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 3篇金属学及工艺
  • 1篇机械工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇涂层
  • 1篇稳定性
  • 1篇负载率
  • 1篇PCVD
  • 1篇SI
  • 1篇SIN
  • 1篇TI
  • 1篇TIALN
  • 1篇TIN/TI
  • 1篇N

机构

  • 3篇成都工具研究...

作者

  • 3篇吴春涛
  • 3篇薛峰
  • 2篇曾祥才
  • 2篇周应涛
  • 1篇周彤
  • 1篇胡恒宁

传媒

  • 3篇工具技术

年份

  • 1篇2017
  • 2篇2015
共 3 条 记 录，以下是 1-3
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排序方式：
添加元素对TiAlN涂层性能影响的研究现状被引量：3
2015年
综述了Ti Al N涂层的特征,以及添加单一元素(Cr、Si、V、Mo、Y、Zr、B)对三元基Ti-Al-N涂层性能的影响。各种元素添加对涂层的性能影响作用点有所不同,但总体上均能提高涂层的综合性能。可进一步加强多组元元素添加对Ti Al N涂层性能影响的综合研究。
薛峰曾祥才吴春涛周应涛
关键词：涂层
负载率对多层复合化学涂层工艺稳定性影响的研究
2017年
从改变负载率入手,借助球痕仪、扫描电子显微镜、X射线衍射仪、EDX等先进检测设备,研究多层复合化学涂层工艺的稳定性问题。结果表明,负载率不可能超过50%,大多看似不同的装载量,单层负载率较高,其实总负载率约为10%-20%,对涂层工艺的稳定性影响较小,产品性能总体稳定,总负载率大于20%以上的稳定性情况还有待进一步验证。
薛峰吴春涛周应涛彭前飞
关键词：负载率稳定性
混合气体比例对脉冲直流PCVD制备TiN/TiSiN涂层的影响
2015年
采用工业用直流脉冲等离子体增强化学气相沉积PCVD技术在硅烷、氢气和氮气的混合气氛下成功制备了Ti Si N涂层,重点讨论了混合气体比例对薄膜性能的影响。结果表明:当混合气体中H2∶N2为4∶1、硅烷流量为2sccm时,Ti N/Ti Si N涂层中硅含量为8.01at%,此时,获得此工艺薄膜的最高硬度为28GPa。
吴春涛周彤曾祥才薛峰胡恒宁
关键词：PCVDTISIN
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共1页<1>
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