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袁苑

作品数:2 被引量:3H指数:1
供职机构:浙江大学材料科学与工程学系硅材料国家重点实验室更多>>
发文基金:国家教育部博士点基金国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学机械工程更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇理学
  • 1篇机械工程

主题

  • 2篇射线衍射
  • 2篇X射线衍射
  • 1篇氧化铅
  • 1篇无损检测
  • 1篇溅射
  • 1篇溅射制备
  • 1篇光谱
  • 1篇反射光
  • 1篇反射光谱
  • 1篇UV-VIS
  • 1篇ALGAN
  • 1篇HRXRD
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射
  • 1篇磁控溅射制备

机构

  • 2篇浙江大学
  • 1篇杭州电子科技...

作者

  • 2篇季振国
  • 2篇袁苑
  • 1篇黄伟霞
  • 1篇胡彬彬
  • 1篇毛启楠
  • 1篇霍丽娟
  • 1篇席俊华
  • 1篇冯丹丹
  • 1篇陈敏梅
  • 1篇郝芳

传媒

  • 1篇材料科学与工...
  • 1篇真空科学与技...

年份

  • 1篇2008
  • 1篇2006
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
直流反应磁控溅射制备氧化铅薄膜被引量:2
2006年
通过直流反应磁控溅射的方法制备了氧化铅薄膜,并通过XRD和紫外-可见光(UV-Vis)吸收谱对薄膜的晶体结构和光学性能进行了表征。我们发现,直流反应磁控溅射金属铅靶可以形成三种氧化铅薄膜,即非晶态PbO,正交晶系的-βPbO,以及四方晶系的Pb3O4。X射线衍射结果表明,衬底温度和氧气流量对薄膜的生长有很大的影响。当衬底温度小于300℃时,薄膜呈非晶状态,当衬底温度超过300℃时,薄膜开始结晶。另外,氧气流量的改变引起薄膜晶体结构的明显变化。当氧气流量较小时,薄膜为立方相结构的PbO;随着氧气流量的增加,薄膜的晶体结构发生改变,生成四方相结构的Pb3O4的薄膜。UV-Vis吸收谱测试结果表明,不同条件下制备的氧化铅薄膜的UV-Vis吸收谱明显不同。
胡彬彬季振国袁苑霍丽娟黄伟霞
关键词:氧化铅磁控溅射X射线衍射
利用HRXRD和UV-Vis反射光谱确定AlGaN/GaN/Al2O3的结构与成分被引量:1
2008年
结合紫外-可见光谱和高分辨XRD两种测试方法,无损、可靠地确定了AlGaN/GaN HEMT结构内各层的厚度、成分、应力等参数,解决了高分辨XRD无法同时确定成分与应力的难题。这两种方法的好处是样品不需经过特殊的处理,也不需进行切割、减薄等工艺,具有快速、无损、准确的特点,可以作为AlGaN/GaNHEMT器件的筛选工具,提高器件的成品率、降低生产成本。
季振国冯丹丹席俊华毛启楠袁苑郝芳陈敏梅
关键词:X射线衍射无损检测
共1页<1>
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