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胡学骏

作品数：1 被引量：0H指数：0
供职机构：华中科技大学更多>>
相关领域：化学工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇化学工程

主题

  • 1篇磁盘

机构

  • 1篇华中科技大学

作者

  • 1篇罗敢
  • 1篇胡学骏

传媒

  • 1篇磁记录材料

年份

  • 1篇1995
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
影响磁盘光刻图形质量的因素分析
1995年
本文叙述了影响光刻伺服图形质量的各种因素，主要可分为磁盘光刻过程中半导体工艺产生的质量误差和机械定位不准产生的伺服图形偏心误差。
罗敢胡学骏赫连娜
关键词：磁盘
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共1页<1>
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