刘贤超
- 作品数：4 被引量：0H指数：0
- 供职机构：四川师范大学物理与电子工程学院更多>>
- 发文基金：国家重点实验室开放基金四川省教育厅重点项目更多>>
- 相关领域：电子电信理学机械工程更多>>
- 透明微球的聚光性质及微球阵列光刻的研究
- 随着集成电路和集成光路的进一步发展，光刻技术特别是低成本、简单、高效的纳米尺度的光刻技术的研究越显重要。由于光学衍射极限的存在，很大程度上阻碍了高分辨光刻技术的发展。早些年发展起来的电子束光刻和聚焦离子束光刻都能实现几十...
- 刘贤超
- 关键词：光刻胶
- 文献传递
- 一种大面积二维石英纳米结构制备的工艺研究
- 2015年
- 介绍一种采用紫外(363.8nm)激光干涉光刻得到大面积二维纳米点阵结构的方法,该技术具有操作简单、光路搭建成本低、可以大面积加工微纳图形结构等优点;并利用等离子体刻蚀传递,获得周期为200nm的二维石英纳米点阵结构。通过光刻工艺与反应离子束刻蚀工艺的优化,得到加工二维石英点阵的最优制备工艺。利用扫描电子显微镜(SEM)与原子力显微镜(AFM)对制备二维纳米图形结构进行表征与分析,并利用紫外可见光分光光度计对制备的二维点阵结构图形进行紫外透过率测试,发现加工的二维结构在365nm处的透过率仍大于90%,符合紫外固化纳米印掩模板对紫外光高透过率的要求。
- 郑杰李玲吕厚祥王诗琴宫云志刘贤超
- 关键词：激光干涉光刻等离子体刻蚀
- 双Bowtie纳米光刻结构的聚焦特性研究
- 2017年
- Bowtie孔径结构已被广泛用于纳米直写光刻领域来获得超衍射聚焦光斑。然而,利用该结构获得的超衍射聚焦光斑呈椭圆形,影响了Bowtie结构的进一步应用。为了获得超衍射且圆形对称的聚焦光斑,本文提出了双Bowtie新型纳米光刻结构并利用Comsol软件仿真模拟了该结构的焦斑对称特性和电场增强特性。结果表明利用双Bowtie结构获得了圆形对称焦斑,并且出射面的电场强度得到了增强,是入射面电场强度的22倍。本文进一步将双Bowtie结构与金属/介质/金属结构相结合,使得局域增强后的透射光的传输距离(工作距)得到了显著延长。
- 郑杰刘贤超黄跃容刘昀玥陈卫东李玲
- Cr光栅掩模对金属平板超透镜成像质量的影响
- 2015年
- 利用有限元法并结合射频磁控溅射法制备不同厚度Cr膜的透光率的研究,模拟了金属平板超透镜近场成像特性.研究了作为"物"的Cr光栅掩模厚度、占空比对超透镜成像质量的影响.研究结果表明:成像系统的对比度随光栅掩模厚度的增加而增大,当厚度大于50 nm,达到一个稳定值;在相同掩模厚度下,成像系统的像平面随着光栅线宽W的增加而变远;在相同厚度变化范围内,W越大,对比度的变化范围(△C)和像平面位置的变化范围(△y)也都越大,但前者变化更大.研究表明:Cr光栅掩模的厚度、占空比对成像质量有明显的影响.
- 王诗琴宫云志吕厚祥刘贤超郑杰张涛谢征微陈卫东李玲
- 关键词：成像质量
