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曹章轶

作品数:5 被引量:10H指数:2
供职机构:华东师范大学理工学院纳光电集成与先进装备教育部工程研究中心更多>>
发文基金:上海市科委纳米专项基金教育部科学技术研究重点项目更多>>
相关领域:理学化学工程电子电信医药卫生更多>>

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 2篇理学
  • 1篇化学工程
  • 1篇电子电信
  • 1篇医药卫生
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 4篇纳米
  • 2篇多层膜
  • 2篇碳纳米管
  • 2篇气相沉积
  • 2篇纳米多层膜
  • 2篇纳米管
  • 2篇晶体
  • 2篇晶体生长
  • 2篇化学气相
  • 2篇化学气相沉积
  • 2篇场致发射
  • 1篇电镜
  • 1篇扫描电子显微...
  • 1篇射电
  • 1篇丝网印刷
  • 1篇碳化硅
  • 1篇碳化硅材料
  • 1篇碳源
  • 1篇透射电镜
  • 1篇晶体结构

机构

  • 5篇华东师范大学
  • 2篇上海交通大学

作者

  • 5篇曹章轶
  • 2篇劳技军
  • 2篇董云杉
  • 2篇孙卓
  • 2篇李戈扬
  • 2篇郭平生
  • 2篇陈奕卫
  • 2篇孔明
  • 1篇张哲娟
  • 1篇陈婷

传媒

  • 1篇物理学报
  • 1篇无机材料学报
  • 1篇电子显微学报

年份

  • 1篇2007
  • 2篇2006
  • 2篇2004
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
场致发射阴极碳纳米管的热化学气相沉积法低温生长被引量:3
2007年
结合丝网印刷和过滤阴极真空电弧法、离子束溅射方法,在普通玻璃衬底上制备催化剂图案,采用低温热化学气相沉积法(CVD)生长碳纳米管/纤维(CNTs)薄膜.研究了不同种类催化剂对CNTs薄膜生长及其场发射的影响.结果表明,在a-C:Co,Ni-Cu和Cu三种催化剂上没有获得明显的CNTs,在外加电场小于4.4V/μm时没有观察到场发射;而在Ni-Fe及Ni-Cr两种催化剂上获得了大量的CNTs,并且表现出良好的场发射性能,开启电场为2.5V/μm.这种热CVD有简单、低温等优点,在CNTs场发射显示器的阴极制备中有潜在的应用价值.
郭平生陈婷曹章轶张哲娟陈奕卫孙卓
关键词:化学气相沉积场致发射碳纳米管扫描电子显微镜
纳米多层膜中晶体生长的互促效应被引量:2
2004年
劳技军曹章轶孔明董云杉李戈扬
关键词:纳米多层膜晶体生长碳化硅材料晶体结构分析
碳纳米管场发射阴极的制备及优化
本文采用低温低压化学气相沉积(CVD)方法在金属衬底上直接生长碳纳米管薄膜,并分别运用薄膜和厚膜工艺,制作场发射阴极。研究了沉积工艺、后处理工艺等对碳纳米管薄膜场致电子发射性能的影响。 本文主要研究结果如下: ...
曹章轶
关键词:碳纳米管化学气相沉积丝网印刷场致发射
文献传递
纳米多层膜中晶体生长的互促效应
<正> 由两种材料以纳米量级交替沉积形成多层结构时,由于一沉积层的“模板”效应,另一沉积层可以形成非平衡相并在一定的厚度范围内稳定存在。本文的研究发现,在纳米多层膜中,不但存在使非晶层晶化的模板效应,而且,由此效应形成的...
劳技军曹章轶孔明董云杉李戈扬
文献传递
碳源流量对碳纳米管厚膜形貌和结构的影响被引量:5
2006年
采用低压化学气相沉积(LPCVD)在镍片上制备了厚度在400-1000μm范围的碳纳米管(CNTs)薄膜,研究了碳源(乙炔)流量对碳纳米管薄膜形貌和结构的影响.随乙炔流量的增加,碳纳米管薄膜厚度和产量增大.电子显微镜和拉曼光谱研究结果表明,在乙炔流量为 10sccm下制备的碳纳米管直径分布范围最小(10—100nm),石墨化程度最高,缺陷密度最小, 晶形最完整.随着乙炔流量的增大(30-90sccm),碳纳米管的直径分布范围增大(10-300nm), 石墨化程度降低,缺陷密度增大,非晶化程度增加.因此,通过碳源流量可以控制碳纳米管薄膜的形貌和结构.
曹章轶孙卓郭平生陈奕卫
共1页<1>
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