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曹明珠

作品数：1 被引量：1H指数：1
供职机构：南京大学更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇电路
  • 1篇散射
  • 1篇退火
  • 1篇热退火
  • 1篇快速热退火
  • 1篇喇曼
  • 1篇喇曼散射
  • 1篇集成电路
  • 1篇VLSI
  • 1篇超大规模集成
  • 1篇超大规模集成...
  • 1篇大规模集成电...
  • 1篇WSI

机构

  • 1篇南京大学
  • 1篇南京理工大学

作者

  • 1篇华文玉
  • 1篇陈存礼
  • 1篇曹明珠

传媒

  • 1篇应用科学学报

年份

  • 1篇1991
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
应用于超大规模集成电路的新材料WSi_2的快速热退火形成被引量：1
1991年
用喇曼散射、扫描电镜、转靶X射线衍射、俄歇电子能谱和电阻率的测量研究了共溅射W-Si薄膜经真空15秒快速热退火后形成WSi_2的行为.在331和450cm^(-1)处有两个WSi_2的特征喇曼峰.随着快速热退火温度的升高,WSi_2的晶化不断增强.发现WSi_2中伴有W_5Si_3相存在,但其行为仍显示为WSi_2的特征.
陈存礼曹明珠华文玉
关键词：VLSI快速热退火喇曼散射
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共1页<1>
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