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郝娟

作品数:8 被引量:1H指数:1
供职机构:西安理工大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:一般工业技术金属学及工艺自动化与计算机技术经济管理更多>>

文献类型

  • 3篇学位论文
  • 3篇专利
  • 2篇期刊文章

领域

  • 3篇金属学及工艺
  • 3篇一般工业技术
  • 1篇经济管理
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 3篇离化
  • 3篇TIN薄膜
  • 2篇双级
  • 2篇温度降
  • 2篇脉冲电场
  • 2篇工件
  • 2篇反应气体
  • 2篇伏安特性
  • 2篇高频
  • 2篇超声波清洗
  • 2篇TIN
  • 1篇电流
  • 1篇电流密度
  • 1篇镀层
  • 1篇多级供应链
  • 1篇允许缺货
  • 1篇润滑
  • 1篇双金属
  • 1篇体积
  • 1篇体积分数

机构

  • 8篇西安理工大学

作者

  • 8篇郝娟
  • 5篇杨超
  • 2篇蒋百灵
  • 2篇曹政
  • 1篇吴祥
  • 1篇王旭
  • 1篇董丹
  • 1篇张静
  • 1篇颜国君

传媒

  • 2篇稀有金属材料...

年份

  • 1篇2023
  • 2篇2021
  • 1篇2020
  • 1篇2019
  • 2篇2018
  • 1篇2015
8 条 记 录,以下是 1-8
排序方式:
不同放电模式对粒子获得方式及TiN薄膜微观结构的影响
2021年
在当前薄膜制备技术中,电弧离子镀因靶材表面发生电弧放电局部熔融,导致沉积粒子中夹杂微米尺度高温颗粒,引发薄膜表面粗糙和基体高温损伤;直流磁控溅射因辉光放电产生的等离子体碰撞溅射靶材表面,导致溅射出的粒子离化率低,引起薄膜厚度不均和组织疏松。为解决以上问题,依据气体放电等离子体物理学知识,采用新型阶梯式双级脉冲电场诱发阴极靶材与阳极腔体间气体微弧放电,依靠微弧放电后产生的高密度等离子体,增强Ar^(+)对靶面的轰击动能和靶面产生的焦耳热,实现将粒子的获得方式由碰撞溅射转变为热发射方式,以此提高粒子的离化率,达到改善薄膜结构的目的。实验结果表明:双级脉冲电场诱发的气体微弧放电呈现出耀眼白光,靶面形貌表现出高低起伏的凹坑及水流波纹,此形貌不同于粒子碰撞溅射后的多边形凹坑形貌,说明靶面局部区域的粒子发生了热发射现象。同时,制备的TiN薄膜具有较为致密的组织,且沉积速率可达51 nm/min。
杨超郝娟蒋百灵王旭王戎周克崧
关键词:TIN薄膜
一种高频振荡脉冲磁控溅射方法
一种高频振荡脉冲磁控溅射方法,包括以下步骤,1)将等待镀膜的样品分别浸泡在丙酮和酒精溶液中超声波清洗,吹干,放置于真空腔内样品工件架上,抽真空,通入氩气;2)开启高频振荡脉冲型靶电源和脉冲负偏压基体电源对样品表面进行离子...
杨超蒋百铃曹政王戎郝娟
文献传递
一种自润滑挤压模具的双金属组合制造方法
本发明提出了一种自润滑挤压模具的双金属组合制造方法,其上模工头镶件和下模内腔镶件用共晶石墨钢制造,而上模和下模的其他部分用H13钢制造;共晶石墨钢由以下元素组成:C:3.62~3.7wt%,Si:2.3~2.56wt%,...
杨超颜国君蒋百铃刘保建董丹郝娟
双级脉冲电场伏安特性对镀料脱靶机制及TiN镀层沉积行为的影响
针对传统直流磁控溅射镀料离化率低、电弧离子镀镀料夹杂微米大颗粒及高功率脉冲磁控溅射沉积效率低等技术缺憾,依据靶而品界、缺陷等处在受强等离子体轰击和焦耳热的双重作用下会产生微区热点,导敛靶而镀料热反射脱靶的等离子体物理学原...
郝娟
关键词:TIN镀层伏安特性
气体放电伏安特性对TiN薄膜结构及性能的影响
依据真空离子镀环境下靶电流之本质是真空腔内电子由阴极(靶材)向阳极迁移的通量,及在dV/dI>0向dV/dI<0转变过程中,由阴极靶材至阳极腔壁的电子迁移通量单调增大,而阴阳极间电位差则表现出先增后减的非稳态规律,提出了...
郝娟
关键词:TIN薄膜伏安特性
文献传递
考虑允许缺货的多级供应链网络构建与仿真优化
随着市场多元化发展,企业竞争日趋激烈,制造企业所处的供应链网络也发生了巨大变化。客户需求日益增长,产品周期逐渐缩短,供应链网络结构变得错综复杂。为了共同的效益最大化,本文在分析制造业供应链协同管理的基础上,对供应链生产-...
郝娟
关键词:供应链网络建模仿真WITNESS
文献传递
一种高频振荡脉冲磁控溅射方法
一种高频振荡脉冲磁控溅射方法,包括以下步骤,1)将等待镀膜的样品分别浸泡在丙酮和酒精溶液中超声波清洗,吹干,放置于真空腔内样品工件架上,抽真空,通入氩气;2)开启高频振荡脉冲型靶电源和脉冲负偏压基体电源对样品表面进行离子...
杨超蒋百铃曹政王戎郝娟
辉弧放电过渡区间靶电流密度对TiN薄膜结构及性能的影响
2018年
通过可调脉冲电源控制模式将气体放电伏安特性引至辉弧放电过渡区间,并在不同的电流密度条件下制备了TiN薄膜,采用XRD,SEM,TEM,纳米压痕仪与涂层附着力自动划痕仪等表征方法对比研究了辉弧放电过渡区间靶电流密度对薄膜组织结构、硬度及膜基结合强度的影响。结果表明,随着电流密度增大,镀料粒子由溅射环境的碰撞脱靶逐渐转变为碰撞增强热发射脱靶,具有更高密度、高离化、高能量的沉积粒子;薄膜由非晶态逐渐转变为晶态,具有更为良好的表面质量和致密程度,且薄膜的硬度、膜基结合力分别由13.4 GPa、2.4 N提高至24.7 GPa、21.6 N。
郝娟蒋百灵杨超吴祥张静丁郁航
关键词:电流密度TIN薄膜
共1页<1>
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