您的位置: 专家智库 > >

翟科

作品数:9 被引量:7H指数:2
供职机构:辽宁工业大学更多>>
发文基金:辽宁省科学技术计划项目中央级公益性科研院所基本科研业务费专项更多>>
相关领域:理学一般工业技术电子电信机械工程更多>>

文献类型

  • 5篇专利
  • 3篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 4篇一般工业技术
  • 4篇理学
  • 3篇电子电信
  • 1篇机械工程
  • 1篇医药卫生

主题

  • 6篇抛光
  • 5篇压电振子
  • 4篇化学机械抛光
  • 4篇机械抛光
  • 3篇压电换能器
  • 3篇声波
  • 3篇声传播
  • 3篇抛光装置
  • 3篇匹配层
  • 3篇换能器
  • 3篇复合压电振子
  • 3篇高频超声
  • 3篇超声
  • 2篇电极
  • 2篇多电极
  • 2篇振动
  • 2篇振子
  • 2篇流体
  • 2篇流体层
  • 2篇径向

机构

  • 9篇辽宁工业大学

作者

  • 9篇翟科
  • 8篇何勍
  • 5篇任奕
  • 1篇李亮

传媒

  • 2篇纳米技术与精...
  • 1篇机械设计与制...

年份

  • 1篇2019
  • 1篇2018
  • 2篇2017
  • 5篇2016
9 条 记 录,以下是 1-9
排序方式:
多振子兆声压电换能器及其复合抛光应用研究
本文以声波多层透射理论为基础,设计并制作了兆赫频的超声复合抛光振子,以集成电路衬底材料单晶硅片为抛光对象,将兆赫频的超声振动作用于硅片的化学机械抛光过程。首先,基于声波传播的透射理论,分析了声波透过双层中间层、三层中间层...
翟科
关键词:化学机械抛光压电振子声传播
文献传递
一种均匀兆声作用的基片处理压电换能器
一种均匀兆声作用的基片处理压电换能器,它包括压电陶瓷基体及压电陶瓷基体表面电极,其特殊之处是,所述的压电陶瓷基体表面电极为多电极分区,分区后各电极区间各自独立或各电极互连,各电极之间的间隔距离小于压电陶瓷基体厚度,且各分...
翟科何勍任奕
一种利用匹配层复合压电振子高频超声抛光装置及方法
一种利用匹配层复合压电振子高频超声抛光装置及方法,涉及一种超声波复合抛光的装置及方法,装置由超声振动附加系统和传统化学机械抛光系统两部分组成;超声附加系统包括压电陶瓷、匹配层Ⅰ、被抛光件,以及相应的电输入设备;该方法由压...
何勍翟科
一种利用匹配层复合压电振子高频超声抛光装置
一种利用匹配层复合压电振子高频超声抛光装置,涉及一种超声波复合抛光的装置,所述装置包括压电陶瓷(1)、匹配层Ⅰ(2)、匹配层Ⅱ(3)、电刷滑环(4)、砝码(5)、抛光液(6)、抛光垫(7)、抛光工作台(8),电刷滑环(4...
何勍翟科
文献传递
兆声化学机械复合抛光及其抛光均匀性的实现被引量:1
2017年
在匹配层结构压电换能器的基础上,通过对兆声压电振子的振动模式进行控制,在横向尺度上实现了兆声抛光工具头振动振幅的均匀化,进而开展了有/无兆声作用下硅片的化学机械抛光实验.抛光后,无兆声作用硅片的表面粗糙度Ra均值达到0.072μm,兆声作用硅片的表面粗糙度Ra均值达到0.020μm.测量了被抛光硅片的平面度,相对于无兆声作用硅片的平面度的PV值28μm,兆声作用硅片PV值显著下降,为21μm.可见,相对于传统化学机械抛光,兆声化学机械复合抛光能够有效地改善原有抛光工艺,提高硅片抛光表面质量,实现其抛光均匀性.
翟科任奕李亮何勍
关键词:化学机械抛光硅片均匀性
一种均匀兆声作用的基片处理压电换能器
一种均匀兆声作用的基片处理压电换能器,它包括压电陶瓷基体及压电陶瓷基体表面电极,其特殊之处是,所述的压电陶瓷基体表面电极为多电极分区,分区后各电极区间各自独立或各电极互连,各电极之间的间隔距离小于压电陶瓷基体厚度,且各分...
翟科何勍任奕
文献传递
一种兆赫频超声抛光振子的设计与研究被引量:2
2018年
在声波透射与折射基本理论的基础上,设计制作了匹配层压电换能器结构的兆声抛光振子,提高了兆赫频超声抛光工具的声能量辐射效率。此外,通过对兆声压电振子的振动模式进行控制,消除了高频圆片型压电振子本身存在的强烈的耦合振动效应。在制作完成兆声抛光振子的基础上,对抛光振子工作端的振动振幅进行了测试,在横向尺度上满足了兆声抛光工具头振动振幅均匀化的要求。实现了一种用于硅片化学机械抛光的兆声抛光振子。为大尺寸硅片的化学机械抛光工艺提供了可借鉴的附加技术手段。
何勍翟科李亮任奕
关键词:化学机械抛光声传播压电振子
液固耦合传递兆声振动复合化学机械抛光研究被引量:3
2016年
采用液固耦合形式的抛光工具头,实现了兆声作用的柔性灵活附加,计算了多层中间介质情况下的声能量透射率,在此基础上开展了兆声作用下的硅片化学机械抛光实验研究.结果表明,较之传统抛光,在兆声复合抛光作用下硅片的表面质量得到了明显的改善.其中,研磨硅片的粗抛光过程,兆声复合抛光硅片的表面粗糙度Ra均值由0.330 4μm下降到0.075 0μm,传统抛光硅片的Ra均值则由0.310 9μm下降到0.090 3μm;抛光硅片的二次精抛过程,兆声复合抛光硅片的Ra均值降至0.495 nm,传统抛光硅片Ra均值达到0.560 nm.
翟科任奕何勍
关键词:声传播硅片化学机械抛光
一种利用匹配层复合压电振子高频超声抛光装置及方法
一种利用匹配层复合压电振子高频超声抛光装置及方法,涉及一种超声波复合抛光的装置及方法,装置由超声振动附加系统和传统化学机械抛光系统两部分组成;超声附加系统包括压电陶瓷、匹配层Ⅰ、被抛光件,以及相应的电输入设备;该方法由压...
何勍翟科
文献传递
共1页<1>
聚类工具0