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王晓婧

作品数:8 被引量:27H指数:4
供职机构:中央研究院更多>>
发文基金:国家科技重大专项湖南省重点学科建设项目中国科学院战略性先导科技专项更多>>
相关领域:金属学及工艺一般工业技术核科学技术更多>>

文献类型

  • 8篇中文期刊文章

领域

  • 7篇金属学及工艺
  • 3篇一般工业技术
  • 1篇核科学技术

主题

  • 5篇多弧离子镀
  • 5篇离子镀
  • 4篇合金
  • 3篇涂层
  • 3篇锆合金
  • 3篇结合力
  • 3篇表面形貌
  • 2篇涂层结合力
  • 2篇腐蚀性
  • 1篇氮碳共渗
  • 1篇电流
  • 1篇电流密度
  • 1篇液滴
  • 1篇占空比
  • 1篇熔盐堆
  • 1篇射频磁控
  • 1篇射频磁控溅射
  • 1篇渗氮
  • 1篇渗氮层
  • 1篇镍基

机构

  • 8篇中央研究院
  • 6篇南华大学
  • 1篇北京科技大学
  • 1篇中国科学院上...

作者

  • 8篇王晓婧
  • 7篇李怀林
  • 5篇邱长军
  • 5篇王浩然
  • 5篇曾小安
  • 5篇张文
  • 4篇刘艳红
  • 4篇刘艳红
  • 1篇陆燕玲
  • 1篇樊湘芳
  • 1篇周兴泰
  • 1篇杨超
  • 1篇李涛

传媒

  • 3篇金属热处理
  • 1篇材料保护
  • 1篇表面技术
  • 1篇稀有金属
  • 1篇稀有金属与硬...
  • 1篇真空科学与技...

年份

  • 2篇2018
  • 5篇2017
  • 1篇2016
8 条 记 录,以下是 1-8
排序方式:
锆合金表面渗氮层对TiAlN涂层结合力的影响被引量:7
2018年
对锆合金基材表面分别进行离子渗氮和气体氮碳共渗,然后采用多弧离子镀技术在锆合金渗氮层表面制备Ti Al N涂层,并与锆合金基材表面直接制备的Ti Al N涂层进行对比,研究渗氮层对涂层结合力的影响。用立式万能摩擦磨损试验机进行摩擦磨损试验;用显微硬度计测试显微硬度;用洛氏硬度计进行压痕试验;用划痕仪测试膜基结合力。试验结果表明:锆合金经过渗氮处理其表面摩擦因数保持稳定;表面硬度和膜基结合力均有所提升,且气体氮碳共渗后的表面硬度和膜基结合力比离子渗氮略高。
李涛樊湘芳胡汝骞刘兵兵刘艳红王晓婧
关键词:锆合金离子渗氮气体氮碳共渗
熔盐堆结构材料的涂层技术研究被引量:3
2016年
熔盐堆中使用的结构材料除了要保证高温力学性还要在高温下与熔盐具有良好的相容性,本文拟采用涂层技术,在高温力学性能较好的镍基合金上沉积一层耐氟盐腐蚀的纯镍金属层,解决镍基合金与高温氟盐相容性差的问题。纯镍金属层采用脉冲电沉积的方法获得,系统研究了电流密度对涂层性能的影响,并通过扫描电镜(SEM)和X射线衍射(XRD)等测试手段对涂层微观形貌、结构特征等进行分析。结果表明,随着电流密度的增加,涂层厚度呈线性增加,电流密度为40 m A·cm-2时,涂层厚度达102μm;而涂层织构系数(TC)在不同电流密度下都呈现(111)晶面增大而(200)晶面减小的趋势,织构强弱变化的本质与镍晶体不同晶面的表面能大小、沉积过电位、Ni(OH)2和氢原子对生长晶面的吸附作用有关;涂层显微硬度随着电流密度增大呈现出增加趋势。
刘艳红杨超王晓婧李怀林陆燕玲周兴泰
关键词:熔盐堆电流密度镍基合金微观结构显微硬度
负偏压对纯Cr涂层表面液滴及涂层结合力的影响被引量:4
2017年
采用多弧离子镀技术于不同负偏压条件下在锆合金表面沉积纯Cr涂层。利用扫描电子显微镜、X射线衍射仪和划痕仪分析了纯Cr涂层表面形貌和择优生长取向变化规律,并对涂层膜基结合力进行表征。结果表明:负偏压不同,纯Cr涂层上液滴分布和择优生长取向都有较大的影响。其中随着负偏压的增加,纯Cr涂层表面液滴的数量和尺寸先减少后增加的趋势,同时纯Cr涂层晶体择优生长趋势由(200)晶面转向(110)晶面;纯Cr涂层的膜/基结合力随负偏压的增加逐渐增大。
曾小安邱长军张文王浩然王晓婧刘艳红李怀林
关键词:多弧离子镀液滴
多弧离子镀气压对纯Cr涂层表面形貌和耐腐蚀性的影响被引量:1
2017年
采用多弧离子镀技术在锆合金表面制备纯Cr涂层,利用扫描电镜(SEM)与Image J图像处理软件综合分析了纯Cr涂层的表面形貌,并对表面大颗粒的尺寸和数目进行了统计和分析;采用X射线衍射仪(XRD)对涂层的相结构进行了分析;利用划痕仪和电化学工作站分析了气压对纯Cr涂层膜基结合力和耐腐蚀性的影响。结果表明:随着气压的升高,纯Cr涂层表面微坑缺陷减小,大颗粒数目和直径呈明显下降趋势,膜层结合力及耐腐蚀性增大。纯Cr涂层沿(110)晶面择优生长,1.6 Pa时,涂层的结合力达到最大值26 N,耐蚀性最佳。
王浩然邱长军曾小安张文王晓婧刘艳红李怀林
关键词:多弧离子镀气压表面形貌耐蚀性
占空比对多弧离子镀纯Cr涂层表面形貌的影响被引量:4
2017年
利用多弧离子镀技术于不同的占空比条件下在锆合金表面制备出纯Cr涂层,采用扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射仪(XRD)分析了纯Cr涂层表面形貌和择优生长取向的变化规律,并利用Image J软件对纯Cr涂层表面的孔隙率进行分析。结果表明:占空比的改变显著影响着纯Cr涂层的微观形貌、择优生长取向和孔隙率。随着占空比的增大,纯Cr涂层的表面大颗粒数目和孔隙率逐渐减少,表面形貌得到改善,同时纯Cr涂层晶体择优生长趋势由(110)晶面转向(200)晶面。
曾小安邱长军张文王浩然王晓婧刘艳红李怀林
关键词:多弧离子镀占空比表面形貌
表面镀Cr膜锆合金的抗高温氧化性能研究被引量:5
2017年
采用多弧离子镀膜技术在锆合金表面制备了厚度约为12μm的Cr金属层,研究了镀Cr试样在1 200℃高温下的氧化行为及膜层与基体之间的结合力。SEM分析结果表明,多弧离子镀膜层厚度均匀,表面平整,膜基界面分明,但表面存在大量的微孔洞及大颗粒。高温氧化实验结果表明,镀膜试样的抗高温氧化性能明显优于原始锆合金,在1 200℃下氧化2 400s后表面形成了大量的Cr_2O_3,其单位面积增重仅为原始锆合金的12%。划痕实验结果表明,镀膜试样可承受的临界载荷为18N,膜层与基体之间的结合性能良好。
张文邱长军曾小安王浩然王晓婧刘艳红李怀林
关键词:锆合金多弧离子镀抗高温氧化性
温度对纯Cr涂层表面形貌和抗腐蚀性能的影响被引量:6
2017年
目的探索温度对纯Cr涂层的抗腐蚀性能和表面形貌的影响。方法采用多弧离子镀技术在锆合金表面制备纯Cr涂层,利用扫描电子显微镜(SEM)与Image J图像处理软件综合分析了纯Cr涂层的表面形貌,并对表面大颗粒的数目及其尺寸大小进行了统计和分析。采用X射线衍射仪对涂层的相结构进行了分析。利用划痕仪和电化学工作站,分析了温度对纯Cr涂层的膜基结合力和抗腐蚀性能的影响。结果 380℃时,涂层表面大颗粒的数目及其平均尺寸最大,温度升高到420℃时,其数值最小;当温度进一步提升到450、500℃时,大颗粒的数目、平均尺寸逐渐增大。温度的升高,使纯Cr涂层由(110)晶面择优生长转为(200)晶面择优生长,晶粒尺寸随温度变化的规律为先减小后增大。涂层的结合力和抗腐蚀性能随温度的变化规律与大颗粒数目随温度的变化规律相反,呈先提高后降低的趋势。结论 420℃时,涂层表面大颗粒的数目及其平均尺寸最小,结合力和抗腐蚀性能较强,组织结构致密度高,晶粒细小,表面光滑平整。
王浩然邱长军曾小安张文王晓婧刘艳红李怀林
关键词:温度多弧离子镀抗腐蚀性能
锆合金表面射频磁控溅射SiC涂层制备工艺参数优选被引量:2
2018年
目前,国内针对锆合金包壳涂层技术研究相对较少。通过射频磁控溅射方法在锆合金基体表面沉积Si C涂层,研究了溅射功率、基片加热温度和溅射时间对涂层形貌、结合力和厚度的影响,确定了最佳的工艺参数为溅射功率200 W,加热温度400℃,溅射时间6 h。采用扫描电镜(SEM)及能谱仪(EDS)、扫描成像X射线光电子能谱仪(XPS)和X射线衍射仪(XRD)对该工艺参数下制备的Si C涂层样品进行了成分分析。结果表明,所制备的涂层的主要成分为非晶Si C。对优化Si C涂层样品进行了初步的高温水蒸气氧化试验,证明其具备一定的抗氧化性,但还有待提高。
王晓婧刘艳红刘威李怀林
关键词:射频磁控溅射SIC涂层锆合金结合力
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