您的位置： 专家智库 > >

朱学涛

作品数：1 被引量：3H指数：1
供职机构：北京师范大学核科学与技术学院射线束技术与材料改性实验室更多>>
发文基金：国防科技技术预先研究基金更多>>
相关领域：理学金属学及工艺更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇理学

主题

  • 1篇强流
  • 1篇显微结构
  • 1篇机械性能
  • 1篇铜
  • 1篇表面层
  • 1篇纯铜

机构

  • 1篇北京师范大学

作者

  • 1篇梁昌林
  • 1篇郑瑞廷
  • 1篇程国安
  • 1篇朱学涛

传媒

  • 1篇北京师范大学...

年份

  • 1篇2005
共 1 条 记 录，以下是 1-1
全选 清除 导出
排序方式：
MEVVA源强流Ti离子注入纯铜表面层的结构与性能研究被引量：3
2005年
采用金属蒸气真空弧(MEVVA)离子源技术对强流Ti离子束注入到纯铜表面的结构和性能进行了系统的研究。材料表面层的机械性能测试表明:强流Ti离子注入纯铜后材料表面的硬度和耐磨性均有提高,相对于纯铜基体,5×1017cm-2注量注入可以使材料表面硬度提高2.3倍,使表面摩擦因数下降14%.注入层的X射线结构分析表明:金属离子注入后,在纯铜表面注入层中析出了合金相,合金相的析出是材料的表面硬度和耐磨性提高的主要因素.
程国安梁昌林朱学涛郑瑞廷
关键词：铜显微结构机械性能
全选 清除 导出
共1页<1>
聚类工具0