方诚
- 作品数：5 被引量：1H指数：1
- 供职机构：东华理工大学更多>>
- 发文基金：江西省自然科学基金更多>>
- 相关领域：电子电信理学文化科学机械工程更多>>
- 一种双标尺复摆高精度测量重力加速度试验台
- 本实用新型公开了一种双标尺复摆高精度测量重力加速度试验台，包括操作台，所述操作台的上端固定连接有支撑杆，所述支撑杆的右端设置有凹槽，所述凹槽内设置有双标尺；所述支撑杆与横杆设置有的滑动槽滑动连接，所述支撑杆的上端固定连接...
- 章世晅周琦刘红兵李艳芳方诚
- 文献传递
- 一种刚玉熔盐电解装置
- 一种刚玉熔盐电解装置，它涉及一种熔盐电解装置。它是要解决现有的熔盐电解装置的电解池不耐腐蚀，易污染池内电解质的技术问题。本实用新型的刚玉熔盐电解装置包括壳体、刚玉电解池、刚玉电解池盖、两个超声分散电极、超声分散控制器、远...
- 柳玉辉方诚张爽崔耿堃
- 文献传递
- 一种改良型分光计
- 本实用新型涉及一种分光计，更具体的说是一种改良型分光计，包括底座、调节螺丝、望远镜、顶板、高度调节杆和载物台，分光计上的顶板可以调至水平，并且望远镜的镜筒高度、俯仰角和方向均可进行调节，载物台通过螺纹调节高度，调节精度高...
- 李艳芳李迎谭嘉进方诚姜碧芬李洋
- 文献传递
- 光栅衍射实验中正入射与斜入射的讨论
- 2023年
- 从实验上验证了自准法在光栅衍射实验中调节光栅垂直于入射光(正入射)方法的可行性,分别从实验和理论(数值)上分析了斜入射角度的变化对衍射角测量的影响.结果表明,在斜入射角度不大的情况下由角度偏离所带来的误差并不明显,偏离角度在5°以内所引起的误差在实验允许的范围内,实验结果与理论分析完全一致.
- 李群方诚尧莉
- 关键词：衍射光栅正入射斜入射
- 退火对两种硅基薄膜的结构及发光影响被引量：1
- 2013年
- 采用双离子束共溅射沉积方法制备了两种复合硅基薄膜SiOxCy和SiOxNy薄膜,对两种薄膜进行后退火处理,并分别对样品进行PL、FTIR、XPS谱测试分析,比较退火前后的发光及结构的变化。两种样品的光致发光测试谱(PL)表明:退火前后都有两个发光峰位-都存在470nm的发光峰位,它来自于硅基薄膜中中性氧空位缺陷(O3≡Si-Si≡O3),是由于氧原子配位的二价硅的单态-单态之间的跃迁所致,其发光强度随退火温度的升高而变化。进一步的FTIR和XPS的测试谱表明另外一个发光峰位420nm(SiOxCy薄膜)和400nm(SiOxNy薄膜)分别来自于掺杂杂质(C和N)与硅基薄膜中的Si、O组成的复合结构。而两种样品经过退火处理后掺杂所引起的发光峰位强度随退火温度的升高而增强,说明退火温度的升高有利于发光机制的形成。
- 李群徐小华吕波方诚
- 关键词：掺杂硅基退火光致发光
