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陈程

作品数：2 被引量：1H指数：1
供职机构：南京理工大学电子工程与光电技术学院更多>>
发文基金：江苏省自然科学基金更多>>
相关领域：电气工程电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇电气工程

主题

  • 2篇影响因素
  • 2篇化学腐蚀
  • 2篇碱腐蚀
  • 2篇反射率

机构

  • 2篇南京理工大学

作者

  • 2篇洪玮
  • 2篇陈程

传媒

  • 1篇电子器件
  • 1篇全国第17次...

年份

  • 1篇2017
  • 1篇2015
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
化学腐蚀硅表面结构反射率影响因素的研究
本文针对单晶硅片在碱溶液中的腐蚀过程,利用紫外可见分光光度计来测量硅片表面反射率,发现碱溶液的浓度、腐蚀时间、添加剂的选择(无水乙醇或异丙醇)以及添加剂的浓度均对硅片表面反射率有影响。比较几个因素发现碱溶液的浓度和腐蚀时...
陈程洪玮
关键词：碱腐蚀反射率
文献传递
化学腐蚀硅表面结构反射率影响因素的研究被引量：1
2017年
单晶硅片在碱溶液中的腐蚀会引起表面结构的变化,利用紫外可见分光光度计测量硅片表面反射率,发现碱溶液的浓度、腐蚀时间、添加剂的选择(无水乙醇或异丙醇)以及添加剂的浓度均对硅片表面反射率有影响。比较几个因素发现碱溶液的浓度和腐蚀时间对硅片表面反射率影响最大。当腐蚀温度为80℃,NaOH固体浓度为15 g/L,添加剂无水乙醇体积分数10%时,腐蚀30 min得到硅片反射率最低,达到11.15%。
陈程洪玮
关键词：碱腐蚀反射率
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