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周占福

作品数:4 被引量:1H指数:1
供职机构:中国电子科技集团公司第四十五研究所更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 4篇中文期刊文章

领域

  • 4篇电子电信

主题

  • 2篇光刻
  • 1篇电路
  • 1篇电路制造
  • 1篇端面
  • 1篇找平
  • 1篇视觉
  • 1篇图像
  • 1篇图像处理
  • 1篇图像处理技术
  • 1篇涂胶
  • 1篇物镜
  • 1篇显微镜
  • 1篇晶圆
  • 1篇集成电路
  • 1篇集成电路制造
  • 1篇光刻工艺
  • 1篇光刻机
  • 1篇处理技术
  • 1篇大景深

机构

  • 4篇中国电子科技...

作者

  • 4篇周占福
  • 1篇芦刚

传媒

  • 4篇电子工业专用...

年份

  • 2篇2024
  • 1篇2020
  • 1篇2015
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
接近接触式光刻机三点找平机构研究与应用
2020年
介绍了一种接近接触式光刻机对准工作台找平机构,该机构采用三点找平,容易找平,找平力小,找平时不损伤掩模版和基片涂胶面。结构简单,性能稳定可靠,维修方便。
周占福
关键词:光刻机
大景深显微镜的实现方式
2024年
大景深显微镜能够在不同焦平面上获取清晰的图像,为晶圆的对准提供了强大的支持。为了扩展景深,研究人员提出了多种技术,包括缩小系统孔径、波前编码和光学切趾等。提出了一种扩展景深的新方法,即双焦点物镜对准,该方法操作简单直观,并且可以直接采集对准标记来实现对准,从而极大地提高了对准的准确性和效率。这些技术和方法为大景深显微镜的后续研究奠定了坚实的基础。
刘冰鑫李康平周占福
关键词:集成电路制造显微镜大景深
立体端面光刻工艺研究被引量:1
2015年
立体端面的特种器件,要求在其单侧或者双侧表面光刻出有位置要求的图形。针对这一特种器件的要求,研制了一种可适应立体端面基体的对准工作台及楔形误差补偿机构,并根据立体端面的物理特性,在旋转涂胶法的基础上,研制了适应其涂胶工艺的装夹机构,通过工艺实验,验证了该光刻工艺的可行性。
芦刚周占福
关键词:涂胶光刻工艺
针对键合晶圆的视觉与机械夹持预对准方法设计
2024年
在曝光设备中,预对准先将晶圆进行中心定位和角度找正,经过预对准的晶圆传送到工作台中方向及位置一致,保证设备稳定运行。为能满足键合晶圆的预对准要求,采用视觉与机械夹持的方式,设计预对准结构,获得键合晶圆的兼容性,保证设备对键合晶圆的稳定运行。
李康平刘冰鑫周占福
关键词:图像处理技术
共1页<1>
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