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刘锦华

作品数:20 被引量:10H指数:2
供职机构:中国工程物理研究院核物理与化学研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金中国工程物理研究院科学技术发展基金更多>>
相关领域:一般工业技术理学金属学及工艺核科学技术更多>>

文献类型

  • 10篇期刊文章
  • 10篇会议论文

领域

  • 7篇一般工业技术
  • 6篇金属学及工艺
  • 6篇理学
  • 4篇核科学技术
  • 1篇化学工程
  • 1篇电子电信
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 4篇镀膜
  • 4篇微观结构
  • 4篇TI
  • 4篇
  • 3篇衬底
  • 3篇SC
  • 2篇电子束蒸发
  • 2篇多层膜
  • 2篇性能研究
  • 2篇吸氢
  • 2篇膜形貌
  • 2篇金属
  • 2篇复合膜
  • 2篇SI基
  • 2篇沉积速率
  • 2篇衬底材料
  • 1篇电子能
  • 1篇电子能谱
  • 1篇电阻
  • 1篇电阻加热

机构

  • 20篇中国工程物理...
  • 1篇四川大学

作者

  • 20篇刘锦华
  • 9篇龙兴贵
  • 7篇梁建华
  • 7篇周晓松
  • 5篇姚冰
  • 4篇罗顺忠
  • 4篇吴清英
  • 4篇丁伟
  • 4篇邴文增
  • 3篇郝万立
  • 3篇牟方明
  • 3篇张晓红
  • 3篇程贵钧
  • 3篇付文博
  • 2篇杨本福
  • 2篇涂兵
  • 2篇王维笃
  • 2篇彭述明
  • 1篇张涛
  • 1篇孙洪伟

传媒

  • 3篇稀有金属材料...
  • 3篇原子能科学技...
  • 1篇强激光与粒子...
  • 1篇材料研究学报
  • 1篇核电子学与探...
  • 1篇真空科学与技...
  • 1篇2009全国...
  • 1篇西南地区自动...
  • 1篇第十一届全国...
  • 1篇第八届全国核...
  • 1篇第十三届全国...
  • 1篇第二届中国氚...

年份

  • 1篇2017
  • 1篇2016
  • 3篇2015
  • 4篇2013
  • 3篇2012
  • 1篇2011
  • 2篇2010
  • 2篇2009
  • 1篇2004
  • 2篇2002
20 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
电子束加热与电阻加热蒸发锆膜的结构分析被引量:2
2012年
采用XRD与SEM分析了在钼衬底上电子束加热蒸发与电阻加热蒸发制备的锆膜的结构。结果表明,电子束加热蒸发与电阻加热蒸发在钼衬底上制备的锆膜为hcp结构;电子束加热蒸发的锆膜以(002)晶面生长为主,而电阻加热蒸发的则以(101)与(002)晶面生长为主;电阻加热蒸发的锆膜晶粒呈不规则堆积,大部分尺寸约为1μm,少部分约为500nm;电子束加热蒸发的锆膜织构强烈,晶粒规则,呈六棱柱型,尺寸约为300nm。
梁建华彭述明张晓红刘锦华周晓松龙兴贵
关键词:蒸发电阻加热
沉积速率对EBD制备Si基Sc薄膜结构及形貌的影响被引量:1
2012年
运用电子束蒸发(EBD)镀在Si(111)底衬上沉积了金属Sc膜。在底衬温度为650℃时,研究沉积速率对Sc膜形貌与结构的影响。SEM及XRD分析结果表明:此方法制备的膜表面平整、致密;基底温度对Sc膜结构和表面形貌影响很大,在0.5~10nm/s范围内膜的表面形貌及微观结构以2nm/s为分界线可以分为两大类,低沉积速率时膜由唯一的(001)晶粒取向组成,而高沉积速率时膜的颗粒生长方向除了(001)外,还有很多其他的取向。
吴清英罗顺忠邴文增刘锦华
关键词:电子束蒸发SC沉积速率表面形貌
储氢金属Er/Ti双层膜的制备及吸氘性能研究
在Mo衬底上制备Er/Ti双层膜,并对样品进行氘化实验,使用XRD和SEM研究了氧化层及氘化工艺对Er/Ti双层膜物象结构及表面形貌的影响。结果表明,两种沉积方式制备的Er/Ti膜均为hcp结构,Er膜短暂暴露大气后会迅...
付文博丁伟刘锦华姚冰周晓松龙兴贵
关键词:双层膜脱膜
衬底材料对Ti膜形貌及结构的影响
使用电子束蒸发法在抛光Mo、石英和单晶硅衬底上沉积了Ti薄膜,并用AFM、XRD及SEM对衬底及薄膜的表面形貌和微观机构进行了分析。结果表明:Ti膜的表面形貌和微观结构受衬底材料影响较大。抛光Mo衬底上的Ti膜表面有微小...
付文博刘锦华梁建华杨本福周晓松程贵钧王维笃
关键词:衬底微观结构扩散
文献传递
Ti/Mo膜的X射线光电子能谱分析被引量:1
2002年
利用X射线光电子谱仪 (XPS)分析和Ar+ 刻蚀相结合的方法 ,分析了Ti膜表面的化学元素及相应原子的电子结合能。分析结果表明 :Ti膜及膜材料样品表面有大量的C、O元素 ;膜表面存在从衬底扩散至Ti膜的Mo元素。对样品刻蚀后Ti 2 p的XPS谱进行拟合表明 :Ti膜表面的Ti由TiO2 (约10 0 % )和单质Ti组成 ,随刻蚀时间的增加 ,部分TiO2 还原至低价Ti;薄的薄膜表面中的Mo由单质Mo和MoO3 组成 ,而厚的薄膜以单质Mo为主 ;表面C由石墨态和结合能为 2 88 2~ 2 88 9eV的碳化物组成。
牟方明涂兵姚冰刘锦华龙兴贵
关键词:X射线光电子能谱离子刻蚀结合能氚靶
V对Ti-V合金材料微观结构的影响研究
本文叙述了V含量从wt(0~10%)的Ti-V合金材料用XRD检测的结果,合金材料均为α结构,吸氢后均为fcc结构。在2 θ小于90°时,给出了精确计算晶胞参数的方法。所研究的Ti-V合金晶胞参数的a值随V含量的增加而一...
李宏发龙兴贵郝万立刘锦华张涛
关键词:合金X射线衍射晶体结构晶胞参数
文献传递
Si基Sc膜的制备及结构分析
2012年
采用电子束镀膜方法在Si基底上制备了Sc膜,利用XRD,SEM分析了不同镀膜工艺条件下制备的Sc膜的形貌和结构。结果表明:基底温度在350~550℃时,薄膜主要由单质Sc组成,而且随着基底温度的升高,膜的颗粒尺寸增大,膜也变得更加致密;基底温度提高至650℃时,膜全部由ScSi化合物组成,膜变成颗粒状结构。沉积速率对低温时Sc膜的形貌与结构的影响不明显,颗粒尺寸随沉积速率的增大而增大,但物相结构基本没有发生变化;而在高温650℃时,沉积速率对膜的形貌与结构产生了很大的影响,随着沉积速率的增大,膜表面出现了大量微裂纹,而且较低的沉积速率有利于获得衍射峰单一的膜,增大沉积速率将会导致衍射峰数量明显增加。
吴清英邴文增刘锦华罗顺忠
关键词:基底温度沉积速率形貌
Hf膜的微观结构变化机制研究
采用电子束蒸发镀膜技术在Mo衬底上制备了Hf膜,并在高真空氢化物系统中进行氘化反应生成Hf氘化物膜,采用XRD和SEM分析了Hf膜经热处理、氘化反应前后微观结构的变化。两种不同取向的Mo衬底上制备的Hf也出现了两种不同的...
吴清英邴文增刘锦华龙兴贵罗顺忠
关键词:微观结构晶粒大小电子束蒸发
文献传递
温度条件对锆钒薄膜结构的影响
薄膜生长过程对于薄膜结构的形成十分重要。其中的温度条件不仅影响薄膜界面处的形核和生长,而且将影响晶体的排列和缺陷的形成。实验中为了能够得到膜层成分和结构满足要求的锆钒合金薄膜,利用电子束蒸镀法,采用两个蒸发源同时工作,两...
刘锦华姚冰郝万立
文献传递
BIXS技术测量氚化钛膜氚活度实验方法研究
2015年
完成了BIXS能谱测量系统的组建及调试,对BIXS技术测量氚化钛膜氚活度的实验方法进行了研究。实验获得了空气和Ar气介质中的X射线能谱,与空气介质相比,除有两个相同峰位能量为4.5 keV和5.0 keV的谱峰和峰强度(或峰面积)分别减弱至约为0.4%、1%外,还增加了3.0 keV、9.0keV的两个谱峰;同时获得了不同氚活度氚化钛膜的X射线能谱,结果表明氚活度决定着X射线能谱的峰面积,具有良好的线性关系。
孙洪伟毛莉张伟光牟方明曾飞渊姚冰汪清华陈尔攀刘锦华张晓红
共2页<12>
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