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陈飞彪

作品数:7 被引量:13H指数:2
供职机构:华中科技大学更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:电子电信自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 4篇专利
  • 3篇期刊文章

领域

  • 2篇电子电信
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 5篇硅片
  • 4篇光刻
  • 4篇光刻机
  • 3篇硅片表面
  • 2篇电机
  • 2篇电机驱动
  • 2篇调焦
  • 2篇揉捻
  • 2篇揉捻机
  • 2篇上料
  • 2篇投影物镜
  • 2篇托盘
  • 2篇全自动
  • 2篇物镜
  • 2篇下料
  • 2篇分光
  • 2篇测光
  • 2篇茶叶
  • 2篇茶叶揉捻机
  • 1篇投影光刻

机构

  • 7篇华中科技大学

作者

  • 7篇陈飞彪
  • 5篇李小平
  • 2篇谢敬华
  • 2篇范良志
  • 1篇金小兵

传媒

  • 1篇光学学报
  • 1篇电子工业专用...
  • 1篇微细加工技术

年份

  • 1篇2010
  • 1篇2008
  • 2篇2007
  • 2篇2006
  • 1篇2005
7 条 记 录,以下是 1-7
排序方式:
用于光刻机的调焦调平装置及测量方法
一种用于光刻机的调焦调平装置及方法,所述装置的测量光路分布于投影物镜光轴两侧,由照明单元、投影单元、成像单元及探测单元构成,照明单元由光源、透镜组及光纤组成;投影单元由反射镜组、狭缝阵列及透镜组组成;成像单元由反射镜组、...
廖飞红陈飞彪李小平程吉水李志科
文献传递
用于调焦调平测量系统中的硅片表面形貌模型被引量:2
2006年
以硅片表面的平整度(flatness)和硅片表面的全场厚度范围(TTV)等参数为基础,建立了硅片表面的理论形貌模型。根据调焦调平测量系统指标等确定了调焦调平测量系统的有效频带,并设计了相应的滤波器。对硅片表面的理论形貌进行滤波后,得到用于调焦调平测量的硅片表面形貌的模型。由于该模型包括硅片表面在一个曝光视场内的模型和全场模型,并以SEMI标准和ITRS预测的相关参数为基础,因此不受实验条件影响,适用范围广,可用于调焦调平测量系统的模拟测试以及相关光刻工艺的分析。
陈飞彪李小平
投影光刻机硅片调焦调平测量模型被引量:11
2007年
成像质量是光学光刻机的最主要指标,硅片调焦调平测量是光刻机控制成像质量的基础。为此建立了硅片调焦调平测量系统单个测量点的测量模型,并根据硅片形貌标准和集成电路尺寸标准,推导了近似运算规则,简化了曝光场高度与测量光斑在光电探测器上的位置之间的数学关系。运用最小二乘法和平面拟合曝光场曲面的方法,推导了基于多个测量点的曝光场高度和倾斜测量的数学模型。该模型能满足调焦调平实时测量和控制的需要,可用于测量精度优于10 nm的高精度调焦调平测量系统,能满足线宽小于100 nm投影步进扫描光刻机的需要。
李小平陈飞彪
关键词:光学器件光刻步进光刻机
多揉桶全自动茶叶揉捻机
本发明公开了一种多揉桶全自动茶叶揉捻机,本发明采用多个揉捻机构,使用两个电机驱动,分别实现揉捻机构的揉捻运动和托盘的分度旋转运动。每个揉捻机构使用三个气缸,分别实现揉盖的提升、下降、揉盖的旋转,下料盖的开启。本发明所有的...
李小平陈飞彪谢敬华范良志
文献传递
用于光刻机的调焦调平装置及测量方法
一种用于光刻机的调焦调平装置及方法,所述装置的测量光路分布于投影物镜光轴两侧,由照明单元、投影单元、成像单元及探测单元构成,照明单元由光源、透镜组及光纤组成;投影单元由反射镜组、狭缝阵列及透镜组组成;成像单元由反射镜组、...
廖飞红陈飞彪李小平程吉水李志科
文献传递
硅片调焦调平测量系统测试平台被引量:2
2006年
硅片调焦调平测量系统测试平台用于对光刻机硅片调焦调平测量系统的性能进行检测。该平台模拟硅片调焦调平测量系统在光刻机中的测量对象的运动和工作环境,由三自由度运动台吸附硅片模拟光刻机工件台的垂向运动,采用比较激光干涉仪和硅片调焦调平测量系统同时对硅片测量的结果作为其性能的评估依据。该平台测量精确可靠,可以用于精度、分辨率和重复性等性能指标的检测。
金小兵李小平陈飞彪李志丹肖可云
关键词:光刻机激光干涉仪
多揉桶全自动茶叶揉捻机
本发明公开了一种多揉桶全自动茶叶揉捻机,本发明采用多个揉捻机构,使用两个电机驱动,分别实现揉捻机构的揉捻运动和托盘的分度旋转运动。每个揉捻机构使用三个气缸,分别实现揉盖的提升、下降、揉盖的旋转,下料盖的开启。本发明所有的...
李小平陈飞彪谢敬华范良志
文献传递
共1页<1>
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