雷小敏
- 作品数：6 被引量：2H指数：1
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- 相关领域：理学化学工程机械工程更多>>
- 表面活性剂后处理对YAG∶Ce^(3+)荧光粉发光特性的影响
- 2014年
- 采用固相法制备YAG∶Ce3+黄色荧光粉,以油酸、聚乙二醇、十二烷基磺酸钠和十二烷基硫酸钠等表面活性剂作为后处理剂,考察其种类、浓度和性质等对荧光粉发光性能的影响,进一步对浸泡温度以及浸泡时间等工艺条件进行了对比研究,并通过荧光光谱和扫描电子显微镜等手段对处理前后YAG∶Ce3+荧光粉的发光性能、表面形貌和老化性能等方面进行了表征和分析。结果表明,YAG∶Ce3+荧光粉的最佳后处理工艺条件为:十二烷基硫酸钠较为理想,经2.4%十二烷基硫酸钠处理后,YAG∶Ce3+荧光粉的发光强度约提高8.4%,浸泡温度为50℃,浸泡时间为60 min。
- 雷素娟徐玲雷小敏王晓罗伟焦桓
- 关键词：YAG后处理表面活性剂
- Y<Sub>3</Sub>Al<Sub>5</Sub>O<Sub>12</Sub>:Ce<Sup>3+</Sup>荧光粉的后处理方法
- 一种Y<Sub>3</Sub>Al<Sub>5</Sub>O<Sub>12</Sub>:Ce<Sup>3+</Sup>荧光粉的后处理方法，采用不同浓度的有机酸、碱或表面活性剂对荧光粉进行后处理，处理后的荧光粉物相和发射光...
- 焦桓雷小敏罗伟陆俊儒
- 文献传递
- 弱碱溶液后处理对固相合成铈掺杂钇铝石榴石荧光粉发光性能的改进
- 2014年
- 为改善高温固相反应制备的铈掺杂钇铝石榴(YAG∶Ce3+)黄光荧光粉的发光性能,分别采用浓氨水、N,N-二甲基乙酰胺(DMAC)、三乙醇胺、聚丙烯酰胺和六次甲基四胺等的水溶液对其进行浸泡处理,比较了处理剂浓度、用量和处理剂类型对荧光粉发光强度、荧光粉温度、猝灭性能和形貌的影响,确定了以30%氨水在50℃浸泡50 min为优化的处理工艺,YAG∶Ce3+荧光粉发光强度比处理前约提高9.5%,荧光粉分散程度也得到改善,处理后粒径分布更加均匀。
- 周俊雷小敏王晓罗伟焦桓
- 关键词：荧光粉后处理发光强度
- 有机酸后处理对YAG:Ce^(3+)荧光粉发光特性的影响被引量：2
- 2014年
- 本着改善YAG:Ce3+黄色荧光粉发光性能的目的,研究了固相法制备YAG:Ce3+的后处理工艺,获得了相关工艺参数。探索了以草酸、柠檬酸、乙酸、己二酸、酒石酸和乙二胺四乙酸等有机酸为后处理剂时,后处理剂的种类和浓度等因素对荧光粉发光性能的影响,还对荧光粉的后处理温度以及时间等工艺条件进行了对比实验,通过荧光光谱测试、荧光粉温度猝灭特性和扫描电子显微镜等测试手段对处理前后YAG:Ce3+荧光粉的发光性能、表面形貌和热猝灭性能等方面进行了表征和分析,获得了优化的后处理工艺参数。处理后的YAG:Ce3+荧光粉,其发光强度较处理前有明显的提高,颗粒分散程度和热猝灭性能均得到改善。
- 刘天用雷小敏徐玲王晓罗伟王轶哲赵战勇焦桓
- 关键词：YAG荧光粉后处理发光强度
- Y<Sub>3</Sub>Al<Sub>5</Sub>O<Sub>12</Sub>:Ce<Sup>3+</Sup>荧光粉的后处理方法
- 一种Y<Sub>3</Sub>Al<Sub>5</Sub>O<Sub>12</Sub>:Ce<Sup>3+</Sup>荧光粉的后处理方法，采用不同浓度的有机酸、碱或表面活性剂对荧光粉进行后处理，处理后的荧光粉物相和发射光...
- 焦桓雷小敏罗伟陆俊儒
- 文献传递
- 后处理对YAG:Ce3+荧光粉发光特性的影响
- 雷小敏焦桓
- 关键词：后处理分散剂发光材料
