刘丽
- 作品数：1 被引量：3H指数：1
- 供职机构：哈尔滨商业大学轻工学院更多>>
- 发文基金：黑龙江省自然科学基金更多>>
- 相关领域：一般工业技术更多>>
- 基体偏压对磁控溅射TiAlN薄膜性能的影响被引量：3
- 2014年
- 采用中频孪生磁控溅射技术,以Q235碳钢为基体,通过调整薄膜沉积过程中基体负偏压大小,制备TiAlN薄膜.采用原子力显微镜(AFM)观察薄膜表面形貌,采用动电位极化试验研究薄膜的电化学腐蚀行为,用台阶仪和显微硬度计测量薄膜的厚度和硬度,用X-射线光电子能谱仪测试薄膜的组织成分.结果表明,TiAlN薄膜表面平整,粗糙度低.随偏压的增大,膜厚、显微硬度和耐腐蚀性都呈现也先增大,后减小的趋势.当负偏压增大到60 V时,薄膜的腐蚀电位和腐蚀电流密度分别为-256.2 mV和7.81×10-6A/cm2,抗腐蚀能力最强.X射线光电子能谱(XPS)检测结果表明,随负偏压幅的增大,Al/Ti原子比降低.
- 刘丽孙智慧林晶肖玮
- 关键词：TIALN薄膜磁控溅射脉冲偏压
