薛雅平
- 作品数：6 被引量：16H指数：2
- 供职机构：江苏科技大学材料科学与工程学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金江苏省自然科学基金更多>>
- 相关领域：金属学及工艺一般工业技术化学工程更多>>
- TaN-基纳米复合膜和多层膜的微结构及性能研究
- 采用多靶磁控溅射技术,在Si(100)和不锈钢基片上,采用不同负偏压沉积一系列TaN单层膜,采用不同V靶功率制备一系列不同V含量的TaVN复合膜,采用不同Mo靶功率制备一系列不同Mo含量的TaMoN复合膜,通过控制挡板开...
- 薛雅平
- 关键词：微结构摩擦磨损性能
- 文献传递
- V含量对TaVN复合膜微结构、力学性能和摩擦性能的影响被引量：7
- 2013年
- 采用磁控溅射仪制备了一系列不同V含量的TaVN复合膜,利用X射线衍射仪研究复合膜以及磨痕的相组成,利用纳米压痕仪表征复合膜的硬度,采用高温摩擦磨损实验机研究了复合膜的室温和高温摩擦性能。结果表明:TaVN复合膜的微结构为面心立方结构,随着V含量的增加,衍射峰择优取向由(200)转变为(111);TaVN薄膜的显微硬度随着V含量增加,先增加后降低,在V含量为18.25at%时,显微硬度达到最大值,为32.3 GPa;在常温下,TaVN复合膜的摩擦系数随着V含量的增加而降低;当温度从室温升高到800℃,薄膜的摩擦系数先升高后降低。采用晶体化学理论讨论了TaVN复合膜和TaN单层膜在高温下的摩擦机理。
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- 关键词：磁控溅射力学性能
- 负偏压对磁控溅射TaN薄膜微观结构和性能的影响被引量：1
- 2013年
- 采用磁控溅射技术制备一系列不同负偏压的TaN薄膜。分别采用扫描电子显微镜、X射线衍射仪、原子力显微镜、纳米压痕仪和高温摩擦磨损仪研究不同负偏压对单层TaN薄膜的微观结构、表面形貌、力学性能和摩擦性能的影响。结果表明：TaN薄膜主要为面心δ-TaN和斜方Ta 4 N晶体结构，择优取向随着负偏压的不同而不同；当负偏压为80 V时，TaN薄膜的硬度和弹性模量均达到最大值，分别为30.103和317.048 GPa，并且此时薄膜的膜？基结合最强；常温下单层TaN薄膜的摩擦因数与负偏压关系不大，基本保持在0.64~0.68之间；高温下，随着温度的升高，摩擦因数逐渐降低。
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- 关键词：微观结构
- 负偏压对磁控溅射制备Ru薄膜微结构、膜基结合力及耐蚀性能的影响被引量：5
- 2016年
- 采用磁控溅射法在Mo衬底上制备了不同负偏压的Ru薄膜,利用XRD、台阶仪、XPS、AFM、纳米划痕仪和电化学工作站对薄膜相结构、表面形貌、膜基结合力以及腐蚀电化学性能进行了研究.结果表明：当负偏压在0~100 V时,薄膜六方结构（hcp）,具有（002）择优取向.随负偏压的升高,薄膜中出现面心立方（fcc）Ru O2相,此时薄膜两相共存,即hcp-Ru＋fcc-Ru O2.薄膜表面粗糙度随负偏压的升高先降低后升高,当负偏压为100 V时,薄膜表面粗糙度最低,其最低值为0.639 nm.薄膜的膜基结合力及在3.5%Na Cl溶液中的耐蚀性能先升高后降低,当负偏压为100 V时,膜基结合力及耐蚀性能最佳.
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- 关键词：磁控溅射耐蚀性能
- TaMoN复合膜的微结构、力学性能与摩擦性能被引量：2
- 2014年
- 采用多靶磁控溅射技术,根据不同Mo靶功率制备一系列不同Mo含量的TaMoN复合膜。利用X射线衍射仪、纳米压痕仪、高温摩擦磨损仪、扫描电子显微镜及其配套的能谱仪研究复合膜的相组成、力学性能、室温和高温下的摩擦性能。结果表明,TaMoN复合膜的微结构是由面心立方、密排六方与底心斜方组成的多相结构;TaMoN复合膜的硬度比TaN单层膜的硬度高,且随着Mo含量的增加先升高后降低,在Mo含量为52.68 at%时达到最大值,为33.9 GPa;Mo元素的添加可以有效改善TaN薄膜在常温和高温下的摩擦性能,通过对磨痕的分析,详细解释了TaMoN复合膜具有优异的减摩性能的原因。
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- 关键词：磁控溅射微结构力学性能
- 退火温度对磁控溅射Ru薄膜结构及膜基结合力的影响被引量：2
- 2016年
- 采用磁控溅射法在Mo衬底上制备了Ru薄膜,利用真空退火炉、EDS、XRD,台阶仪及纳米划痕仪等设备研究了不同退火温度对Ru薄膜化学成分、相结构、残余应力及膜基结合力的影响。结果表明,不同退火温度处理下的Ru薄膜呈六方Ru结构,具有(002)择优取向,当退火温度为600℃时,薄膜出现氧化相。退火处理能够改善薄膜结晶程度。随退火温度的升高,薄膜残余应力逐渐降低,膜基结合力先升高后降低,当退火温度为300℃时,膜基结合力最高,约为17.6 N。
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- 关键词：磁控溅射退火温度
