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赵宝华

作品数:6 被引量:22H指数:2
供职机构:金堆城钼业股份有限公司更多>>
相关领域:一般工业技术化学工程更多>>

文献类型

  • 4篇期刊文章
  • 2篇专利

领域

  • 3篇一般工业技术
  • 1篇化学工程

主题

  • 3篇溅射
  • 3篇磁控
  • 3篇磁控溅射
  • 1篇单质硫
  • 1篇导电性
  • 1篇电学
  • 1篇压力阀
  • 1篇氧化钼
  • 1篇液晶
  • 1篇液晶显示
  • 1篇液晶显示器
  • 1篇润滑
  • 1篇润滑剂
  • 1篇三氧化钼
  • 1篇球磨
  • 1篇球磨机
  • 1篇氩气
  • 1篇物理化学
  • 1篇物理化学性质
  • 1篇显示器

机构

  • 6篇金堆城钼业股...
  • 3篇西北大学

作者

  • 6篇赵宝华
  • 3篇孙院军
  • 3篇范海波
  • 2篇安耿
  • 2篇杨刘晓
  • 1篇姚合宝
  • 1篇曾一
  • 1篇郑新亮
  • 1篇崔玉青
  • 1篇厉学武
  • 1篇吴思诚
  • 1篇赵鹏
  • 1篇唐丽霞
  • 1篇刘高杰
  • 1篇王林
  • 1篇刘仁智
  • 1篇王旋
  • 1篇李拥军
  • 1篇胡江平

传媒

  • 4篇中国钼业

年份

  • 1篇2014
  • 2篇2012
  • 1篇2011
  • 2篇2008
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
TFT-LCD制造用钼薄膜溅射及其靶材被引量:17
2011年
薄膜晶体管作为关键器件直接影响薄膜晶体管液晶显示器的性能,钼作为电极和布线在薄膜晶体管的制造中具有重要应用价值。本文在简要介绍薄膜晶体管液晶显示器的结构和原理基础之上,重点讨论了钼在其生产过程中的应用、钼薄膜的磁控溅射制备方法和工艺参数要求以及钼靶材的研究现状。
赵宝华范海波孙院军
关键词:薄膜晶体管液晶显示器磁控溅射
反应时间对高纯三氧化钼的影响被引量:2
2014年
通过考察反应时间对高纯三氧化钼的影响,建立反应时间与高纯三氧化钼物理化学性质之间的对应关系,为生产高纯三氧化钼提供数据依据。
厉学武崔玉青唐丽霞赵宝华李拥军
关键词:物理化学性质
Mo缓冲层在溅射ZnO薄膜中的应用
2012年
ZnO薄膜材料作为一种新兴的材料,在半导体光电子领域有着广泛的应用前景。本文利用磁控溅射法在Si衬底上先生长一层Mo缓冲层,然后在Mo缓冲层上制备ZnO薄膜。通过性能对比发现,Mo缓冲层对于ZnO的结晶性能和发光性能的提高具有明显的改善作用。
吴思诚王旋范海波郑新亮姚合宝赵宝华
关键词:磁控溅射ZNO薄膜MO薄膜缓冲层
溅射电流和时间对钼薄膜电学性能的影响被引量:3
2012年
钼薄膜作为电极和布线材料在太阳能电池和薄膜晶体管的制造中具有重要应用价值。磁控溅射作为一种制备钼薄膜的主要手段,其溅射工艺对钼薄膜的性能有着重要的影响。本文通过改变溅射电流和时间制备了具有不同形貌的钼薄膜,并对其电学性能进行了比较,从而得到了较为适合的钼薄膜溅射工艺。
范海波孙院军赵宝华安耿刘仁智
关键词:导电性磁控溅射
一种制备粉体的机械化学球磨机
一种制备粉体的机械化学球磨机,涉及一种用于制备微纳米粉体的高能机械化学立式搅拌球磨机。其特征在于其结构组成包括:球磨机壳体-该壳体为一夹壁筒形,在外夹壁上开有次冷却液进口和出口;球磨机顶盖-该顶盖为一圆形板,封盖于球磨机...
刘高杰安耿胡江平赵宝华杨刘晓
文献传递
一种球状结构的二硫化钼制备方法
本发明涉及一种球状结构的二硫化钼的制备方法。其特征在于其制备过程是采用单质硫和三氧化钼为原料,以氩气为载气,氢气为还原剂,经过气相反应合成球状二硫化钼的。合成的球状二硫化钼直径为0.05-0.9微米,是一种新型的固体润滑...
赵鹏王林杨刘晓赵宝华孙院军曾一
文献传递
共1页<1>
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