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陈昌浩: 作品数：10 被引量：19H指数：3; 供职机构：四川理工学院更多>>; 发文基金：四川省教育厅资助科研项目四川省自然科学基金四川省教育厅重点项目更多>>; 相关领域：金属学及工艺一般工业技术更多>>

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一种具有正六边形结构的纳米碳化二钼片状粉末的制备方法: 本发明涉及一种具有正六边形结构的纳米碳化二钼片状粉末的制备方法，该方法采用可溶于水的二钼酸铵（或七钼酸铵）、葡萄糖（或蔗糖）分别作为钼源和碳源原料，通过前驱体溶液干燥实现了反应物体系中各元素在分子级别上混合均匀，降低了碳...; 金永中曾宪光陈昌浩附青山苏晓慧; 文献传递

气体总流量对多弧离子镀TiN涂层表面形貌和力学性能的影响被引量：2: 2016年; 采用多弧离子镀膜技术在硬质合金基体表面沉积TiN涂层,研究了气体总流量对TiN涂层表面形貌和力学性能的影响。通过SEM观察涂层表面形貌,利用ImageJ图像处理软件对涂层的像素分布进行统计和分析,并通过自动划痕仪和纳米压痕仪对涂层的力学性能进行表征。结果表明,随着气体总流量的增加,涂层表面大颗粒的数量和尺寸均在增加,涂层附着力先增大后减小,而显微硬度先减小后增大;当气体总流量为300mL/min时,涂层气坑数量最多,附着力最大,为106.4N;当气体总流量为100mL/min时,涂层显微硬度最大,为HV3 021。; 陈昌浩金永中刘东亮蔡瑜; 关键词：TIN涂层多弧离子镀表面形貌力学性能

多弧离子镀TiN涂层的N_2/Ar流量参数研究被引量：1: 2016年; 利用多弧离子镀在硬质合金基体上制备TiN涂层,研究了N_2/Ar流量比对TiN涂层表面大颗粒分布与力学性能的影响。通过扫描电镜观察TiN涂层的表面形貌,并利用Image J图像处理软件对大颗粒的数量和尺寸进行了分析,通过自动划痕仪和纳米压痕仪对涂层的力学性能进行表征。结果表明:随着N2流量的增加,涂层表面沉积颗粒的最大直径和平均直径逐渐减小,涂层的附着力整体呈现增加趋势,显微硬度则先增大后减小。; 陈昌浩金永中陈建蔡瑜余学金龙国俊; 关键词：多弧离子镀 TIN涂层大颗粒力学性能

弧电流对多弧离子沉积TiN薄膜形貌及沉积速率的影响研究: 采用多弧离子镀膜技术，在温度250℃、N2流量140sccm、沉积时间60min以及不同的弧电流(40-140A)实验条件下，于硬质合金基体上沉积得到TiN薄膜.原子力显微镜(AFM)和扫描电子显微镜(SEM)用来研究T...; 陈昌浩金永中刘春海崔学军林修洲; 关键词：TIN薄膜多弧离子镀沉积速率

负偏压对多弧离子镀TiN涂层大颗粒形貌及像素分布的影响被引量：4: 2015年; 目的分析不同负偏压下Ti N涂层表面的大颗粒数量、尺寸和面积以及像素分布,为多弧离子镀技术的工业化应用提供基础数据。方法采用多弧离子镀膜技术,以脉冲负偏压为变量,在硬质合金表面沉积Ti N涂层。用扫描电子显微镜对涂层表面形貌进行表征,并利用Image J软件对表面大颗粒的数量和尺寸进行分析,对像素分布进行统计。结果随着负偏压的增加,涂层表面大颗粒的数量先增多,后减少。负偏压为100 V时,大颗粒数量最多,为1364;负偏压为300 V时,大颗粒数量最少,为750。此外随着负偏压的增加,大颗粒所占涂层面积比逐渐减小。未加负偏压时,涂层表面大颗粒所占面积比最大,为6.9%,且此时涂层的力学性能最差;采用400 V负偏压时,涂层表面大颗粒所占面积比最小,为3.3%,且此时涂层的力学性能最好。负偏压为300 V时,亮、暗像素点的个数最多,为8302;负偏压为400 V时,亮、暗像素点的个数最少,为4067。结论当占空比为30%,沉积时间为1 h,负偏压为400 V时,获得的涂层力学性能最好,颗粒数量少且尺寸小。; 陈昌浩金永中刘东亮余学金; 关键词：多弧离子镀 TI IMAGE 大颗粒

真空热处理对多弧离子镀TiAlSiN涂层性能的影响被引量：7: 2017年; 为提高TiAlSiN涂层的力学性能,研究了真空热处理对多弧离子镀TiAlSiN涂层微观组织和力学性能的影响。利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、自动划痕仪、纳米压痕仪、摩擦磨损测试仪等表征其表面形貌、物相组成和力学性能。结果表明:热处理引起了涂层的晶格畸变,降低了TiN固溶体相的平均晶格常数,导致其衍射峰向高角度偏移;热处理会粗化涂层表面,并导致TiAlSi中间过渡层界面消失。经过800℃热处理后,涂层的纳米硬度和结合力达到最大值,分别为35.01 GPa和54.45 N;涂层的平均摩擦因数最小,由热处理前的0.679降低至0.372,比热处理前下降了约45.2%。; 张正权金永中陈昌浩常鸿林修州崔学军; 关键词：真空热处理显微结构力学性能

一种纳米Cr3C2晶须的制备方法: 本发明公开了一种纳米Cr3C2晶须的制备方法，1）以重铬酸铵、碳质还原剂、卤化剂作为原料，将上述原料置于蒸馏水中，搅拌均匀制得前驱体溶液；2）将前驱体溶液干燥得到蓬松的前驱体混...; 金永中叶发明附青山刘东亮陈昌浩; 文献传递

一种纳米Cr3C2晶须的制备方法: 本发明公开了一种纳米Cr3C2晶须的制备方法，1）以重铬酸铵、碳质还原剂、卤化剂作为原料，将上述原料置于蒸馏水中，搅拌均匀制得前驱体溶液；2）将前驱体溶液干燥得到蓬松的前驱体混...; 金永中叶发明附青山刘东亮陈昌浩; 文献传递

弧电流对多弧离子镀TiN涂层形貌及力学性能的影响被引量：7: 2016年; 采用多弧离子镀膜技术在硬质合金基体表面沉积TiN涂层，研究了60-140A弧电流对TiN涂层的表面形貌和力学性能的影响。使用扫描电子显微镜、扫描探针显微镜对涂层的形貌进行观察，使用自动划痕仪、纳米压痕仪对涂层的力学性能进行检测。研究结果表明：随着弧电流的增加，涂层的沉积速率呈现非线性增长，涂层组织中的晶粒逐渐长大并聚集。弧电流在120-140A时，涂层的组织由球形晶粒向平板状晶粒转变。随着弧电流的增加，附着力呈先增大后减小趋势，附着力在80A时最大，为123.3N；显微硬度呈增大趋势，但在60-100A时硬度增加较小，超过100A，硬度显著提高，140A时最大，为3051HV。; 陈昌浩金永中陈建龙国俊余学金蔡瑜; 关键词：多弧离子镀 TIN涂层表面形貌力学性能

一种具有正六边形结构的纳米碳化二钼片状粉末的制备方法: 本发明涉及一种具有正六边形结构的纳米碳化二钼片状粉末的制备方法，该方法采用可溶于水的二钼酸铵（或七钼酸铵）、葡萄糖（或蔗糖）分别作为钼源和碳源原料，通过前驱体溶液干燥实现了反应物体系中各元素在分子级别上混合均匀，降低了碳...; 金永中曾宪光陈昌浩附青山苏晓慧; 文献传递