您的位置： 专家智库 > >

孙科沸

作品数：8 被引量：10H指数：1
供职机构：中国科学院宁波材料技术与工程研究所宁波材料技术与工程研究所更多>>
发文基金：中国博士后科学基金浙江省自然科学基金更多>>
相关领域：金属学及工艺一般工业技术电气工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 6篇专利
  • 1篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 2篇金属学及工艺
  • 1篇电气工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 4篇真空室
  • 4篇钕铁硼
  • 4篇磁控溅射靶
  • 2篇氮分压
  • 2篇镀膜
  • 2篇行星
  • 2篇致密
  • 2篇致密度
  • 2篇托盘
  • 2篇离子
  • 2篇离子束
  • 2篇离子束辅助
  • 2篇离子源
  • 2篇铝膜
  • 2篇溅射
  • 2篇溅射沉积
  • 2篇工件
  • 2篇工作气体
  • 2篇工作气压
  • 2篇磁控

机构

  • 8篇中国科学院宁...

作者

  • 8篇李金龙
  • 8篇冒守栋
  • 8篇宋振纶
  • 8篇孙科沸

传媒

  • 1篇中国表面工程

年份

  • 1篇2014
  • 3篇2011
  • 4篇2010
共 8 条 记 录，以下是 1-8
全选 清除 导出
排序方式：
一种实现工件外表面均匀镀膜的磁控溅射装置及方法
本发明涉及一种实现工件外表面均匀镀膜的磁控溅射装置及方法，该装置包括真空室，磁控溅射靶和工件托架，其特征在于：所述磁控溅射靶安装在真空室的顶部呈密封连接结构，靶头伸入真空室内，且靶头与磁控溅射靶的连接轴之间为可转动连接，...
宋振纶冒守栋李金龙孙科沸
文献传递
氮分压对钕铁硼表面直流磁控溅射沉积AlN/Al防护涂层结构和性能的影响
采用直流磁控溅射在钕铁硼表面沉积AlN/Al双层防护薄膜来提高磁体的耐腐蚀性能。先在基体表面沉积纯Al薄膜,然后沉积外层AlN薄膜。沉积AlN薄膜时,改变氮气体分压,研究氮分压对薄膜结构和耐腐蚀性能的影响。结果显示,Al...
李金龙冒守栋孙科沸宋振纶
关键词：NDFEB
文献传递
氮分压对钕铁硼表面直流磁控溅射沉积AlN/Al防护涂层结构和性能的影响被引量：10
2010年
采用直流磁控溅射在钕铁硼表面沉积AlN/Al双层防护薄膜来提高磁体的耐腐蚀性能。先在基体表面沉积纯Al薄膜,然后沉积外层AlN薄膜。沉积AlN薄膜时,改变氮气分压,研究氮分压对薄膜结构和耐腐蚀性能的影响。结果显示,AlN纳米颗粒形成于内层Al结晶体表面。氮氩分压比为1:1时,钕铁硼表面形成了更致密的AlN/Al薄膜。膜基界面存在元素的互扩散和冶金结合。氮氩分压为1:1的AlN/Al防护薄膜具有最好的耐腐蚀性能。
李金龙冒守栋孙科沸宋振纶
关键词：NDFEB
一种用于表面防护的离子束辅助磁控溅射沉积方法
本发明涉及用于表面防护的离子束辅助磁控溅射沉积装置及方法，该装置包括真空室、磁控溅射源、工件托架和离子源，其特征在于：所述磁控溅射源安装在真空室的顶部呈密封连接结构，磁控溅射靶通过连接轴与磁控溅射源相连，磁控溅射靶伸入真...
宋振纶李金龙孙科沸冒守栋
文献传递
一种用于钕铁硼工件表面防护的磁控溅射沉积铝膜的方法
本发明涉及一种用于钕铁硼工件表面防护的磁控溅射沉积铝膜的方法，其特征在于：包括如下步骤：(1)在真空室内安装纯度大于98％的铝靶，使其与水平面的角度在45°～90°之间；(2)对钕铁硼工件进行除油、除锈处理；(3)把钕铁...
宋振纶孙科沸李金龙冒守栋
一种实现工件外表面均匀镀膜的磁控溅射装置及方法
本发明涉及一种实现工件外表面均匀镀膜的磁控溅射装置及方法，该装置包括真空室，磁控溅射靶和工件托架，其特征在于：所述磁控溅射靶安装在真空室的顶部呈密封连接结构，靶头伸入真空室内，且靶头与磁控溅射靶的连接轴之间为可转动连接，...
宋振纶冒守栋李金龙孙科沸
文献传递
一种用于表面防护的离子束辅助磁控溅射沉积装置及方法
本发明涉及用于表面防护的离子束辅助磁控溅射沉积装置及方法，该装置包括真空室、磁控溅射源、工件托架和离子源，其特征在于：所述磁控溅射源安装在真空室的顶部呈密封连接结构，磁控溅射靶通过连接轴与磁控溅射源相连，磁控溅射靶伸入真...
宋振纶李金龙孙科沸冒守栋
文献传递
一种用于钕铁硼工件表面防护的磁控溅射沉积铝膜的方法
本发明涉及一种用于钕铁硼工件表面防护的磁控溅射沉积铝膜的方法，其特征在于：包括如下步骤：(1)、在真空室内安装纯度大于98％的铝靶，使其与水平面的角度在45°～90°之间；(2)、对钕铁硼工件进行除油、除锈处理；(3)、...
宋振纶孙科沸李金龙冒守栋
文献传递
全选 清除 导出
共1页<1>
聚类工具0