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李晓峰

作品数：5 被引量：1H指数：1
供职机构：南京邮电大学更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：一般工业技术金属学及工艺理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 3篇专利
  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 3篇记录层
  • 3篇溅射
  • 3篇磁控
  • 3篇磁控溅射
  • 2篇光存储
  • 2篇掺杂
  • 1篇烧录
  • 1篇数据记录
  • 1篇热分解
  • 1篇无毒
  • 1篇锰掺杂
  • 1篇金属
  • 1篇金属掺杂
  • 1篇环境友好
  • 1篇基板
  • 1篇溅射法
  • 1篇溅射制备
  • 1篇光存储器
  • 1篇光电
  • 1篇光电性

机构

  • 5篇南京邮电大学

作者

  • 5篇李晓峰
  • 4篇李兴鳌
  • 3篇赵晋阳
  • 3篇杨涛
  • 2篇陈晃毓
  • 2篇潘聪
  • 2篇黄维
  • 2篇王志姣
  • 1篇杨建平

传媒

  • 1篇广州化工

年份

  • 4篇2013
  • 1篇2012
共 5 条 记 录，以下是 1-5
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排序方式：
基于氮化铜薄膜的一次写入型多层波导光存储器及其制造方法
本发明是一种基于氮化铜薄膜的一次写入型多层波导光存储器的制造方法，具体制备方法为：a.选择稳定性强的透明材料为基底，利用磁控溅射的方法制备出氮化铜薄膜；b.在完成上一步后，将镀有氮化铜薄膜的基底加工成所需的尺寸和形状，基...
李兴鳌赵晋阳李晓峰陈晃毓杨涛潘聪王志姣孙俊冬
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基于氮化铜薄膜的一次写入型光盘及其制造方法
本发明是一种基于氮化铜薄膜的一次写入型光盘及制备方法，该光盘主要分为四层，依次包括基板、记录层、吸收层和保护层；基板：这是光盘的第一层，它是光盘其它部分的载体，也是整个光盘的物理外壳；记录层：这是光盘的第二层，是烧录时刻...
李兴鳌赵晋阳李晓峰杨涛黄维
文献传递
氮化铜薄膜的掺杂研究及进展被引量：1
2013年
由于氮化铜薄膜潜在的光存储应用前景,成为近十年来研究的热点材料之一,许多研究小组开始了对氮化铜薄膜掺杂展开了研究。本文综述了3d型过渡金属及其他原子掺杂对氮化铜薄膜结构和性能的影响,鉴于此对其应用前景进行了展望。
李晓峰李兴鳌
关键词：过渡金属掺杂
磁控溅射制备氮化铜及锰掺杂氮化铜薄膜的研究
氮化铜薄膜具有良好的光电性能，其具有低温热分解性、高电阻率,且无毒、原材料价格便宜,常温下在空气中非常稳定的特点。　　本文采用射频反应磁控溅射制备氮化铜薄膜，研究其在不同溅射功率下薄膜的结晶、光学、电学等性质与薄膜结构、...
李晓峰
关键词：磁控溅射法光电性能
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基于氮化铜薄膜的一次写入型双面光盘及其制造方法
本发明是一种基于氮化铜薄膜的一次写入型双面光盘及其制造方法，该双面光盘主要分为五层，依次包括第一基板（1）、第一记录层（2）、吸收层（3）、第二记录层（4）和第二基板（5）；第一基板（1）和第二基板（5）分别是光盘的第一...
李兴鳌赵晋阳李晓峰陈晃毓潘聪王志姣杨涛杨建平黄维
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