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戴宇

作品数:1 被引量:0H指数:0
供职机构:浙江大学机械工程学系更多>>
发文基金:中国博士后科学基金国家教育部博士点基金国家自然科学基金更多>>
相关领域:轻工技术与工程更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇轻工技术与工...

主题

  • 1篇压强
  • 1篇印刷压力
  • 1篇印章
  • 1篇英文
  • 1篇PDMS

机构

  • 1篇浙江大学

作者

  • 1篇梁观浩
  • 1篇梅德庆
  • 1篇汪延成
  • 1篇戴宇

传媒

  • 1篇纳米技术与精...

年份

  • 1篇2013
1 条 记 录,以下是 1-1
排序方式:
印章特性和印刷压力对微接触印刷工艺的影响(英文)
2013年
微接触印刷(μCP)是一种能在微纳米尺度上完成表面图案化的技术,主要特点是高效和低成本.研究了μCP过程中印章机械特性和印刷压力对形成的微图案质量的影响.为了进一步分析聚二甲基硅氧烷(PDMS)制作的印章特性,浇注了5种配比的PDMS试样,并进行了单轴拉伸和压缩试验,获得了其应力应变关系.制作了3种配比的表面线型图案印章,实施微接触印刷使其印刷压强在1 kPa~1 MPa.通过图形化分析对最终的微接触印刷质量进行评估.实验结果表明:最优的压强区间为20~200 kPa.较小的压力将会产生印章与基底的间隙,而较大的压力将会导致印章的严重变形.由于质量比为20∶1的PDMS印章的弹性模量最小,其在中等压力下的微接触印刷质量最好,而较硬的印章可有效地抵抗印刷中产生的变形.
梅德庆戴宇汪延成梁观浩
关键词:PDMS印章压强
共1页<1>
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