何子博
- 作品数：13 被引量：36H指数：4
- 供职机构：四川大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划西北工业大学基础研究基金更多>>
- 相关领域：一般工业技术理学自动化与计算机技术化学工程更多>>
- 低压沉积温度对MoSi_2涂层微观结构与性能影响被引量：9
- 2009年
- 以SiCl4和H2为原料,采用低压化学气相沉积（LPCVD）渗硅法在Mo基体表面原位反应制备了MoSi2涂层,研究了沉积温度对MoSi2涂层微观形貌、物相组成、沉积速率、涂层的硬度、涂层与基体结合强度的影响.研究结果表明：在1100~1200℃下制备的涂层结构致密,由单一MoSi2组成,沉积速率、涂层的硬度以及与基体的结合强度均表现为増加的趋势;当沉积温度高于1200℃,涂层出现开裂现象,由游离Si和MoSi2两相组成,涂层沉积速率、硬度和结合强度均出现下降的趋势.1100℃以下沉积的主要控制步骤为Si与Mo反应,而1100℃以上Si在涂层中的扩散对沉积过程起控制作用.
- 吴恒李贺军王永杰付前刚何子博魏建锋
- 关键词：LPCVD微观结构沉积温度
- 基于因果关系自适应隐变量估计的时序生成预测研究
- 何子博
- 一种基于神经网络方法的时间序列预测系统
- 本发明公开了一种基于神经网络方法的时间序列预测系统。本发明中，序列预测模块内部的模块，让系统在预测时根据空间特征提取序列的时间特征作为模型的关键部分,注意力模型的设计关系到序列的特征获取,进而提高了预测精度.因此,为更好...
- 何子博时宏伟
- 化学气相浸渗/反应法制备MoSi_2-SiC涂层的合成机理及其氧化性能(英文)被引量：5
- 2013年
- 采用化学气相浸渗/反应法(CVI/CVR)在C/C复合材料表面制备MoSi2-SiC防氧化涂层。首先,制备多孔金属Mo层,然后以甲基三氯硅烷(MTS)为前驱体,利用CVI/CVR技术制备MoSi2-SiC复合涂层。采用XRD、SEM技术研究MoSi2-SiC复合涂层的制备机理,并考察涂层样品的抗氧化性能。结果表明,MTS分解的SiC填充了多孔金属Mo层中的孔隙,并与金属Mo发生反应,制备出致密的MoSi2-SiC复合涂层;在优化工艺条件下所得到的涂层样品在1500°C空气中氧化80h后质量损失仅为1.25%。
- 何子博李贺军史小红付前刚吴恒
- 关键词：沉积温度
- 聚碳酸脂镜片上沉积类金刚石薄膜耐磨性的研究被引量：9
- 2006年
- 针对树脂镜片耐磨性较差的问题,在聚碳酸脂(PC)镜片上采用射频辉光放电等离子体(RF-PECVD)设备沉积类金刚石(DLC)薄膜来提高耐磨性,研究了沉积工艺条件对PC基体镀类金刚石(DLC)薄膜耐磨性的影响。摩擦磨损试验、显微硬度检测评价的结果表明:在PC镜片上沉积DLC薄膜后其耐磨性有很大提高,磨损率从12.5μg/m降低到5.7μg/m,摩擦系数由0.6降到0.22,硬度提高35.7%,并获得较佳的工艺参数。
- 何子博陈显春苏葆辉冉均国苟立
- 关键词：聚碳酸脂DLC耐磨损性
- 树脂镜片抗磨加硬膜层的研究进展被引量：8
- 2005年
- 树脂光学镜片以其优异的性能逐步取代玻璃镜片,占据了国内外大部分市场,但由于硬度低,耐磨损性差,所以使用寿命较短。研究发现在其表面镀制抗磨加硬膜可显著提高耐磨损性。综述了国内外近年来在树脂镜片上涂镀有机硅、石英等抗磨加硬膜的制备方法和性能研究进展,并介绍了在树脂镜片上沉积新型类金刚石(DLC)抗磨加硬膜的研究现状及发展前景。
- 何子博苏葆辉冉均国苟立
- 关键词：树脂镜片使用寿命类金刚石光学性能
- LPCVD法制备SiC-MoSi_2涂层的形貌及沉积机理研究被引量：1
- 2012年
- 为提高碳/碳复合材料抗氧化性能,以甲基三氯硅烷(MTS)为先驱体,利用低压化学气相沉积(LPCVD)技术在碳/碳复合材料表面制备SiC-MoSi2涂层,通过XRD和SEM分析了不同沉积温度下涂层结构、物相组成及其沉积机理。结果表明,沉积温度对涂层的成分、结构及致密度有较大影响,在1100～1250℃均可成功得到SiC-MoSi2涂层,1100℃所得涂层结构疏松多孔;1250℃制备的涂层中间部位孔隙较多,表层为致密SiC涂层;1150～1200℃之间可得到均匀致密、以MoSi2颗粒为分散相、以CVD-SiC为连续相的SiC-MoSi2双相陶瓷涂层。
- 何子博李贺军史小红付前刚吴恒
- 碳纤维表面C/Si复合涂层及其制备方法
- 本发明公开了一种碳纤维表面C/Si复合涂层及其制备方法,采用SiCl<Sub>4</Sub>和CH<Sub>4</Sub>作为原材料，Ar作为保护气体和载流气体，H<Sub>2</Sub>作为还原性气体，使用负压化学气相...
- 付业伟童永煌齐乐华何子博程三旭李贺军
- 聚碳酸酯镜片表面沉积类金刚石耐磨涂层
- 本文采用射频辉光放电等离子体化学气相沉积(RF-PCVD)法在聚碳酸酯(PC)表面沉积类金刚石(DLC)薄膜.研究了功率、气体浓度和沉积时间等条件对薄膜性能的影响,优化了工艺条件;用X射线光电子能谱测定了薄膜的组成;评价...
- 苏葆辉何子博冉均国苟立王方瑚
- 关键词：聚碳酸脂等离子体化学气相沉积类金刚石薄膜耐磨涂层
- 文献传递
- 形核工艺对金刚石膜形貌和电阻率的影响被引量：1
- 2005年
- 金刚石薄膜电阻率的高低是薄膜绝缘性能优劣的直观反映,也是影响辐射剂量计器件性能的重要因素。针对目前形核工艺与电阻率的关系还不十分清楚的问题。本文研究了微波等离子体形核阶段工艺参数如基片位置、微波功率、甲烷浓度的变化对金刚石薄膜的表面形貌和电阻率的影响。结果表明微波等离子体形核工艺参数对金刚石薄膜的电阻率和表面形貌有显著影响。获得的最佳成核工艺条件:基体温度960℃、甲烷浓度0.72%、压力5.3kPa、微波功率1300W。在此工艺条件下制得的金刚石薄膜的电阻率值达到1011Ω·cm数量级。
- 廖晓明冉均国苟立苏葆辉张进何子博
- 关键词：金刚石薄膜电阻率表面形貌辐射剂量计
