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张玲玲

作品数：7 被引量：2H指数：1
供职机构：沈阳仪表科学研究院有限公司更多>>
相关领域：理学一般工业技术电气工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 6篇专利
  • 1篇期刊文章

领域

  • 1篇电气工程
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 3篇滤光片
  • 2篇通带
  • 2篇匹配层
  • 2篇膜系
  • 2篇间隔层
  • 2篇光学
  • 1篇等离子
  • 1篇顶角
  • 1篇镀膜
  • 1篇镀膜机
  • 1篇荧光
  • 1篇荧光检测
  • 1篇杂散光
  • 1篇数据读取
  • 1篇数据输出
  • 1篇数值积分
  • 1篇锁紧
  • 1篇锁紧螺母
  • 1篇泰勒级数
  • 1篇透射

机构

  • 7篇沈阳仪表科学...

作者

  • 7篇张玲玲
  • 5篇王忠连
  • 4篇胡雯雯
  • 4篇赵帅锋
  • 3篇金秀
  • 3篇张艳姝
  • 3篇杨文华
  • 3篇任少鹏
  • 2篇张勇喜
  • 2篇高鹏
  • 2篇宋姝
  • 2篇吴增辉
  • 1篇李明华
  • 1篇阴晓俊
  • 1篇王瑞生
  • 1篇张岳

传媒

  • 1篇光学仪器

年份

  • 2篇2020
  • 1篇2019
  • 1篇2017
  • 1篇2015
  • 1篇2013
  • 1篇2011
共 7 条 记 录，以下是 1-7
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排序方式：
基于循环嵌套模型的多通带滤光片
本发明属光学滤光片领域，具体是指针对多色荧光检测的基于循环嵌套模型的多通带滤光片，包括基片上镀制的基础膜系，其基本结构为：[(aHbL)^<Sup>m</Sup> αH(bLaH)^<Sup>m</Sup> βL]^<S...
任少鹏赵帅锋吴增辉胡雯雯王忠连张玲玲张艳姝
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滤光片装配组件
本实用新型属光学镜头领域，尤其涉及一种滤光片装配组件，它包括封装壳（2）、滤光片本体（1）及封装环（3）；所述滤光片本体（1）置于封装壳（2）内；所述封装环（3）置于滤光片本体（1）之上且与封装壳（2）的内壁固定相接；所...
高鹏赵帅锋阴晓俊宋姝张艳姝张玲玲
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等离子源防护装置
本实用新型属镀膜机附属配件领域，尤其涉及一种等离子源防护装置，包括底层防护套（1）及上侧面防护套（2）；所述底层防护套（1）的底部外延固定设有缝隙遮挡环板（101）；所述上侧面防护套（2）与底层防护套（1）活动套接；在所...
王忠连任少鹏高鹏金秀班超杨文华白永浩王伟张玲玲
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基于循环嵌套模型的多通带滤光片
本发明属光学滤光片领域，具体是指针对多色荧光检测的基于循环嵌套模型的多通带滤光片，包括基片上镀制的基础膜系，其基本结构为：[(aHbL)^<Sup>m</Sup> αH(bLaH)^<Sup>m</Sup> βL]^<S...
任少鹏赵帅锋吴增辉胡雯雯王忠连张玲玲张艳姝
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一种L形圆形变密度片支架
本实用新型属光学器件安装领域，尤其涉及一种L形圆形变密度片支架，包括L形支板（1）、转轴（2）、手拧（3）、弹性定位珠（5）及锁紧螺母（6）；在所述L形支板（1）的竖边顶角部位设有横向通孔（101）；转轴（2）一侧与所述...
张勇喜金秀杨文华胡雯雯王忠连李明华穆佳丽班超张玲玲
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靶材刻蚀对磁控溅射镀膜厚度分布的影响被引量：2
2011年
为考察实际磁控溅射镀膜生产过程中由于靶材不断刻蚀消耗而造成的膜厚分布变化,文中就圆形磁控溅射靶建立了沉积模型,采用泰勒级数展开方式得到了薄膜分布的三阶近似解,并采用数值积分的方法计算出不同溅射角分布和靶基距时新靶和旧靶的相对厚度分布。计算结果表明溅射角分布的变化对膜厚分布影响较小,而靶基距变化影响较大;随着靶基距增加,旧靶材与新靶材的膜厚分布差距逐步减小。为验证计算结果,对新靶材和旧靶材进行了简单实验,实验结果与计算结果相符。
张勇喜金秀胡雯雯宋姝张玲玲张岳
关键词：磁控溅射数值积分泰勒级数
光学滤光片透射率自动测试装置
本实用新型属光学滤光片测量领域，尤其涉及一种光学滤光片透射率自动测试装置，包括待测片料仓（1）、工作台（2）、待测滤光片托盘（3）、待测片拉料机构（16）、取片机构（4）、捡片机构（5）、测成品托盘（6）、不合格品托盘（...
赵帅锋王瑞生杨文华王忠连张玲玲张帆姜超
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