王蕊
- 作品数：4 被引量：9H指数：2
- 供职机构：江苏科技大学材料科学与工程学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金江苏省自然科学基金更多>>
- 相关领域：金属学及工艺更多>>
- 碳含量对WCN纳米复合薄膜结构和性能的影响被引量：3
- 2013年
- 采用多靶反应磁控溅射技术在不同碳靶功率(碳靶功率与碳含量成正比)下制备了WCN纳米复合膜,采用X射线衍射仪、扫描电镜、纳米压痕仪和高温摩擦磨损仪等对薄膜结构和性能进行表征,研究了碳含量对WCN复合膜的影响。结果表明:随碳靶功率即碳含量的增加,薄膜的物相在原单一WN相的基础上,出现了新相WCN,并且晶格常数不断增大,同时薄膜的硬度和弹性模量先升后降,在碳靶功率为120W时,两者均达到最大值,分别为36.70,409.16GPa;复合膜的常温摩擦因数和磨损率随碳含量的增加呈现先减小后增大趋势,高温时薄膜的摩擦因数高于常温的;薄膜的主要磨损机理是磨粒磨损。
- 王蕊喻利花许俊华
- 关键词：反应磁控溅射微观结构显微硬度
- W-N单层膜、W-C-N复合膜及Ti-Al-Si-N/W-N多层膜的制备、微结构和性能研究
- 本论文采用反应磁控溅射制备了W-N单层膜、W-C-N复合膜和Ti-Al-Si-N/W-N多层膜,研究了氮气流量对W-N单层膜的微结构、力学性能及摩擦磨损性能的影响;不同 C靶功率对 W-C-N复合膜的微结构、力学性能及摩...
- 王蕊
- 关键词：磁控溅射法
- 文献传递
- 基体负偏压对W-C-N薄膜摩擦磨损性能的影响被引量：6
- 2013年
- 采用多靶反应磁控溅射设备制备了一系列不同基体负偏压的W-C-N复合膜。采用X射线衍射仪、扫描电镜、能量色散谱仪、纳米压痕仪和摩擦磨损仪对薄膜进行表征。结果表明:当负偏压小于等于80 V时,薄膜表现出六方α-WCN相结构,增加到120 V时,转变为立方β-WCN相,薄膜硬度、弹性模量和膜基结合力出现对应最佳性能点的峰值;随着负偏压的增大,薄膜质量得到改善,磨损率和摩擦系数明显降低,负偏压达到200 V时,磨损率和摩擦系数分别出现最低值4.22×10-6mm3.N-1.m-1和0.27;薄膜的磨损机制主要是磨粒磨损。
- 喻利花王蕊许俊华
- 关键词：磁控溅射摩擦磨损性能
- WCN纳米复合膜及其制备方法
- 本发明公开了一种WCN纳米复合膜及其制备方法，采用真空多靶磁控溅射法在基体上共沉积得到，以W靶和C靶为阴极靶，Cr靶为直流靶，Ar和N<Sub>2</Sub>的混合气体中，真空室内共沉积在基体上形成厚度为1～3微米的WC...
- 喻利花许俊华王蕊
- 文献传递
