柴英杰
- 作品数：10 被引量：1H指数：1
- 供职机构：中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学机械工程电子电信更多>>
- 解决电子束沉积多层膜龟裂的临界层应力的调控方法
- 一种解决电子束沉积多层膜龟裂的临界层应力的调控方法，综合采用电子束沉积技术和离子束辅助沉积技术，采用离子束辅助沉积技术沉积应力临界层，采用电子束沉积技术沉积应力临界层之外的其他膜层。本发明能够解决电子束沉积较厚膜层时，因...
- 朱美萍曾婷婷易葵柴英杰许诺孙建王建国邵建达
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- 解决电子束沉积多层膜龟裂的临界层应力的调控方法
- 一种解决电子束沉积多层膜龟裂的临界层应力的调控方法，综合采用电子束沉积技术和离子束辅助沉积技术，采用离子束辅助沉积技术沉积应力临界层，采用电子束沉积技术沉积应力临界层之外的其他膜层。本发明能够解决电子束沉积较厚膜层时，因...
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- 提高氧化铪膜层折射率的方法
- 一种提高氧化铪膜层折射率的方法，使用电子束蒸发镀制HfO<Sub>2</Sub>膜层，其特征在于：该方法是在蒸发第一蒸发源的HfO<Sub>2</Sub>膜料的同时，蒸发第二蒸发源的SiO<Sub>2</Sub>膜料，H...
- 朱美萍邢焕彬柴英杰孙建易葵邵建达
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- 等离子体烧蚀引起光束调制的功率谱密度计算被引量：1
- 2015年
- 采用电子束蒸发制备了1064 nm高反膜样品,并通过激光预处理系统对样品表面的部分区域进行了光栅式扫描,形成等离子体烧蚀区域。搭建了光束质量测试系统,记录在样品表面有无等离子体烧蚀两种情况下的反射光束的空间强度分布。采用经典周期图法,分别计算了各自的强度分布的功率谱密度。结果表明,等离子体烧蚀导致的传输光束峰值强度对应于功率谱密度曲线中心峰值强度,而周期性起伏则体现在相应频率下的峰值。因此功率谱密度曲线可以作为表征光学元件对传输光束调制的手段。
- 郭猛李大伟吴建波王虎何骏王岳亮柴英杰符燕燕
- 关键词：表面光学激光预处理功率谱密度
- 缝合基板凹陷结构缺陷获得高损伤阈值高反膜的方法
- 一种缝合基板凹陷结构缺陷获得高损伤阈值高反膜的方法，通过引入缝合层来降低基板微米级坑点/划痕导致的多层膜膜层形变，从而使高反膜横向力学均匀性提高，不易断裂，有效提高其抗损伤性能。其中缝合层采用等离子体辅助电子束蒸发方式来...
- 邵建达柴英杰朱美萍邢焕彬易葵
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- 缝合基板凹陷结构缺陷获得高损伤阈值高反膜的方法
- 一种缝合基板凹陷结构缺陷获得高损伤阈值高反膜的方法，通过引入缝合层来降低基板微米级坑点/划痕导致的多层膜膜层形变，从而使高反膜横向力学均匀性提高，不易断裂，有效提高其抗损伤性能。其中缝合层采用等离子体辅助电子束蒸发方式来...
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- 镀膜元件低频面形参数的有限元模拟及分析方法
- 2016年
- 利用有限元法对基片镀膜引起的变形量进行了模拟,通过数据转换将模拟结果输入Metropro 8.3.5面形处理软件,得到了低频面形参数变化量。对比模拟结果与实测结果,发现两者非常接近。利用该方法实现了形状复杂、口径较大镀膜基片面形参数变化量指标的预估,使得镀膜元件面形主动量化控制成为可能。
- 邵淑英柴英杰王虎王虎易葵
- 关键词：有限元模拟
- 关于双源共蒸法制备HfO2-SiO2混合物单层膜的研究
- 本文采用双源共蒸的方法制备了不同混合比例的HfO2-SiO2单层膜.镀膜过程中基底烘烤温度为200℃.本底真空度和氧分压分别为9× 10-6 mbar和2×10-4 mbar.制备的两种起始材料分别是...
- 邢焕彬朱美萍柴英杰孙建涂飞飞易葵邵建达
- 提升激光损伤阈值的基片处理方法
- 采用热处理和超声清洗相结合的技术，提出一种提升基片表面及透射类薄膜元件激光损伤阈值的基片处理方法。利用热处理技术将基片亚表面的杂质颗粒析出至基片表面，然后通过超声清洗技术去除析出至基片表面的杂质颗粒。本发明能够在去除(亚...
- 朱美萍曾婷婷邵建达柴英杰许诺尹超奕易葵
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- 基于有限元模拟的大口径光学镀膜元件低频面形参数预测方法
- 一种基于有限元模拟的大口径光学镀膜元件低频面形参数预测方法，根据弹性力学基本方程，结合相同镀膜条件下小口径元件的受力情况，对镀膜后大口径镀膜元件的变形情况进行了预测。基于商用软件COMSOL对变形情况的模拟，将变形数据导...
- 邵淑英王虎郭猛柴英杰
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