高倩倩
- 作品数：2 被引量：4H指数：1
- 供职机构：西北工业大学材料学院凝固技术国家重点实验室更多>>
- 发文基金：西北工业大学基础研究基金国家自然科学基金中国航空科学基金更多>>
- 相关领域：理学更多>>
- 退火时间对Cu-Al-O薄膜性能影响的研究被引量：1
- 2013年
- 通过制备Cu-Al-O薄膜并对其进行退火处理,研究了退火时间对薄膜形貌、结构以及紫外-可见透过率、带隙、中红外透过率的影响。研究结果表明:随着退火时间的增加,薄膜开始晶化,5.0 h时薄膜中出现裂纹,同时出现AlCu合金相;紫外-可见透过率随退火时间的增加而降低;中红外透过率随退火时间的增加先增加后降低;Cu-Al-O薄膜的直接带隙随退火时间的增加而降低。
- 高倩倩刘正堂冯丽萍田浩
- 关键词：退火时间透过率
- 退火对磁控溅射HfSi_xO_y薄膜光学性质的影响被引量：3
- 2012年
- 采用射频反应磁控溅射方法在硅衬底制备了HfSixOy薄膜,用X射线光电子能谱(XPS)分析了HfSixOy薄膜的成分,用X射线衍射(XRD)检测了薄膜的结构,并用椭圆偏振光谱仪研究了退火处理对薄膜光学性质的影响。XRD谱显示,HfSixOy薄膜经700℃高温退火处理后仍为非晶态,而在900℃高温退火处理后出现晶化。采用Tauc-Lorentz(TL)色散模型对测试得到的曲线进行拟合并分析得出薄膜的光学常数,结果表明,薄膜的折射率随退火温度的升高而增加,而消光系数随退火温度的升高呈降低趋势。薄膜的光学带隙随着退火温度的升高增加,采用外推法得到薄膜沉积态和经500℃,700℃,900℃退火后的带隙分别为5.62,5.65,5.68,5.98eV。
- 田浩刘正堂冯丽萍高倩倩刘文婷
- 关键词：光学特性退火射频反应磁控溅射
