朱爱春
- 作品数：2 被引量：5H指数：1
- 供职机构：江苏大学机械工程学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：金属学及工艺更多>>
- 直流磁控溅射铝纳米颗粒膜的微结构及电学特性被引量：4
- 2015年
- 采用直流磁控溅射法,以高纯铝(99.99%)为靶材,高纯氩气(99.999%)为起辉气体,在经机械抛光的单晶Si衬底上制备铝纳米颗粒薄膜。利用X射线衍射仪(XRD)、光学薄膜测厚仪、扫描电子显微镜(SEM)和四探针测试仪分别测试了铝纳米颗粒薄膜的晶相结构、薄膜厚度、表面形貌及电阻率。XRD衍射图谱表明此薄膜为面心立方的多晶结构,择优取向为Al(111)晶面。随溅射功率由30 W增至300 W,铝纳米颗粒薄膜的沉积速率由3.03 nm/min增加至20.03 nm/min;而随溅射压强由1 Pa增加至3 Pa,沉积速率由2.95 nm/min降低到1.66 nm/min。在溅射功率为150 W,溅射压强为1.0 Pa条件下制备的样品具有良好的晶粒分布。随溅射功率从80 W增大到160 W,样品电阻率由4.0×10-7Ω·m逐渐减小到1.9×10-7Ω·m;而随溅射压强从1 Pa增至3 Pa,样品电阻率由1.9×10-7Ω·m增加到7.1×10-7Ω·m。
- 花银群朱爱春陈瑞芳郭立强
- 关键词：直流磁控溅射沉积速率微结构
- 退火温度对磁控溅射Mo薄膜结构和性能的影响被引量：1
- 2013年
- 采用磁控溅射技术在石英基体上制备了厚度为600 nm的Mo薄膜,并在不同温度下(400～900℃)对其进行退火处理。通过XRD、SEM、四探针测试仪对Mo薄膜的结构和性能进行了分析。结果表明,随着退火温度的升高,(110)晶面择优取向特性增强。Mo薄膜在退火温度为800℃时电阻率达到最小值3.56×10-5Ω.cm,在900℃退火时薄膜出现宽度约为50 nm的微裂纹且薄膜电阻率较大。
- 邢明立花银群陈瑞芳胡光孙伟朱爱春
- 关键词：MO薄膜磁控溅射退火温度微观结构电学性能
