张运英
- 作品数：2 被引量：0H指数：0
- 供职机构：陕西师范大学物理学与信息技术学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金中央高校基本科研业务费专项资金更多>>
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- 磁控溅射参数对SrTiO_3基片上沉积YIG薄膜微观结构和磁性能的影响
- 2017年
- 采用射频磁控溅射法在SrTiO_3衬底上制备YIG薄膜,基于薄膜的成核理论研究溅射参数对薄膜结晶性、表面形貌和磁性的影响。结果表明,在其他溅射参数不变的情况下,薄膜的厚度随溅射时间成正比增长;在衬底温度为500℃、溅射气压为1Pa时,YIG薄膜表面较致密,晶粒大小均匀;沉积薄膜的化学组分受氧分压的影响较大,与靶材成分相比有一定偏差。溅射气体为纯氩气时,YIG薄膜的化学组分与靶材化学计量比接近,制备的YIG薄膜中存在一定量的Fe2+和氧空位;当退火温度为750℃时,在氧气中热处理40 min,形成纯的YIG相,饱和磁化强度为134emu/cm3。
- 张运英杨佳边小兵陈晓明周剑平
- 关键词：射频磁控溅射溅射参数表面形貌微观结构磁性能
- 磁控溅射参数对钛酸锶钡薄膜生长及介电性能的影响
- 2016年
- 使用射频磁控溅射系统在Pt/SiO_2/Si基片上沉积了Ba_(0.6)Sr_(0.4)TiO_3(BST)薄膜,研究了溅射过程中氧氩比与溅射总气压对BST薄膜生长过程及介电性能的影响。通过XRD衍射仪、原子力显微镜等对在不同条件下制备出的薄膜样品进行了性能测试和分析。结果表明:增加氧氩比能够增加薄膜表面晶粒尺寸,提升薄膜的结晶度,增加薄膜的介电常数并降低介电损耗,但同时也会降低薄膜的沉积速率;增加溅射气压会导致薄膜表面晶粒尺寸减小、结晶度降低,薄膜的沉积速率随着溅射气压的增加呈现先增加后降低(溅射气压大于2Pa时)的趋势。
- 杨佳张运英谢晓康边小兵周剑平
- 关键词：射频磁控溅射钛酸锶钡薄膜表面形貌沉积速率
