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张夜雨

作品数：3 被引量：1H指数：1
供职机构：东南大学更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇专利
  • 1篇学位论文

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 3篇掺杂
  • 2篇修饰
  • 2篇溅射
  • 2篇溅射法
  • 2篇溅射气压
  • 2篇掺杂量
  • 2篇衬底
  • 2篇衬底材料
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 2篇磁控溅射法
  • 1篇氮掺杂
  • 1篇性能研究
  • 1篇氧化钛薄膜
  • 1篇溅射功率
  • 1篇光催化
  • 1篇光催化氧化
  • 1篇二氧化钛薄膜
  • 1篇催化
  • 1篇催化氧化

机构

  • 3篇东南大学

作者

  • 3篇张夜雨
  • 2篇周雪峰
  • 2篇张旭海
  • 2篇蒋建清
  • 2篇方峰
  • 2篇陈海洋

年份

  • 1篇2018
  • 2篇2016
共 3 条 记 录，以下是 1-3
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排序方式：
一种铜修饰氮掺杂二氧化钛薄膜的制备方法
本发明公开了一种铜修饰氮掺杂二氧化钛薄膜的制备方法，步骤为：第一步，磁控预溅射：采用磁控溅射法和双靶共溅射工艺，Ar气真空环境下，在洁净的衬底材料上，采用Ti和Cu靶进行预溅射；Cu靶与Ti靶的角度为60°～90°；第二...
方峰张夜雨陈海洋张旭海周雪峰蒋建清
文献传递
金属修饰氮掺杂二氧化钛薄膜的制备与光催化氧化性能研究
二氧化钛是目前研究最广泛的半导体光催化材料之一，具有催化活性高、价廉、耐腐蚀性强等特点，已被广泛应用于光解水制氢、抗菌除臭、废气净化、降解有机物、自清洁等方面。但由于其禁带宽度较宽，量子效率也较低，限制了二氧化钛的大面积...
张夜雨
关键词：二氧化钛薄膜氮掺杂
一种铜修饰氮掺杂二氧化钛薄膜的制备方法
本发明公开了一种铜修饰氮掺杂二氧化钛薄膜的制备方法，步骤为：第一步，磁控预溅射：采用磁控溅射法和双靶共溅射工艺，Ar气真空环境下，在洁净的衬底材料上，采用Ti和Cu靶进行预溅射；Cu靶与Ti靶的角度为60°～90°；第二...
方峰张夜雨陈海洋张旭海周雪峰蒋建清
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