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邱勤

作品数：1 被引量：3H指数：1
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇抛光
  • 1篇抛光液
  • 1篇化学机械抛光
  • 1篇机械抛光
  • 1篇ULSI
  • 1篇铜

机构

  • 1篇中国电子科技...

作者

  • 1篇王学军
  • 1篇周国安
  • 1篇柳滨
  • 1篇邱勤

传媒

  • 1篇电子工业专用...

年份

  • 1篇2008
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
ULSI制造中铜CMP抛光液研究被引量：3
2008年
ULSI制造中的层间介质化学机械抛光的发展趋势和要求进行了讨论,分析了铜化学机械抛光的材料去除过程,讨论了酸性和碱性两种铜抛光液的组成和一些组分的功能,指出了今后抛光液的研究发展方向。
周国安王学军柳滨邱勤
关键词：化学机械抛光抛光液铜
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