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盛蕾

作品数：2 被引量：1H指数：1
供职机构：西安工业大学光电工程学院更多>>
发文基金：陕西省科学技术研究发展计划项目国家自然科学基金陕西省教育厅科研计划项目更多>>
相关领域：理学机械工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 1篇机械工程
  • 1篇理学

主题

  • 1篇膜厚
  • 1篇颗粒膜
  • 1篇发射率
  • 1篇薄膜厚度
  • 1篇RATE
  • 1篇TI
  • 1篇碳
  • 1篇钛
  • 1篇ELECTR...
  • 1篇FILMS
  • 1篇EMISSI...
  • 1篇GRANUL...

机构

  • 2篇西安工业大学

作者

  • 2篇蔡长龙
  • 2篇梁海锋
  • 2篇盛蕾

传媒

  • 1篇强激光与粒子...
  • 1篇第四届全国信...

年份

  • 1篇2013
  • 1篇2012
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
颗粒膜厚度对表面传导电子发射的影响
影响表面传导电子发射的因素众多,其中阴极电子发射薄膜厚度对表面传导电子发射有着至关重要的影响。本文分别制备不同厚度下的CTi颗粒膜用作表面传导电子发射的阴极发射薄膜,研究不同厚度对电子发射特性的影响。对器件进行电形成,...
盛蕾梁海锋蔡长龙
关键词：GRANULARFILMSELECTRONEMISSIONEMISSIONRATE
颗粒膜厚度对表面传导电子发射的影响被引量：1
2013年
制备了不同厚度下的C-Ti颗粒膜用作表面传导电子发射的阴极发射薄膜,研究了不同颗粒膜厚度对电子发射特性的影响。将所制备阴极器件加载不同电压幅值下的等幅三角波,对器件进行电形成,结果表明:颗粒膜厚度为69nm的器件开启电压为32V,在33V时具有最大发射效率;颗粒膜厚度为855nm的器件开启电压为15V,在23V时发射效率最高;颗粒膜厚度为69nm的器件所形成的电压范围和电子发射效率都明显高于颗粒膜厚度为855nm的器件。
盛蕾梁海锋蔡长龙
关键词：薄膜厚度
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