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李洪宾

作品数：2 被引量：14H指数：2
供职机构：北京有色金属研究总院更多>>
发文基金：北京市科技计划项目更多>>
相关领域：一般工业技术金属学及工艺更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇一般工业技术
  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 2篇微观结构
  • 2篇溅射
  • 1篇晶粒
  • 1篇晶粒取向
  • 1篇溅射靶材
  • 1篇溅射沉积
  • 1篇靶材
  • 1篇EBSD
  • 1篇沉积速率

机构

  • 2篇北京有色金属...
  • 1篇北京工业大学
  • 1篇中南大学

作者

  • 2篇江轩
  • 2篇李洪宾
  • 1篇段丹青
  • 1篇王欣平
  • 1篇刘丹敏
  • 1篇张皓琨

传媒

  • 1篇稀有金属
  • 1篇电子显微学报

年份

  • 1篇2009
  • 1篇2008
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
采用EBSD方法研究高纯Al溅射靶材的微观结构被引量：6
2008年
高纯Al溅射靶材在电子信息产品制造业有着广泛应用。微观结构与组织的均匀性、晶粒尺寸和取向分布对高纯Al溅射靶材的性能有很大的影响。本文采用EBSD技术对高纯Al溅射靶材的晶粒取向分布进行了分析,探索了晶粒取向与溅射速率关系,并采用EBSD大面积扫描对高纯Al溅射靶材的晶粒尺寸及微观结构与组织均匀性进行了研究。
张皓琨刘丹敏李洪宾段丹青江轩
关键词：靶材晶粒取向EBSD
铝铜合金靶材的微观结构对溅射沉积性能的影响被引量：9
2009年
磁控溅射中高沉积速率有利于获得高纯度薄膜,节省镀膜时间;高沉积效率的靶材可制备出更多数目的晶圆。通过建立平面靶的溅射模型研究了Al-Cu合金靶的晶粒取向和晶粒尺寸对溅射速率、沉积速率和沉积效率的影响。实验结果显示,溅射速率与靶材的原子密排度成正比关系,靶材的原子密排度受晶粒取向和晶粒尺寸的影响,有特定的变化范围,因此溅射速率也只在一个范围内变化。沉积速率和沉积效率受靶材表面空间内原子密排方向分布的影响,原子密排方向分布则由靶材的晶粒取向和晶粒尺寸决定。
李洪宾江轩王欣平
关键词：微观结构沉积速率
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